「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

In the antenna switching module 10, all of capacitors C1, C4, C5, C11, and C17 that are non-grounded capacitors are formed outside a grounding projection region GPA in which an SAW grounding land pattern section LSG on the outermost layer surface of a laminate 100 is projected from the lamination direction to the inside.例文帳に追加

アンテナ切換モジュール１０は、非接地コンデンサであるコンデンサＣ１，Ｃ４，Ｃ５，Ｃ１１，Ｃ１７の全てを、積層体１００の最外層表面のＳＡＷ接地ランドパターン部ＬＳＧを積層方向から内部に投影した接地投影領域ＧＰＡの外に形成した。 - 特許庁

After this adjustment, the image processing unit 15 adjusts R, G and B values of pixels of a color image based on color image data received from a transmission apparatus 2 formed on the projection device 14 for each pixel based on the color adjustment result of the test pattern.例文帳に追加

この調整後、画像処理部１５は、投射デバイス１４上に形成する送信装置２から受信したカラー画像データに基づくカラー画像の各画素のＲ値、Ｇ値及びＢ値を、テストパターンの色調整結果に基づいて画素毎に調整する。 - 特許庁

To provide a lithography device including an illumination system for supplying radiation beams, the array of elements to be individually controlled to pattern the beams, and a projection system for guiding the patterned beams to a substrate supported on a substrate table; and to provide a method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

A recording surface Sxy is set on a XY plane in an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz is set on a YZ plane, a reference axis R is set on a Z axis and a three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

Then optical characteristics of the projection optical system are found on the basis of the detection result of a formation state of an image of the pattern formed in the respective regions on the wafer through exposure under the finely adjusted exposure conditions (steps 436, 438).例文帳に追加

そして、その微調整された露光条件の下での露光によってウエハ上の各領域に形成された前記パターンの像の形成状態の検出結果に基づいて、投影光学系の光学特性が求められる（ステップ４３６、４３８）。 - 特許庁

This electron beam transfer equipment is provided with an illumination optical system which illuminates a reticle 12 having a pattern to be transferred on a wafer 16 with electron beam, and a projection optical system which projects an electron beam which passes the reticle 12 and is patterned and forms an image on the wafer 16.例文帳に追加

本装置は、ウエハ１６に転写するパターンを有するレチクル１２を電子ビームで照明する照明光学系と、レチクル１２を通過してパターン化された電子ビームをウエハ１６上に投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁

The first lighting fixture unit 20A is provided with a first projection lens 24, a first reflector 26 converging and reflecting the light from a first semiconductor light emitting element 22 frontward, and a first shade 21 forming a cut-off line of a light distribution pattern.例文帳に追加

第１の灯具ユニット２０Ａは、第１投影レンズ２４と、第１半導体発光素子２２からの光を前方に向けて集光反射させる第１リフレクタ２６と、配光パターンのカットオフラインを形成する第１シェード２１とを備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a compact printed wiring board by which damage such as cracking, foil flotation and peeling of a wiring pattern during blanking processing and damage such as breaking and cracking of a projection portion are reduced or eliminated, and to provide the compact printed wiring board.例文帳に追加

打ち抜き加工における配線パターンのクラック、箔浮き、剥がれ等の損傷の発生や、突起部の折れ、割れ等の損傷の発生を軽減又は解消可能な小型プリント配線板の製造方法、及び、小型プリント配線板を提供する。 - 特許庁

This ceramic building plate 1 has a plurality of design projections 23 divided by a plurality of continuous joint parts 22 and a plurality of crossing joint parts 23, and the design projection 21 is formed with a designed pattern 301 by printing ink with the printing roll 4.例文帳に追加

窯業系建築板１は，複数の連続目地部２２と複数の交錯目地部２３とによって区画した複数の意匠凸部２１を有し，意匠凸部２１には，印刷ロール４によるインク印刷を行った意匠模様３０１を形成してなる。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

In this case, by setting the inclined angle properly, the mutual cancellation of the plurality of reflected lights incident on the optical projection system PL can be suppressed, resultantly making it possible to form the desired pattern image on the object.例文帳に追加

この場合、その傾斜角を適宜に設定することで、投影光学系ＰＬに入射する複数の反射光が互いに打ち消しあうことを抑制でき、その結果として、物体上に所望のパターン像を形成することが可能となる。 - 特許庁

A three-dimensional structure M as an original image of the stereoscopic pattern is set by setting a recording surface Sxy on an XY plane of an XYZ three-dimensional coordinate system, a projection surface Syz on a YZ plane, and a reference axis R on a Z axis.例文帳に追加

ＸＹＺ三次元座標系におけるＸＹ平面上に記録面Ｓｘｙ、ＹＺ平面上に投影面Ｓｙｚ、Ｚ軸上に基準軸Ｒを設定し、立体模様の原画像となる三次元構造体Ｍを設定する。 - 特許庁

In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

Namely, since it is possible to prevent the phenomenon that the circumferential portion of the pattern images formed via the projection type optical system is shielded and cannot pass through the photosensitive aperture by changing the aperture used for the measurement, the optical characteristic of the projection type optical system can be calculated with higher accuracy without relation to the focusing condition.例文帳に追加

すなわち、ピンホールパターンの結像状態に応じて、計測に用いる開口を変更することにより、投影光学系を介して形成されるパターン像の周縁部が受光用開口を通過せずに遮られてしまうという事態を防止することができるので、結像状態にかかわらず、投影光学系の光学特性を高精度に算出することが可能となる。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁

In the multiprojection display 100 for displaying a large screen image on a translucent screen SCR_1 using projection images from a plurality of projector units PJ_A, PJ_B, PJ_C, PJ_D, the multiprojection display is characterized by providing an auxiliary illuminator L for irradiating a projection plane with illuminating light that becomes a pattern approximately opposite to "black floating patterns" in such a multiprojection display.例文帳に追加

複数のプロジェクタユニットＰＪ_Ａ，ＰＪ_Ｂ，ＰＪ_Ｃ，ＰＪ_Ｄからの投写画像により透過型スクリーンＳＣＲ_１上に大画面画像を表示するマルチプロジェクションディスプレイ１００であって、 このマルチプロジェクションディスプレイにおける「黒浮き模様」と略反対のパターンになるような照明光を投写面に照射するための補助照明装置Ｌを備えたことを特徴とするマルチプロジェクションディスプレイ。 - 特許庁

The second lighting fixture unit 20B is provided with a second projection lens 34 which has a focusing distance more backward and a diameter smaller than the first projection lens 24 and a second reflector 36 converging and reflecting the light from a second semiconductor light emitting element 32 having the same structure as the first semiconductor light emitting element 22, and a second shade 31 forming a cut-off line of the light distribution pattern.例文帳に追加

第２の灯具ユニット２０Ｂは、第１投影レンズ２４よりも後方焦点距離及びレンズ径が小さい第２投影レンズ３４と、第１半導体発光素子２２と同じ構成の第２半導体発光素子３２からの光を前方に向けて集光反射させる第２リフレクタ３６と、配光パターンのカットオフラインを形成する第２シェード３１と、を備える。 - 特許庁

The ladder type piezoelectric filter includes at least three piezoelectric vibrators where the piezoelectric vibrators 19 corresponding to a series element and a parallel element are alternately arranged on a flat substrate, at least part of lower electrodes of the piezoelectric vibrators has a projection 20 and the projection is adhered and fixed to an electrode pattern 18 on a mounting member.例文帳に追加

少なくとも３つの圧電振動子を含む梯子型圧電フィルタであって、その等価回路における直列素子と並列素子に対応する各々の前記圧電振動子１９が平面基板上に交互に配置されており、前記圧電振動子の下面電極の少なくとも一部分が突起２０を有し、前記突起が実装用部材上の電極パターン１８に接着固定されている。 - 特許庁

The reflection type projection optical system which projects a pattern arranged on an object surface to an image surface through a reflection mirror is telecentric on both of the object surface side and the image surface side, and the object surface and the image surface are arranged to be inclined to a plane perpendicular to an optical axis of the reflection type projection optical system so as to satisfy the Scheimpflug condition.例文帳に追加

本発明は、物体面に配置されたパターンを反射鏡を介して像面に投影する反射型投影光学系であって、前記物体面側と前記像面側との両方でテレセントリックであり、かつ、前記物体面と前記像面とを、シャインプルーフの条件を満たすように、前記反射型投影光学系の光軸に垂直な面に対してそれぞれ傾けて配置した。 - 特許庁

In the projection aligner provided with an illumination optical system for illuminating a reticle and a projection optical system for projecting the pattern of the reticle on a wafer, the illumination optical system is provided with a light deflecting element for converting light incident on an optical integrator to zonal light, and the light deflecting element is rotatable to an optical axis.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光軸に対して回転可能であることを特徴とする投影露光装置。 - 特許庁

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

To provide a system and a method used to compensate for locally enlarged errors and/or focus errors that are generated due to the unevenness of the surface of a pattern generator, a substrate, and/or an optical element, at least in the projection system of a lithography system.例文帳に追加

リソグラフィシステムのパターンジェネレータ、基板および／または少なくとも投影系内の光学素子の表面の不均一性によって生じる局部的な拡大エラーおよび／または焦点エラーを補償するのに使用されるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

A resist film 11 formed of chemically sensitized resist material is subjected to a first EB projection exposure 12A under the condition that a beam blur and a focus position are set at 20 nm and 2 μm, respectively, through the intermediary of a first mask 13 where a first mask pattern has been formed.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１に対して、第１のマスクパターンが形成された第１のマスク１３を介して、ビームブラー：２０ｎｍで且つ焦点位置：２μｍの条件で第１回目のＥＢプロジェクション露光１２Ａを行なう。 - 特許庁

The projection means 10 is constituted of a light source 11, a pattern generating means 12, a same principal point arranging means 13 for arrangement at the optically same principal point as that of the first imaging means 20, and an image forming optical system 14 shared with the first imaging means 20.例文帳に追加

投射手段１０は光源１１と，パターン発生部１２と，第１の撮像手段２０と光学的に同主点に配置させるための同主点配置手段１３と，第１の撮像手段２０と共用される結像光学系１４とを含んで構成される。 - 特許庁

The thin-film heater 10 is provided with an installation guide 14 consisting of a pair of projection walls formed by photosensitive materials pattern molded by a photo lithography method by projecting from a substrate 11 on both sides of a plurality of thin-film resistors 12.例文帳に追加

本発明の薄膜ヒータ１０は、フォトリソグラフィー法によりパターン成形された感光性材料により形成された一対の突出壁からなる取付ガイド１４を、複数の薄膜抵抗体１２の両側に基板１１上より突出して備えるようにしている。 - 特許庁

The target pressing auxiliary member 301 is freely slidable only in a rotating direction and has such a shape that a projection 305 is to be locked to a hole provided on a position corresponding to the arranged specified pattern among the holes 302 provided at prescribed intervals on the reel side face further.例文帳に追加

目押し補助部材３０１は、回転方向にのみ摺動自在とし、更に、リール側面に所定の間隔をおいて設けられた穴３０２のうち、配置された特定図柄の対応する位置に設けられた穴に突起３０５を係止する形状を持つ。 - 特許庁

To obtain a method of projecting and exposing and a method of manufacturing a device using the same, in which the focus position of a projection optical system is detected with good precision irrespective of change with time, and the pattern on a reticle surface is projected and exposed on a wafer surface with high precision.例文帳に追加

経時的変化にかかわらず投影光学系のフォーカス位置を精度良く検出し、レチクル面上のパターンをウエハ面上に高精度に投影露光することができる投影露光方法及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

An exposure device is provided with a cleaning part 30 cleaning a surface of a resist film formed on a wafer 20 by cleaning liquid 25 and an exposure part 40 exposing the pattern by arranging liquid for liquid immersion 26 between the resist film and a projection lens 44.例文帳に追加

露光装置は、ウエハ２０上に形成されたレジスト膜の表面を洗浄液２５により洗浄する洗浄部３０と、レジスト膜と投影レンズ４４との間に液浸用の液体２６を配してパターン露光を行なう露光部４０とを有している。 - 特許庁

When a substrate is exposed by an image of a pattern being projected onto the substrate through a projection optical system and a liquid, a liquid immersion condition optimal for a film member to be formed on a liquid contact surface of the substrate is selected from among liquid immersion conditions stored in a storage device.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。 - 特許庁

A flexible substrate which has a driver IC mounted on a projection part of one substrate and has a conduction pattern supplying an input signal to be supplied to the driver IC is arranged while folded from the place of joining to the substrate to the reverse side of the driver-IC mounted surface of the substrate.例文帳に追加

一方の基板の張り出し部にドライバーＩＣが搭載され、ドライバーＩＣに与える入力信号を供給する導電パターンとを有するフレキシブルな基板を、基板への接合箇所から基板のドライバーＩＣ搭載面の裏面側に折り曲げて配置する。 - 特許庁

The mask force device is releasably connected to the mask in order to provide an accelerating force to the mask so that a projection optical system in a lithographic apparatus may accurately project a pattern imparted by the patterning device onto a target portion of a substrate by using a radiation beam.例文帳に追加

マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。 - 特許庁

In the headlight for a vehicle, the light-emitting module 36 is provided with a light-emitting part 54, and a frame body 52 surrounding the light-emitting part 54 for zoning a light-emitting face 54a, and forms a low-beam light distribution pattern through a projection lens with light emitted from the light-emitting face 54a.例文帳に追加

車両用前照灯において、発光モジュール３６は、発光部５４と、発光面５４ａを画定するよう発光部５４を囲う枠体５２と、を有し、発光面５４ａから発せられる光で投影レンズを通じてロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

Therefore, a Braille pattern prepared separately from the drilling conditions (drill advancement) for forming this projection 5 is inputted to a numerically controllable machine tool beforehand for drilling the base plate according to the input data, the projections are sequentially formed and a Braille guide board is manufactured.例文帳に追加

従って、この突起５が形成される孔刳り条件（ドリルの進み）と別途用意された点字パターンを数値制御可能な工作機械に入力しておき、入力データーに従って孔刳りすると順次突起５が形成されて点字案内板が製作される。 - 特許庁

To provide an intraoral imaging apparatus having an illumination field generator that forms an illumination beam having a contour fringe projection pattern when receiving light from a first light source and having a substantially uniform illumination field when receiving light from a second light source.例文帳に追加

第１の光源から光を受けたときに輪郭干渉縞投影パターンを有し、第２の光源から光を受けたときに実質的に一様な照明場を有する照明光線を形成する照明場発生器を有する口腔内撮像装置を提供する。 - 特許庁

To form a light-distribution pattern for a low-beam having horizontal and slanted cutoff lines at a top end section while enhancing utilization efficiency of its light source light flux in a direct-projection type lighting lamp tool for a vehicle using an approximately rectangular light-emitting surface as a light source.例文帳に追加

略矩形状の発光面を光源とする直射型の車両用照明灯具において、その光源光束の利用効率を高めるようにした上で、上端部に水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

The exposure system 100 irradiates an original plate 6 by an illumination optical system 4 containing the phase adjustment optical element 2 which converts linearly polarized light to non-polarized light, and projects a pattern of the original plate 6 on a substrate 8 by a projection optical system 7 to expose the substrate 8.例文帳に追加

露光装置１００は、直線偏光を無偏光化する位相調整光学素子２を含む照明光学系４によって原版６を照明し、原版６のパターンを投影光学系７によって基板８に投影して基板８を露光する。 - 特許庁

Since the contamination prevention agent contains the alcohol and the surfactant, wetting property relative to the surface of the plate material 1 is outstandingly sufficient, it can be uniformly coated and fixed even if the projection/recessed part pattern 2 exists on the surface and the uniform contamination prevention layer 6 can be formed.例文帳に追加

該防汚処理剤はアルコールと界面活性剤とを含有しているから、板材１表面に対する濡れ性が極めて良好で、表面に凹凸模様２があっても均一に塗布定着させることが出来、均一な防汚層６を形成することが出来る。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for adhering exposure masks for performing high-grade exposure, and a projection aligner even in a near-field exposure method for improving adhesion properties between a mask for exposure and a substrate, and preparing a finer pattern than the wavelength of exposure light.例文帳に追加

露光用マスクと基板との密着性を向上させ、露光光の波長より小さな微細パターンを作製する近接場露光方法においても、高品位な露光が行える露光マスクの密着方法及び密着装置並びに露光装置を提供する。 - 特許庁

The sanitary tissue is embossed by using an emboss roll having an emboss pattern constituted of unit embossing projection parts having a truncated corn or truncated elliptic corn shape where the area of the top surface part is 0.3-1.8 mm^2, the tapered angle is 20-50°, and the height is 0.3-1.5 mm.例文帳に追加

頂面部の面積が０．３〜１．８ｍｍ^2、テーパー角が２０〜５０度、高さが０．３〜１．５ｍｍである円錐台又は楕円錐台の単位エンボス付与凸部で構成されるエンボスパターンを有するエンボスロールを用いて衛生薄葉紙にエンボスを付与する。 - 特許庁

To provide a lens sheet and a light diffusable substrate or a transmission type screen for a projection television having good color balance by suppressing the deterioration of a photosensitive resin layer forming a light shielding pattern without using a UV absorbent.例文帳に追加

本発明の課題とするところは、紫外線吸収剤を使用することなく、遮光パターンを形成する感光性樹脂層の劣化を改善し、良好なカラーバランスのプロジェクションテレビ用のレンズシート及び光拡散性基板もしくは透過型スクリーンを提供することにある。 - 特許庁

The light transmitted by the hologram substrate 3 is imaged in sample liquid 7 retained on the transparent substrate 6 via a projection optical system 4 and, thereby, holograms of various patterns in accordance with the pattern shapes of the hologram substrate 3 are formed in the sample liquid 7.例文帳に追加

ホログラム基板３を通った光は、投影光学系４を介して、透明基板６上に保持された試料液７中で結像され、それによって、ホログラム基板３のパターン形状に応じた様々なパターンのホログラムが試料液７中に形成される。 - 特許庁

To provide a field emission display element using a diamond type material that can form displaying pattern by enhancing the efficiency of electron emission from particular spots by forming no projection on the surface of substrate of silicon or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン等の基板の表面に突起を形成することなしに、特定の個所からの電子放出効率を高めることによって、表示パターンを形成することができるダイヤモンド系材料を用いた電界放出表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical element is irradiated with a UV radiation beam from a radiation source LA for mask pattern projection or a radiation source 7 exclusive for purge whereby the beam of radiation decomposes oxygen and produces an oxygen radical which cleans the optical element very effectively.例文帳に追加

マスクパターン投影用の線源ＬＡからの、またはパージ専用線源７からのＵＶ放射線ビームをこの光学要素に照射するので、この放射線が酸素を分解して酸素ラジカルを作り、それらが非常に効果的に光学要素をクリーニングする。 - 特許庁

Further, the character description density calculating means 1 can find the character description density from the ratio of character string circumscribed rectangle width in the direction of the character string and the total sum of projection lengths provided by projecting a pattern in the character string perpendicularly to the direction of the character string.例文帳に追加

更に、文字記入密度計算手段１は、文字列方向の文字列外接矩形幅と、文字列中のパターンを文字列方向に対して垂直方向に投影して得られる投影長の総和との比率によって、文字記入密度を求めることを可能とする。 - 特許庁