「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.例文帳に追加

光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

An image of a wedge mark group for measuring the best focusing position and images of box and in-box marks for measuring a coma aberration of the projection optical system are exposed at a plurality of focusing positions Z1 to Z5 at positions near a wafer by a micro-step system, and a resist pattern is formed by the following development.例文帳に追加

ベストフォーカス位置計測用の楔型マーク群の像、及び投影光学系のコマ収差計測用のボックス・インボックスマークの像を、複数のフォーカス位置Ｚ１〜Ｚ５でウエハ上の近接した位置にマイクロ・ステップ方式で露光し、その後の現像によってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

This vehicular headlamp is so structured as to be provided, between a projection lens 28 and a reflector 24, with a first shade 32 for forming the cut-off line as a shade for shading a part of reflected light from a reflector 24, and a second shade 34 for forming a dark part at a lower end center part of the light distribution pattern.例文帳に追加

投影レンズ２８とリフレクタ２４との間に、該リフレクタ２４からの反射光の一部を遮蔽するシェードとして、カットオフラインを形成するための第１シェード３２と、配光パターンの下端中央部に暗部を形成するための第２シェード３４とを備えた構成とする。 - 特許庁

The lithography apparatus includes: a projection system configured to project a beam of radiation as an array of sub-beams of radiation and an array of individually controllable elements configured to modulate the sub-beams of radiation to form a requested dose pattern on a substrate.例文帳に追加

一連の放射線のサブビームとして放射線のビームを投影するように構成された投影システムと、要求ドーズ・パターンを基板上で形成するために、放射線のサブビームを変調するように構成された個別に制御可能な要素のアレイとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of exposing a side surface of a sample to be exposed with high productivity, applicable to mass production at low cost, and capable of forming a pattern on the side surface of the sample to be exposed with high angular accuracy.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面を高い生産性にて露光でき、安価に量産に適用でき、かつ、被露光試料の側表面に高い角度精度でパターンを形成できる投影露光装置を提供できるようにすることである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which connecting reliability is high, and any void generation failure or connection failure is not generated, and an adhesive to be used for this, in an alloy formation connecting method by thermal eutectic between a metallic projection on the electrode pad of a semiconductor element and the wiring pattern of a wiring board.例文帳に追加

半導体素子の電極パッド上の金属突起と配線基板の配線パターンとの熱共晶による合金形成接続法において、接続信頼性が高く、ボイド発生不良や接続不良が発生しない半導体装置の製造方法とそれ用の接着剤を提供する。 - 特許庁

The aligner has a reticle stage RST which is disposed on one side of a projection optical system 13, holds a reticle R having a transfer pattern and is equipped with an alignment reference plate SP, and a wafer stage WST equipped with a reference mark FM on the other side.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系１３の一方の側に配置され、転写パターンを有するレチクルＲを保持するとともに位置合わせ用の基準プレートＳＰを具備したレチクルステージＲＳＴと、他方の側に基準マークＦＭを具備したウエハステージＷＳＴを有する。 - 特許庁

The image/electric inspection device 20 comprises a projector 11 and an inspection board 12 fitted slidably in parallel with a light projection face, and when the inspection plate 12 is divided into a plurality of kinds of inspection patterns along the slide direction, the image of the kind of pattern can be inspected.例文帳に追加

画像・電気検査装置２０を、投光器１１と、その投光面に平行にスライド可能に取り付けた検査板１２で構成し、検査板１２を前記スライド方向に沿って複数種の検査パターンの画面に区分けすると、そのパターンの種類の画像検査が行える。 - 特許庁

On the transmittable plate material on which bands part of lowered transmittance are placed at specific intervals on at least one side surface, a projection is formed in a part of the band and a character and a pattern are represented by the visual continuity of the projected part.例文帳に追加

少なくとも一方の面上に透光率を低下させた帯状部を所定の間隔を置いて形成した透光性の板材において、前記帯状部の一部へ突出部を形成すると共に該突出部の視覚的な連続性により文字や模様を表現する。 - 特許庁

A second mold mask having projection-like projecting parts is used, parts other than parts corresponding to via holes are hardened by being irradiated with UV light, thereafter the via holes are formed in a developing/baking process S23, and the photosensitive silver paste in an upper layer is connected to the conductor pattern through the via holes in an upper-layer application process S24.例文帳に追加

突起状の凸部を有する第２のモールドマスクを用い、ＵＶ光を照射してビアホールに対応する部分以外を硬化させた後、現像焼成過程Ｓ２３でビアホールを形成し、上層塗布過程Ｓ２４で上層の感光性銀ペーストをビアホールを介して導体パターンに接続する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁

The machining device having a chuck table which has a holding surface for holding the workpiece and on which the workpiece is mounted by an operator, and a machining means for machining the workpiece held on the chuck table, includes a pattern projection means including at least a light source disposed to face the holding surface of the chuck table, and a filter arranged between the light source and the chuck table and having a pattern for positioning the workpiece.例文帳に追加

被加工物を保持する保持面を有し作業者が被加工物を載置するチャックテーブルと、該チャックテーブルで保持された被加工物へ加工を施す加工手段とを備えた加工装置であって、該チャックテーブルの該保持面に対面して配設された光源と、該光源と該チャックテーブルとの間に配設され被加工物位置合わせ用パターンを有するフィルタとを少なくとも含むパターン投影手段を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The aligner comprising an illumination optical system for illuminating the pattern of an original plate, and a projection optical system for guiding light from the pattern onto a substrate and exposing the substrate is further provided with at least one reflective member, and a noncontact pressure applying means for applying a force to at least one reflective member such that gravitational deformation thereof is reduced.例文帳に追加

原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも１つの反射部材と、前記少なくとも１つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも１つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。 - 特許庁

To provide a projection aligner for forming a specified pattern on a printed wiring board by transferring the image of a mask where a specified pattern is formed to the printed wiring board, where the height of a mask's image forming surface or the height of the photosensitive surface of a printed board need not be manually adjusted even in the case of exposing several kinds of printed boards having different thicknesses.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスクの像をプリント配線基板に転写してプリント配線基板に所定のパターンを形成する投影露光装置であって、異なる厚さを有する複数種類のプリント基板に露光する場合であっても手動でマスクの像の結像面の高さまたはプリント基板の感光面の高さを調整する必要のない投影露光装置を提供することである。 - 特許庁

The exposure apparatus projects and exposes a pattern formed on a reticle using EUV light on an object to be processed through a projection optical system, illuminates the mark with second light whose wavelength differs from that of the EUV light, and comprises a detection means to detect the information about the position of the mark by receiving the second light from the mark through the projection optical system.例文帳に追加

ＥＵＶ光を用いてレチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体上に投影露光する露光装置であって、 前記露光装置は、前記ＥＵＶ光とは異なる波長の第２の光でマークを照明し、該マークからの前記第２の光を前記投影光学系を介して受光することにより該マークの位置に関する情報を検出する検出手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

The lamp unit 40 includes a reflector 47 to reflect direct light of an LED 25 arranged backward of a projection lens 45 to the front, and a shade 49 to form a cutoff line of the light distribution pattern by shielding one part of reflected light from the reflector 47 and one part of the direct light from the LED 25.例文帳に追加

灯具ユニット４０は、投影レンズ４５の後方に配置されたＬＥＤ２５の直接光を前方に反射させるリフレクタ４７と、リフレクタ４７からの反射光の一部及びＬＥＤ２５からの直接光の一部を遮蔽して配光パターンのカットオフラインを形成するシェード４９と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for creating writing data for electron beam exposure and electron beam writing, and a method for manufacturing a photo mask, an X-ray mask, and a mask for charged beam projection aligning for creating a mask pattern exactly same as a designed value with an existing low accelerating voltage electron beam writing system by a variable shaped method.例文帳に追加

既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In an aligner that lights up a mask by lighting luminous flux having coherent anisotropy, and projects and exposes the pattern of a mask surface onto the light-sensitive substrate by a projection optical system, time for lighting up the light-sensitive substrate is adjusted, thus eliminating the illuminance disturbance that is periodically generated on the light-sensitive substrate.例文帳に追加

コヒーレンスの異方性を有する照明光束でマスクを照明し、該マスク面のパターンを投影光学系によって感光基板上に投影露光する露光装置において、前記感光基板に照明する時間を調整することにより、前記感光基板上に周期的に発生する照度外乱をなくすように構成する。 - 特許庁

Three-dimensional measurement is performed by pattern projection on the state of characters written on a manuscript, a white board, etc., to perform distance measurement to capture a luminance image, which is what is called a real image, in parallel with an image for distance measurement, and the inputted characters are discriminated by the luminance image analysis based on the distance information.例文帳に追加

原稿、ホワイトボード等に対する文字の書き込み状態をパターン投影による３次元計測を実行して距離計測を実行し、いわゆる実画像である輝度画像と、距離計測用の画像を並列して撮り込み、距離情報に基づく輝度画像分析により、入力文字の識別処理を実行する。 - 特許庁

Patterns adjusting the aperture rate are successively arranged at pitches below a resolution limit so as not to resolve the patterns by a projection optical system and further while pattern sizes and pitches are sequentially calculated by successive places by grasping a residual film thickness characteristic of the photosensitive material to an exposure quantity, the patterns are arranged.例文帳に追加

開口率を調整するパターンを投影光学系によって解像させないために、解像限界以下のピッチでパターンを連続配置し、また露光量に対する感光性材料の残存膜厚特性を把握して連続した場所毎にパターンサイズとピッチを逐次計算しつつパターンを配置するように構成する。 - 特許庁

A laser light source 20 emitting a prescribed laser beam LB, an illumination optical system 12 working the laser beam LB into illumination light IL having a uniform illuminance distribution and a projection optical system projecting the image of a pattern formed on a reticle on a wafer by the irradiation of illumination light IL are installed.例文帳に追加

所定のレーザ光ＬＢを出射するレーザ光源２０と、そのレーザ光ＬＢを均一な照度分布を有する照明光ＩＬに加工する照明光学系１２と、その照明光ＩＬの照射によりレチクル上に形成されたパターンの像をウエハ上に投影する投影光学系とを備える。 - 特許庁

In the respective pixels 10 of the spatial light modulator PPM, a movable mirror 11 which forms a projection beam modulator element and a mirror actuator 13 are fitted on one side of a substrate 16, and a pixel control circuit device 15 for setting the modulation element according to a desired pattern is fitted on the other side.例文帳に追加

この光空間変調器ＰＰＭの各画素１０は、投影ビーム変調素子を形成する可動ミラー１１およびミラーのアクチュエータ１３が基板１６の片側に取付けてあり、その反対側に変調素子を所望のパターンに従ってセットするための画素制御回路装置１５が取付けてある。 - 特許庁

A reticle R is irradiated with an exposing light IL from an exposing light source 1 through an illumination optical system ILS comprising a first fly eye lens 6, a second fly eye lens 9, lens systems 12, 13 blinds 14A, 14B, and condenser lens systems 17, 18 and the pattern image of the reticle R is projected onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１からの露光光ＩＬを、第１フライアイレンズ６、第２フライアイレンズ９、レンズ系１２，１３、ブラインド１４Ａ，１４Ｂ、及びコンデンサレンズ系１７，１８等よりなる照明光学系ＩＬＳを介してレチクルＲに照射し、レチクルＲのパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影する。 - 特許庁

To provide a vehicle headlamp, thin and compact with superior designability, and with good visibility for a driver and without glare on an oncoming vehicle, in one having a low-beam light distribution pattern formed by a low-beam use light source unit structured of a plurality of projection type optical units.例文帳に追加

複数の投影型光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供することにある。 - 特許庁

A first masking blade for exposing only a desired pattern on a reticle by an exposure device is installed above a reticle stage, and a second masking blade is installed below the reticle stage to prevent light transmitted in a non-exposure region on the reticle from entering a projection lens owing to stray light.例文帳に追加

露光装置においてレチクル上の所望のパターンのみを露光するためのマスキングブレードをレチクルステージの上部に第一のマスキングブレードを設置し、さらにレチクルステージの下部に第二のマスキングブレードを設置することにより、迷光によりレチクル上の非露光領域を透過した光を投影レンズ内に入り込む事を防止することができる。 - 特許庁

The exposure device includes an illumination optical system illuminating a reflection-type mask (M) installed on a first surface, by using a light from a light-condensing point (1a) on which light emitted from a light source (1) is condensed; and a projection optical system (PO) projecting a pattern of the mask to a photoreceptive substrate (W) installed on a second surface.例文帳に追加

本発明の露光装置は、光源（１）より射出された光が集光する集光点（１ａ）からの光を用いて、第１面に設置される反射型のマスク（Ｍ）を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第２面に設置される感光性基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＯ）とを備えている。 - 特許庁

To provide a master mold useful for forming a fine structure without the need of complicated fabrication processes or skill in manufacturing, capable of shortening manufacturing processes, and capable of easily forming a complicated fine structure pattern of a projection part or the like of a material excellent in durability.例文帳に追加

微細構造体の成形型を製造するのに有用で、製造に煩雑な加工工程や熟練が必要とされることがなく、製造工程を短縮することができ、しかも凸部等の複雑な微細構造パターンを耐久性にすぐれた材料から容易に製造することができる母型を提供すること。 - 特許庁

The exposure apparatus EX executes exposure processing for projecting a pattern of a reticle onto a wafer by a projection optical system 13 by using a light supplied from a light source 1, thereby exposing the wafer, and a measurement processing for adjusting the positions of the reticle and wafer in the exposure processing, by using the light supplied from the light source 1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１から供給される光を使ってレチクルのパターンを投影光学系１３によってウエハに投影してウエハを露光する露光処理、および、光源１から供給される光を使って露光処理におけるレチクルとウエハとの位置合わせのための計測処理を実行する。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.例文帳に追加

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁

A light projection part 15 receives a print finish detection signal when a squeegee 13 detects the finish of print by a detecting part 14, and emits light toward a cream solder 12 of an inspection object filled in an inspection hole 111a, out of pattern holes 11a formed in a printing mask 11.例文帳に追加

検出部１４によりスキージ１３が印刷を終了したことを検出すると、投光部１５は印刷完了検知信号を受け取り、印刷用マスク１１に形成されたパターン孔１１ａのうち検査孔１１１ａに充填された検査対象のクリーム半田１２に対し光を照射する。 - 特許庁

To provide a reflection optical device which is used for an exposure device having an EUV light source, an illumination optical system for guiding the EUV light from the light source to a reticle and a projection light system for projecting a reticle pattern on a sensitive substrate and in which the surface figure is varied to prevent deformation due to local heat generation.例文帳に追加

ＥＵＶ光源と、光源からのＥＵＶ光をレチクルに導く照明光学系と、レチクルパターンを感応基板上に投影させる投影光学系とを有する露光装置に用いられる反射光学素子であって、局所的な熱の発生による変形を防止するように表面形状を変形可能とする。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加

リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁

In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１６からの露光光で、照明系ＩＬ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系ＷＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁

A three-dimensional image processing part reads the plural pieces of grouped objects Ga-Gc for which objects for displaying a single pattern are grouped from a character storage part and successively arranges the grouped objects Ga-Gc on the outside of a display area set in a world coordinate system, that is a position not projected on a projection plane TM.例文帳に追加

３次元画像処理部は、単一の図柄を表示するためのオブジェクトをグループ化した複数個のグループ化オブジェクトＧａ〜Ｇｃをキャラクタ記憶部から読み出し、それらグループ化オブジェクトＧａ〜Ｇｃをワールド座標系に設定された表示領域外すなわち投影平面ＴＭに投影されない位置に順次配置する。 - 特許庁

This projection mask 3 for transmitting a electron ray and selectively exposing the board 1 is provided with a plurality of exposure regions 4a, 4b, 4c, 4d, etc., where the predetermined pattern for exposing the board 1 formed, and marks 6 for dimensional measurement formed in correspondence with the exposure regions 4a, 4b, 4c, 4d, etc.例文帳に追加

電子線を透過させて基板１上を選択的に露光する投影マスク３であって、基板１上を露光するための所定のパターンが形成された複数の露光領域４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ・・・と、複数の露光領域４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ・・・のそれぞれに対応して形成された寸法測定用のマーク６とを備える。 - 特許庁

The aligner has a projection optical system, which uses an optical member showing double refraction and projects a pattern formed in a mask to a workpiece and a polarization direction deciding means for deciding the polarization direction of exposure light so that the exposure light which exposes the workpiece becomes linearly polarized.例文帳に追加

複屈折を示す光学部材を使用し、マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、前記被処理体を露光する露光光が直線偏光になるように、当該露光光の偏光方向を決定する偏光方向決定手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

The radio board 10 and the antenna board 20 are formed so that a groove 12 formed on the side surface of one board 10 and a projection 22 formed on the side surface of the other board 20 can be fitted together, and one end of the antenna pattern 23 is connected to the module constituent 13 when they are in a fitted state.例文帳に追加

無線基板１０とアンテナ基板２０は、一方の基板１０の側面に設けた溝１２と他方の基板２０の側面に設けた突起部２２とが嵌合可能に、かつ、嵌合状態のときにアンテナパターン２３の一端がモジュール構成部品１３に電気的に接続されるように設けられている。 - 特許庁

A laser beam 103L taken out from an ArF excimer laser 103 of the exposure light source of a scanning aligner 100 is guided through the inside of an aligner main body 101, and is projected on a reticle 115 to expose a wafer 120d in the form of a pattern through a reducing projection lens 117 to the outgoing laser beam through the reticle 115.例文帳に追加

スキャン型露光機１００の露光光源であるＡｒＦエキシマレーザ１０３から取り出されたレーザ光１０３Ｌを、露光機本体１０１の内部を導き、レチクル１１５に照射し、レチクル１１５を出射したレーザ光を縮小投影レンズ１１７を通してウエハー１２０ｄをパターン状に露光する。 - 特許庁

An image of an object and a calibration image are inputted (S1), deformation in code portions of the inputted images due to projection distortion is removed (S2), then the screen coordinates of a reference point are obtained, and internal parameter calculation (S4) of the camera is performed, based on a previously inputted code pattern and on the world coordinate data of the reference point.例文帳に追加

対象物画像とキャリブレーション画像を入力Ｓ１し、投影歪による入力画像のコード部分の変形を除去Ｓ２した後、参照点の画面座標を取得し、予め入力されたコードパターンと参照点の世界座標情報に基づいて、カメラ内部のパラメータ計算Ｓ４を行う。 - 特許庁

To provide a technique for preferentially polishing a projection under the control for polishing of a recess and for highly flattening polishing surface with extraordinary small quantity of polishing work, with less dependence on pattern of polishing velocity on the occasion of polishing the surface to be polished of a material layer of the silicon dioxide system during manufacture of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造において、二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する場合の研磨速度のパターン依存性が少なく、凹部の研磨を抑制しながら凸部を優先的に研磨でき、極めて少ない研磨量で被研磨面を高平坦化することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask.例文帳に追加

掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The projector type lamp unit has a pair of vertical cutoff lines CLv formed on both right and left sides of a lateral central region which is a dark region PA1a in an additional light distribution pattern PA1 by moving a variable shade of the lamp unit to a first light-shielding position located on the rear focal point surface of a projection lens.例文帳に追加

プロジェクタ型の灯具ユニットにおいて、その可動シェードを投影レンズの後側焦点面に位置する第１遮光位置に移動させることにより、付加配光パターンＰＡ１において暗部ＰＡ１ａとなっている左右中央領域の左右両側に１対の上下カットオフラインＣＬｖを形成する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁