「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

It is preferable that a light projector 10 projecting a group of slit lights combined in a lattice type and a stereo type image sensing devices 12R, 12L measuring three- dimensional coordinates of each cross point of a lattice pattern formed by the projection of the group of the slit lights are contained in the measuring apparatus 5, and the three-dimensional coordinates are measured by a stereo image sensing method.例文帳に追加

好ましくは計測装置５に、格子状に組み合わせたスリット光の群を投光する投光器10と、スリット光の群の投影により形成された格子模様の各交点の三次元座標を計測するステレオ式撮像装置12R、12Fを含め、ステレオ画像法により三次元座標を計測する。 - 特許庁

The adhesive sheet 10 for pattern transfer includes a substrate 11 and an adhesive layer 12 laminated on one surface side of the substrate, in which the substrate has a peeling processing layer 11a composed of a projection section having a height of 5-200 μm and a width of 10-1,000 μm on the other surface side.例文帳に追加

基材１１と、該基材の一面側に積層された粘着剤層１２とを備えたパターン転写用粘着シート１０であって、前記基材は、他面側表面に高さ５〜２００μｍ及び幅１０〜１０００μｍの凸部による剥離処理層１１ａを有することを特徴とするパターン転写用粘着シート。 - 特許庁

To constrain deformation of housing frame, equipped with projection for positioning and fixing a circuit board or a circuit board base, even for a wide range of temperature changes inside an engine room, and to reduce the stress influence due to a flow rate measuring element, having a pattern of heating resistor installed on the circuit board.例文帳に追加

本発明の目的は、エンジンルーム内における広範囲な温度変化においても、回路基板を位置決め固定するための突起を備えたハウジング枠体あるいは回路基板支持体の変形を抑制し、回路基板に設けられた発熱抵抗体のパターンを有する流量計測素子への応力影響を低減することである。 - 特許庁

When a first semiconductor light-emitting element 4a of a first light source unit 3 is lit, the emission light is reflected toward a projection lens 2 side by a first reflector 5, then a part of the reflected light is blocked by a shade 6, and a low-beam light distribution pattern PL is formed having a cut-off line CL at an upper end edge.例文帳に追加

第１光源ユニット３の第１半導体発光素子４ａを点灯すると、その出射光は第１リフレクタ５により投影レンズ２側に向けて反射され、その反射光の一部がシェード６により遮断されて、上端縁にカットオフラインＣＬを有するロービーム配光パターンＰＬが形成される。 - 特許庁

A paint having such a level of low viscosity and low content of pigment that the paints just after coating easily flows along coated surface is blown against the surface of building material having the rugged pattern, the paint is allowed to flow into the recessed part before curing of the paint and, thereby, color of the recessed part is made deeper than that of the apex of the projection part.例文帳に追加

塗布直後の塗料が塗布面に沿って容易に流れる程度の低粘度、低顔料成分の塗料を、凹凸模様を有する建材表面に吹き付け、塗料の硬化前に前記塗料を凹部に流下させることにより凹部の色彩を凸部頂部より濃くするように塗装することを特徴とするものである。 - 特許庁

To select and determine the best measurement result, this device 1 includes two stripe pattern projection sections 2a, 2b for projecting stripe patterns to a measurement region 10 of an object to be measured, an imaging section 3, and a three-dimensional measurement processing section 4 for finding a three-dimensional shape of the measurement region 10 based on data from the imaging section 3.例文帳に追加

本装置１は、最良の計測結果を選択して決定するため、被計測物体の計測領域１０に縞パターンを投影する２つの縞パターン投影部２ａ，２ｂと、撮像部３と、撮像部３からのデータを基に計測領域１０の３次元形状を求める３次元計測処理部４とを備える。 - 特許庁

On a flexible substrate 30 having a wiring pattern 21, a block 40 positioning optical fibers 2a and 2b at positioning grooves (first positioning parts) 41a and 41b and having a projection 42 (second positioning part) for positioning an optical component 50 for aligning the optical fibers 2a and 2b and a light emitting element, and the optical component 50 having an optical semiconductor element are mounted.例文帳に追加

配線パターン２１を有するフレキシブル基板２０には、光ファイバ２ａ，２ｂを位置決め溝（第１の位置決め部）４１ａ，４１ｂに位置決めし、光ファイバ２ａ，２ｂと発光素子との調芯のために光部品５０を位置決めする突起４２（第２の位置決め部）を有するブロック４０、及び光半導体素子を有する光部品５０が実装されている。 - 特許庁

In an immersion exposure apparatus which exposes the substrate 5 by projecting a pattern of an precursor 2 on the substrate 5 through a projection optical system 4 and a liquid 17, a stage 6 which holds the substrate 5 includes: a first liquid holding part 8 disposed surrounding the substrate 5; and a second liquid holding part 23 disposed between the substrate and first liquid holding part.例文帳に追加

原版２のパターンを投影光学系４および液体１７を介して基板５に投影し該基板を露光する液浸露光装置は、基板５を保持するステージ６が、該基板５を取り囲むように配置される第１液体保持部８と、該基板と前記第１液体保持部との間に配置される第２液体保持部２３とを含む。 - 特許庁

The lithography apparatus includes a substrate table constructed, configured, and arranged so as to hold a plurality of substrates at each of a plurality of positions, where exposures can be made on the substrate, and a projection system constructed, configured, and arranged so as to project pattern-formed radiation beams onto the target portions of the plurality of substrates at positions where exposures can be made.例文帳に追加

本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 - 特許庁

The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

A lithographic apparatus is provided which has an array of individually controllable elements to modulate a cross-section of a radiation beam, a substrate table to support a substrate, a projection system to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate to apply a pattern, and a position encoder having a position sensor and a scale to determine a position of the substrate table.例文帳に追加

放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

The vehicle headlamp 1 forms a desired low-beam light distribution pattern by a condensing lamp unit 20 and a diffusion lamp unit 30 which have respectively semiconductor light-emitting elements 22, 32 with rectangular light-emitting faces 22a, 32a and projection lenses 21, 31 for projecting light emitted from the semiconductor light-emitting elements 22, 32 to the front of the lamp.例文帳に追加

車両用前照灯１は、長方形の発光面２２ａ，３２ａを有する半導体発光素子２２，３２と、半導体発光素子２２，３２からの出射光を灯具前方へ投影する投影レンズ２１，３１とをそれぞれ備えた集光用灯具ユニット２０及び拡散用灯具ユニット３０によって所望のすれ違い用配光パターンを形成する。 - 特許庁

On the upper surface part of a first piezoelectric layer 21, a substantially rhombic drive electrode 20A slightly smaller than and similar to the projection of an ink pressure chamber 19A is formed at a position corresponding to each ink pressure chamber 19A, and an arrow type land pattern 20B is formed continuously from the acute angle part of the drive electrode 20A.例文帳に追加

第１圧電層２１の上面部には、各インク圧力室１９Ａに対応する位置に該インク圧力室１９Ａの投影形状よりも少し小さいほぼ相似形の略菱形の駆動電極２０Ａと、該駆動電極２０Ａの鋭角部から連続して形成される矢印形状のランドパターン２０Ｂが形成されている。 - 特許庁

A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object surface onto an image surface thereof has an object-side imaging subsystem for creating a final intermediate image closest to the image surface from radiation coming from the object surface and an image-side imaging subsystem for directly imaging the final intermediate image into the image surface.例文帳に追加

物体面上に設けられたパターンを像面上に結像するための反射屈折投影対物レンズは、物体面から到来する放射光から像面に最も近い最終中間像を生じるための物体側結像光学系部分と、最終中間像を像面上に直接的に結像するための像側結像光学系部分とを有する。 - 特許庁

The apparatus comprises a projection optical system PL for projecting a transfer pattern image of a reticle R on a wafer W, an alignment system 22 for measuring the position of either the reticle R or the wafer W to relatively align the reticle R with the wafer W, and an instrument 31 for measuring the wave front aberration of the alignment system 22.例文帳に追加

レチクルＲに形成された転写パターン像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、レチクルＲとウエハＷとの相対的な位置合わせを行うためにレチクルＲとウエハＷとの少なくとも一方の位置を計測するアライメント系２２と、アライメント系２２の波面収差を計測する波面収差計測装置３１とを備える。 - 特許庁

To achieve the recognition of the symbol, the distance is computed from the phase difference between the reference projection signal emitted to the detection member and the received signal reflected from the detection member and the symbol number previously defined corresponding to the loaded distance data undergoes indexing (distance-symbol conversion TBL) to extract the valid pattern.例文帳に追加

また、図柄認識は、検出部材に対して出射される基準投光信号と検出部材から反射される受光信号との位相差により距離を演算し、取り込まれた距離データに対応してあらかじめ定義された図柄番号を索引（距離−図柄変換ＴＢＬ）して有効絵柄を抽出することにより行われる。 - 特許庁

The light pattern projected by the projection means 11 is divided into a plurality of stripe-like regions, to be projected onto the surface of the object, in such an order as to be specified to satisfy the condition where all the intensity levels selected, respectively in the whole region appear once in each thereof, and the condition where the changing order of the intensity levels is different for every region.例文帳に追加

投影手段１１が投影する光パターンは、複数の縞状の領域に分割され、全領域においてそれぞれ選択されるすべての強度レベルが１回ずつ出現するという条件と、各領域ごとに強度レベルの変化順序が異なるという条件とを満たすように規定した順序で対象物の表面に投影される。 - 特許庁

The semiconductor element mounting substrate 1 is constituted by bonding a flexible wiring board 2 where the wiring pattern 2a is formed and a semiconductor element 3 having a projection electrode 3a with an adhesion layer 4 interposed, wherein the flexible wiring board 2 has a bent portion 5 by the semiconductor element 3, and the bent portion 5 houses part of the adhesion layer 4.例文帳に追加

配線パターン２ａが形成された可撓性配線基板２と、突起電極３ａを備える半導体素子３とが接着層４を介して接合された半導体素子実装基板１であって、可撓性配線基板２は、半導体素子３の側方に屈曲部５を有し、当該屈曲部５は接着層４の一部を収容することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a device which is a bean jam machine which includes a projection part of a nozzle for continuously performing automatic shaping of flexible food materials such as candy, ice cream, and cheese into patterns such as animals, trees, leaves and stars, and has a nozzle and a cutter which makes a pattern in which first and second food materials lie adjacent to, each other, with a mold and a cutter.例文帳に追加

菓子、アイスクリーム、チーズなどの可塑性食品原料を花、動物．木．葉、星などの模様に．自動成形を連続的に製作することで、ノズルの突出口部を備えた製餡機で、第１，第２の食品材料を隣接して備えた模様を金型と切断機を構成とすることのできるノズルとカッターの装置を提供する。 - 特許庁

Cream solder 20 is applied onto the mounting surface of the circuit board 12 in the manufacturing stage so as to solder the projection 14d in the reception portion 16, but an opening 26a is bored in the solder resist 26 in a coating area 18b thereof and a conductive pattern is expanded inside the mounting surface from the vicinity of the reception portion 16 within a range thereof.例文帳に追加

突出部１４ｄを受入部１６内で半田付けするため、その製造過程で回路基板１２の実装面上にクリーム半田２０が塗布されるが、その塗布領域１８ｂでは半田レジスト２６に開口部２６ａが設けられており、その範囲内で受入部１６の近傍から実装面の内側に拡張されている。 - 特許庁

To provide an inexpensive aligner capable of transferring a fine pattern en bloc with high precision at a low cost, using an electron gun capable of irradiating charge particles of a large area to transfer over the entire chip area en bloc, without horizontally scanning or deflecting an electron beam and without using a complicated deflector or scale reducing projection mechanism.例文帳に追加

転写されるチップ面積全体を一括転写が行える大面積の荷電粒子を照射できる電子銃を用いて、電子ビームの水平方向の走査や、偏向は行わない、複雑な偏向器や、縮小投影用機構を用いない高精度で微細なパターンを一括転写できる高精度で低価格な露光装置を提供する。 - 特許庁

In the charged particle beam exposure system comprising a charged particle beam source, an illumination optical system for irradiating a reticle with a charged particle beam from the charged particle beam source and a projection optical system for projecting a focused image of pattern formed to the reticle on a sensitive substrate, and a reticle-cleaning mechanism is further included for cleaning the reticle.例文帳に追加

荷電粒子線源と、前記荷電粒子線源からの荷電粒子線をレチクルに照射する照明光学系と、前記レチクルに形成されたパターンを感応基板上に投影結像する投影光学系とを有する荷電粒子線露光装置において、 前記レチクルを洗浄するレチクル洗浄機構をさらに有するようにした。 - 特許庁

When a plurality of unit substrates 19, 19a, 19b, 19c of a similar constitution are laminated and compressed via insulation adhesive layers 20, 20a, 20b, the projection part passes through an insulation adhesive layer and is electrically connected to a wiring pattern or conductive substance of an adjacent unit substrate, and a multilayer printed wiring substrate can be manufactured by a simple compression operation.例文帳に追加

類似する構成の複数のユニット基板19、19ａ、19ｂ、19ｃを絶縁接着剤層20、20ａ、20ｂを介して積層し圧着すると、前記突出部が絶縁接着剤層を貫通して隣接するユニット基板の配線パターン又は導電性物質に電気的に接続され、単一の圧着操作で多層プリント配線板が製造できる。 - 特許庁

The aligner comprises a projection optical system having a plurality of reflectors (M1-M6) performing exposure and transfer of a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate using extreme ultravoilet light wherein at least one of the plurality of reflectors is held in a state insulated from the outside.例文帳に追加

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。 - 特許庁

To form a design structure simply and design in a variety of pattern even when a bulky projection in retrograde gradient is to be formed on the wall surface, by preparing decorative block members which are molded apart from a wall surface, and mounting these decorative block members posteriorly on the wall surface.例文帳に追加

壁面とは別体で成型した化粧ブロック部材を用意し、この化粧ブロック部材を後付けにより壁面に取り付けることで、壁面に嵩高の凸部を逆勾配で形成するような場合でも、これを簡単に形成することができ、又、種々のパターンでデザインを施すことができるようにした擁壁用ブロックのデザイン技術の提供。 - 特許庁

The method of manufacturing a structure comprises: a stage where a first catalyst 31 is formed on a substrate 10; a stage where the projection pattern of second catalysts 32 is formed on the first catalyst 31 by printing; and a stage where an electroless plating film 40 is formed on the first catalyst 31 and the second catalysts 32.例文帳に追加

本発明は、基板１０上に第１の触媒３１を形成する工程と、第１の触媒３１上に第２の触媒３２の凸パターンを印刷によって形成する工程と、第１の触媒３１および第２の触媒３２上に無電解めっき膜４０を形成する工程とを有する構造体の製造方法である。 - 特許庁

In the exposure device equipped with a projection optical system having a plurality of reflectors for exposure transferring a pattern formed on a mask to a photosensitive substrate by using extreme UV-light, at least one of the plurality of reflectors is provided with an apparatus 111 for monitoring the reflectivity of exposure light.例文帳に追加

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つに露光光の反射率を監視する機器１１１を備えたことを特徴とする露光装置である。 - 特許庁

A liquid crystal blind 17 that a reduced projection exposure apparatus has is driven by a liquid crystal driving method to variably set an irradiation pattern of the irradiation light, and forms an optical opening section capable of controlling transmission and blocking of light by liquid crystal cell by application of a voltage to an electrode corresponding to the liquid crystal cell, so that the shape of an irradiation area can be optionally set.例文帳に追加

この縮小投影露光装置に備えられた液晶ブラインド１７は、液晶駆動方式で駆動されて照射光の照射パターンを可変設定し、各液晶セルに対応した電極への電圧印加で各液晶セル毎に光の透過、遮断を制御できる光学的開口部を成すため、照射領域の形状を任意に設定できる。 - 特許庁

In a projector 10, a light source 30 generating a projection light for projecting a striped pattern to the object is provided and a light beam deflection part 4, splitting the light from the light source 30 into a plurality of slit-shape light beams L1 to L4 by deflecting the light direction from the light source 30 corresponding to the radiation angle from the light source 30, is provided.例文帳に追加

投影装置１０には、対象物に縞状パターンを投影するための投影光を発生させる光源３０が設けられるとともに、その光源３０からの放射角度に対応して光源３０からの光の進行方向を偏向することにより、光源３０からの光を複数のスリット状の光束Ｌ１〜Ｌ４に分割する光線偏向部４が設けられる。 - 特許庁

This correction information calculating device is equipped with a calculation part calculating correction information by comparing positions of a plurality of feature points in an imaged pattern obtained by imaging first and second measuring patterns D11, D12 projected on a projection object surface by first and second projectors with positions of a plurality of feature points on the original data of the first and second measuring patterns D11, D12.例文帳に追加

第１及び第２のプロジェクターにより被投写面上に投写された第１及び第２の測定用パターンＤ１１、Ｄ１２を撮影した撮影パターンに占める複数の前記特徴点の位置と、第１及び第２の測定用パターンＤ１１、Ｄ１２の元データ上の複数の特徴点の位置とを比較して、補正情報を算出する算出部とを備える。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁

In the method, vibration-related information is determined by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, by mapping the intensity of the aerial image into an image map wherein the image map includes values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at the respective sampling locations, and by measuring the intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

So that a planner can properly promote a town preparation projection, etc., this simulation system supports a judgment stage through which the planner can find out important lead factors from various viewpoints and analyze their mutual relation to plan strategic measures while the judging speed of the planner is increased by the pattern recognition of the whole structure of the project and a combination of symbolized symbols.例文帳に追加

計画者がまちづくり事業等を適正に推進するため、様々な視点から重要なリ−ド要因を見出し、その相互関係が分析でき、事業の全体構造についてのパタ−ン認識や象徴化されたシンボルの組み合わせによって計画者の判断速度を上げ、戦略的な対策を立案するための判断過程を支援するシミュレ—ションシステム。 - 特許庁

As for the reflective projection optical system for projecting a reduced size of a pattern on an object surface onto an image plane, the 3rd mirror and the 4th mirror from the image plane along the optical path are located between the 1st mirror from the image plane along the optical path and the 2nd mirror from the image plane along the optical path.例文帳に追加

物体面上のパターンを像面上に縮小投影する反射型投影光学系であって、前記像面から光路を辿って３番目のミラー及び前記像面から光路を辿って４番目のミラーが、前記像面から光路を辿って最初のミラーと前記像面から光路を辿って２番目のミラーの間に配置されたことを特徴とする反射型投影光学系を提供する。 - 特許庁

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

This strain sensor is manufactured by a patterning process for forming a pattern having a beltlike aperture surrounding a predetermined point in one surface of the substrate, and a process for etching the substrate along the beltlike aperture by a predetermined amount after this patterning process, and integrally forming the diaphragm copying the outline of the beltlike aperture and the needlelike projection supported at the center of the diaphragm on the substrate.例文帳に追加

この歪センサは、基板の一面に、所定の点を取り囲む帯状の窓を設けたパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程の後に帯状窓に沿って基板を所定量エッチングし、基板に帯状の窓の外形に倣ったダイアフラムとダイアフラムの中央に支持された針状突起とを一体に形成する工程によって製造される。 - 特許庁

The invention relates to a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, wherein the image map comprises values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

The projection aligner for projecting an energy ray 3 to bake a pattern is equipped with a pin hole 5 provided at one portion on the surface of an exposure stage 4 where the energy ray 3 is projected, a phosphor for converting the energy ray 3' passing through the pin hole 5 to a fluorescent ray 8 of a long wavelength, and a detector 9 for measuring the converted fluorescent ray 8.例文帳に追加

エネルギー線３を投影してパターンを焼きつける為の投影露光装置に於て、エネルギー線３が投影される露光ステージ４の表面の一部に設けられたピンホール５と、該ピンホール５を通して通過したエネルギー線３’を長波長の蛍光光線８に変換する蛍光体６と、変換された蛍光光線８を測光する検知器９を具備する投影露光装置。 - 特許庁

The manufacturing method for the electrolyte film for the fuel cell is provided, wherein a mold having a recessed part of a prescribed flat pattern is pressed to the one face or the both faces of the polyelectrolyte film, then, the mold is separated from the polyelectrolyte film while extending a projection formed inside the recessed part to form the fine protrusion group.例文帳に追加

又、本発明は、高分子電解質膜の片面又は両面に、所定の平面パターンの凹部を有する成形型を押圧し、次いで前記凹部内に形成された前記高分子電解質膜の凸部を引き伸ばしながら前記成形型を前記高分子電解質膜から引き剥がし、微小突起群を形成することを特徴とする燃料電池用電解質膜の製造方法にある。 - 特許庁

The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁

This aligner has a light source 1, an illumination optical system 6 for illuminating a pattern drawn on a mask 5 by a light source light, and a projection optical system 11 for projecting the illuminated pattern to a substrate 13.例文帳に追加

光源１と、マスク５に描かれたパターンを光源光で照明する照明光学系６と、照明されたパターンを基板１３に投影する投影光学系１１を有する露光装置であって、光源１から基板１３までの全体または一部を外気から遮蔽する容器７、１４、１７と、容器に接続された不活性ガスの供給ラインおよび排出ラインと、容器上若しくは容器と圧力的に等価な位置および／または供給若しくは排出ライン上若しくは供給若しくは排出ラインと圧力的に等価な位置に圧力調整手段２１〜２３を具備する。 - 特許庁

After forming an insulated adhesive material resin on the resin circuit board, the projection electrode of the semiconductor device and the wiring pattern of the resin circuit board are abutted and thermally press-fixed, a diffused junction layer is formed and a mounting body is formed.例文帳に追加

半導体装置の突起電極の表面材料と、樹脂回路基板の配線パターンの表面材料を、前記樹脂回路基板の耐熱温度より低い温度で拡散接合ができる二つの金属により構成し、樹脂回路基板上に絶縁性接着剤樹脂を形成した後に、半導体装置の突起電極と樹脂回路基板の配線パターンを当接させて熱圧着して拡散接合層を形成して実装体を形成する。 - 特許庁

The galvano scanner includes: a shaft driving part including a rotary shaft; a mirror connected to the shaft driving part; a hub having a back plate erected in a hollow cylindrical part; a grating plate having a reflection pattern formed on its surface; a projection part for irradiating the surface of the grating plate with light; and a light receiving part for detecting light reflected from the grating plate.例文帳に追加

ガルバノスキャナは、回動するシャフトが設けられているシャフト駆動部と、シャフト駆動部に連結されるミラーと、中空状の円筒部に立設する背板を有し、シャフトに挿入固定されるハブと、表面に反射パターンが形成されているグレーティング板と、シャフトの端部側に配置され、グレーティング板の表面に光を照射する投光部と、グレーティング板から反射された光を検出する受光部を備えている。 - 特許庁