「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a projection type video display device with which the respective characteristic points can be easily detected even in the case in which the number of characteristic points is large and the whole test pattern image cannot be taken by an image taking device.例文帳に追加

テストパターン画像の全体を撮像装置によって撮像することができず、特徴点の数が多いようなケースであっても、各特徴点を簡易に検出することを可能とする投写型映像表示装置を提供する。 - 特許庁

The exposure light from a lighting source is radiated on a wafer vertically through a reflection mask and mirrors of reflective projection optical system, so that an absorber pattern 10 on the reflection mask is exposed on the wafer.例文帳に追加

照明用光源からの露光照明光は、反射型マスク、反射投影光学系のミラー群を介して、鉛直方向からウエハＷ上に照射され、反射型マスク上の吸収体パターン１０がウエハＷに露光される。 - 特許庁

A knurl formed on the roll A is a twilled pattern composed of projections that are formed on the peripheral face of the roll A at a circumferential pitch of 0.4 to 2.5 mm and at a transverse pitch of 0.4 to 2.5 mm, each projection having a height of 0.2 to 1.25 mm.例文帳に追加

ロールＡに施されたローレットが、ロールの円周面上に、円周方向のピッチが０．４〜２．５ｍｍ、幅方向のピッチが０．４〜２．５ｍｍ、高さが０．２〜１．２５ｍｍである突起からなる綾目ローレットである上記治具。 - 特許庁

Here, the coma remaining in the reflection projection optical system is minimized with height H of the absorber pattern 10 being N.λ/2 (where the wavelength of exposure light is λ while N is natural number).例文帳に追加

このとき、露光照明光の波長をλとし、Ｎを自然数としたときに、吸収体パターン１０の高さＨをＮ・λ／２とすることにより、反射投影光学系に残存するコマ収差を最小にすることができる。 - 特許庁

To provide a device for purging an ultraviolet ray path in an aligner partially effectively by inert gas in the aligner that applies a mask pattern to a photosensitive substrate via a projection optical system by using ultraviolet rays as exposure light.例文帳に追加

露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁

To perform projection and transfer operation on a circuit pattern, irrespective of the change of conditions of illumination and the exposing operation in performed in a stationary state or in a scanning state.例文帳に追加

マスクを照明する照明条件の変更、及び、静止状態または走査状態での露光動作に関わらず精確な回路パターンの投影転写を可能とする露光システム及び走査型露光装置並びにその露光方法を提供する。 - 特許庁

Then, reactive ion etching is carried out by O_2/CF_4, the second carbon and silicon films not covered with the resist pattern for forming the projection are removed, and a third carbon film is formed on the first carbon film exposed in the removed parts.例文帳に追加

次に、Ｏ_2／ＣＦ_4による反応性イオンエッチングを行い、突起形成用レジストパターンで覆われていない第２カーボン膜及び第２シリコン膜を除去し、除去部分に露出した第１カーボン膜上に第３カーボン膜を形成する。 - 特許庁

A monochromatic first line segment group lined up in parallel along a first direction and a monochromatic second line segment group lined up in parallel along a second direction different from the first direction are arranged on a projection pattern image.例文帳に追加

投影パターン画像上には、第１の方向に沿って平行に並んでいる単色の第１の線分群と、第１の方向とは異なる第２の方向に沿って平行に並んでいる単色の第２の線分群と、が配置されている。 - 特許庁

This reduces the effect of defocusing of line widths or the like in the line pattern to be imaged on the wafer and also decreases the effect of reticle formation errors or the like, and enables a high-precision measurement of projection optical system imaging characteristics.例文帳に追加

このようにすれば、ウエハ上に形成されるラインパターンの像の線幅等のサイズへのデフォーカス量、レチクル製造誤差等の影響を少なくすることができ、高精度に投影光学系の結像特性を計測することができる。 - 特許庁

On a side surface of a circuit board 12, a reception portion 16 for receiving a projection 14d of the metal cover 14 is provided, and a conductor pattern 18 is formed from a mounting surface of the circuit board 12 into the reception portion 16.例文帳に追加

回路基板１２の側面には、金属カバー１４の突出部１４ｄを受け入れる受入部１６が設けられており、回路基板１２の実装面上から受入部１６内にかけて導電パターン１８が形成されている。 - 特許庁

The wiring pattern is extended in a direction at a side opposite to the electrode pad over the surface of a resin projection from the surface of the electrode pad, and forms a resistive element R by allowing partial wiring features to differ from those of other parts at an opposite side.例文帳に追加

配線パターンは、電極パッドの表面から樹脂突起の表面を越えて、電極パッドと逆側の方向に延び、且つ逆側において一部の配線諸元を、他の部分と異ならせて抵抗素子Ｒを形成する。 - 特許庁

The inclination groove 5 is formed into an arc shape becoming a projection to the outer side of the tire, an extension end of the inclination groove 5 is terminated in the shoulder area, and the shoulder area is formed into a non-block pattern in which a land is continued in a tire circumferential direction.例文帳に追加

傾斜溝５はタイヤ外側に凸となる弧状に形成すると共に、該傾斜溝５の延長端部をショルダー域内で終端させて、ショルダー域を陸部がタイヤ周方向に連続する非ブロックパターンに形成する。 - 特許庁

The average line width, an average space width and an average pitch width are calculated based on a peak interval of an own correlation value in a differential image of the line-and-space pattern, and based on a peak interval corresponding to a line edge on a projection data of the differential image.例文帳に追加

ライン・アンド・スペースパターンの微分画像の自己相関値のピーク間隔や微分画像の投影プロジェクションデータ上のラインエッジに対応したピーク間隔から、平均ライン幅、平均スペース幅、平均ピッチ幅を算出する。 - 特許庁

In addition to a lens barrel 5 which houses a projection optical system 3, a substrate cleaning unit 41 is provided which cleans a substrate S using the same liquid as a liquid which is supplied to an immersion region, prior to exposure of a pattern to the substrate S.例文帳に追加

投影光学系３を収納する鏡筒５に加えて基板洗浄ユニット４１を設け、基板Ｓへのマスクパターンの露光に先立って、液浸領域に供給される液体と同一の液体を用いて基板Ｓを洗浄する。 - 特許庁

The projection device automatically synchronizes the rotational control of the color wheel 302 and the traveling direction control of the transmitted light by the DMD 305 with each other, on the basis of the time-resolved pattern of the color of the transmitted light detected by the color sensor 306.例文帳に追加

投影装置はカラーセンサ３０６で検出された透過光の色の時分解パターンに基づいてカラーホイール３０２の回転制御とＤＭＤ３０５による透過光の進行方向制御との同期を自動で行う。 - 特許庁

This lithographic apparatus has a plurality of columns 25 comprising an illumination system, an array of individually controllable elements for imparting a pattern to the cross section of each beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beams onto the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、照明システムと、各ビームの断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、基板にパターン化されたビームを投影する投影システムからなる複数のカラム２５を備える。 - 特許庁

First, a first silicon film, a first carbon film, a second silicon film, and a second carbon film are sequentially stacked on a surface which becomes a medium facing surface of the thin-film magnetic slider, and a resist pattern for forming a projection is formed on the second carbon film.例文帳に追加

先ず、薄膜磁気ヘッドスライダの媒体対向面となる面上に、第１シリコン膜、第１カーボン膜、第２シリコン膜及び第２カーボン膜を順に積層形成し、この第２カーボン膜上に突起形成用のレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To achieve processing that is quick and reliable by introducing a simple procedure even if a pattern as an object of division is very complicated in form in a complementary dividing process of an electron beam projection exposure mask.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクの相補分割処理において、その分割対象となるパターン形状が非常に複雑な場合であっても、簡潔な手順を導入することにより、迅速かつ信頼性の高い処理を実現する。 - 特許庁

To provide a cornea shape analysis apparatus capable of extracting a punctate superficial keratitis region from an image taken non-invasively by the ring pattern projection on the surface of a cornea and analyzing the extent of the keratitis quantitatively.例文帳に追加

角膜表面へのリングパターン投影によって非侵襲的に撮像された画像から、点状表層角膜炎領域を抽出し、その程度を定量的に解析することを可能にする、角膜形状解析装置を提供すること。 - 特許庁

The first electrode 240 includes a conductive electrode substrate 242 and a conductive electrode projection part 244 formed on the substrate 242 by plating and having a pattern corresponding to the polarization-inverted area 110.例文帳に追加

第１電極２４０は、導電性の電極用基板２４２と、電極用基板２４２上にメッキ法により形成されていて分極反転領域１１０に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部２４４とを有する。 - 特許庁

To simply and accurately measure the information required for exposure such as a position of a projection image of a reticle pattern or the uniformity of illuminance by using a prescribed sensor, when using an exposure beam of a short wavelength almost like a vacuum ultraviolet region.例文帳に追加

ほぼ真空紫外域のような短波長の露光ビームを使用する場合にも、簡便に、所定のセンサを用いてレチクルパターンの投影像の位置や照度均一性等の露光に必要な情報を正確に計測する。 - 特許庁

To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.例文帳に追加

たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁

The projection type video display device adjusts forms of the first region and the second region in the focus adjusting pattern so that at least one of resolution and a contrast of the brightness becomes uniform in the picked-up image.例文帳に追加

投写型映像表示装置は、撮像画像内で明度の分解能およびコントラストの少なくとも一方が均一となるように、フォーカス調整用パターンにおける第１の領域および第２の領域の形態を調整する。 - 特許庁

The tip part 22 of the code reader which is moved manually in contact with the code pattern is provided with two projection pieces 22B for tilt prevention, projecting in the scanning direction, on each side of the external surface in the scanning direction.例文帳に追加

コードパターンに接触し手動走査されるコードリーダの先端部２２に、該コードリーダの走査方向における外側面両側に、走査方向に向かって突出する傾き防止用突条片２２Ｂを片側に２個づつ設ける。 - 特許庁

When an operation panel 30 is loaded, ON and OFF states of switches 41, 42, 43 on an operation panel placing face 40 are controlled based on presence or absence of a projection on the operation panel 30 and then one set value pattern is selected based on the ON and OFF states.例文帳に追加

操作パネル３０を装着時に、操作パネルの突起３３の有無に基づいて操作パネル設置面４０上のスイッチ４１，４２，４３をＯＮ，ＯＦＦ制御し、ＯＮ，ＯＦＦ状態によ１つの設定値パターンを選択する。 - 特許庁

By a projection device 14, a reference pattern is irradiated at a monitoring region 15, a value measured by the camera 13 is compared with a reference value, and an object detection reaction is started, when the measured value is different from the present reference value.例文帳に追加

映写装置１４で基準のパターンをモニタリング領域１５に照射し、カメラ１３で測定した値を基準値と比較し、測定値が予め決定されたように基準値から相違した場合に物体検出反応が開始される。 - 特許庁

To provide a mirror electron projection type ( including an MPJ type (also including an SEPJ type)) electron beam inspection device which is made possible to optimize a condition and a pattern defect inspection method and system by using the above electron beam inspection device.例文帳に追加

条件出しができるようにした写像投影型（ＭＰＪ型（ＳＥＰＪ）型も含む））電子線検査装置並びにこれら電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

The decorative sheet has a brilliant color layer, a picture pattern layer, a transparent adhesive layer, a transparent resin layer and a transparent surface protection layer in the order on a substrate sheet which can be used as the decorative material by adhering to the material to be adhered, and at least the brilliant color layer has a shaped projection and recessed pattern by embossing.例文帳に追加

被着材と貼着することにより化粧材として使用し得る、基材シート上に、光輝性着色層、絵柄模様層、透明性接着剤層、透明性樹脂層及び透明性表面保護層を順に有し、少なくとも前記光輝性着色層はエンボス加工により賦型された凹凸模様を有することを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

The two Bragg grating patterns 12, 13 include the first Bragg grating pattern 12 formed on both-side walls of a core of an optical waveguide as horizontal irregularities, and the second Bragg grating pattern 13 having a projection structure and/or a recess structure formed on the center of a width direction of the core 10 and the upper part of a vertical direction.例文帳に追加

二通りのブラッググレーティングパターン１２，１３は、水平方向の凹凸として光導波路のコアの両側壁に形成された第一のブラッググレーティングパターン１２と、コア１０の幅方向中央かつ垂直方向上部に形成された突起状の構造および／または溝状の構造１３からなる第２のブラッググレーティングパターンからなることもできる。 - 特許庁

The pachinko game machine is equipped with a pattern display device arranged at a game board and a center decoration arranged so as to surround the pattern display device and provided with the warp route, wherein the center decoration is formed so as to see through a part forming the warp route 18 and a plurality of projection parts 19 and 20 are provided on the surface thereof.例文帳に追加

遊技盤に配置された図柄表示装置と、該図柄表示装置を取り囲むように配置されてワープ経路が設けられたセンター飾りと、を備えたパチンコ遊技機において、センター飾りは、ワープ経路を形成する部分が透視可能に形成されると共に、その表面に複数の凸部を設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

When the hole pattern 42 of the punch plate 40 matches the projection pattern of the plate attachment part 53, the punch plate 40 attached to the dosing vessel 20 is fitted into a plate attachment block 50 attached to a medical vessel hanger 10 and the dosing vessel 20 is constituted to be attachable to the medical vessel hanger 10.例文帳に追加

穿孔プレート４０の穿孔パターン４２と、プレート装着部５３の突出パターン５２が一致する場合、与薬容器２０に装着された穿孔プレート４０を、医療用容器吊下ハンガー１０に装着されたプレート装着ブロック５０に嵌合し、与薬容器２０を医療用容器吊下ハンガー１０に装着可能に構成している。 - 特許庁

In the imaging apparatus that requires a dark fixed pattern noise correction value different in each sensitivity, when dark image data is required by an environmental condition such as ambient temperature at photographing, an image range to be used is changed to capture dark in accordance with set sensitivity, and a projection operation is performed to generate a one-dimensional dark fixed pattern noise correction value.例文帳に追加

感度毎に異なるダーク固定パターンノイズ補正値が必要な撮像装置において、撮影時、周囲温度等の環境条件によりダーク画像データを必要とする場合、設定された感度に応じて、画面の使用する範囲を変更しダーク取り込みを行い、射影演算して一次元のダーク固定パターンノイズ補正値を生成する。 - 特許庁

When slight focus adjustment is made to the photoirradiation part 4, the pattern-drawing device minutely moves the mask part 42, by means of the mask part-minutely moving mechanism 43, vertically along the optical axis formed by the mask part 42 and the projection optical system 44, to fit the mask pattern of the mask part 42 to an optically conjugate position to the objective surface of the substrate.例文帳に追加

パターン描画装置では、光照射部４のフォーカス微調整が行われる際に、マスク部４２をマスク部微動機構４３によりマスク部４２と投影光学系４４とを結ぶ光軸に沿う上下方向に微小に移動することにより、基板の対象面に対して光学的に共役な位置にマスク部４２のマスクパターンを一致させる。 - 特許庁

Or, a polishing load is set so that the P_2>P'>P>P_1 is achieved, thus achieving characteristics for selectively polishing a projection where the polishing pressure being higher than pressure, where the inflexion point appears according to the pattern shape of a film to be polished, is applied.例文帳に追加

或いはＰ_2＞Ｐ'＞Ｐ＞Ｐ_1となるように研磨荷重を設定することにより、被研磨膜のパターン形状に応じて変曲点が現れる圧力よりも高い研磨圧力がかかる凸部を選択的に研磨する特性を実現することができる。 - 特許庁

The information on each of two or more positions established by an user so that the test pattern composed of the record at an outward trip scan and the record at a return trip scan is recorded in each of two or more positions containing a recess and projection of the recording medium.例文帳に追加

往路走査での記録と復路走査での記録とにより構成されるテストパターンを記録媒体の凹部と凸部とを含む２つ以上の各位置に記録するようユーザが設定した前記２つ以上の各位置の情報を受け付ける。 - 特許庁

When the stylus pen 1 is inserted into the storage device 10, the pattern structure 13 is slid along the projection 5 by contact, so that the stylus pen 1 rotates relative to the storage device 10 during insertion and is moved to the predetermined rotational position.例文帳に追加

スタイラスペン１が収納装置１０に差し込まれるとき、当該突起５に接してパターン構造１３がスライドする結果、スタイラスペン１は差し込まれるとき収納装置１０に対して回転し、１つの指定された回転位置に動かされる。 - 特許庁

A system (1) for measurement of three-dimensional motion of an object (5) includes light projection means (2) adapted for projecting light (17) of at least two different colors with a cross-sectional pattern (18) of a succession of parallel lines (11), onto a surface (6) of the object (5) at distinct time intervals (T_R, T_G, T_B).例文帳に追加

物体(5)の3次元運動を測定するシステム(1)は、縞模様の線(11)の断面パターン(18)を有する少なくとも2つの異なる色の光(17)を、別個の時間間隔(T_R、T_G、T_B)で物体(5)の表面(6)上へ投影するようになされた光投影手段(2)を含む。 - 特許庁

A Levenson phase shift mask 4 is subjected to projection exposure and the intensity distribution of the light which transmitted through the Levenson phase shift mask 4 is detected by a CCD camera 6, to obtain the relation between the defocus quantity on the CCD camera 6 and the dimension of the optical pattern.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク４を投影露光し、このレベンソン位相シフトマスク４を透過した光の強度分布をＣＣＤカメラ６により検出し、ＣＣＤカメラ６上のデフォーカス量と、光学的パターン寸法との関係を求める。 - 特許庁

To solve such a problem that it is necessary to form a photospacer, a projection for controlling orientation or a striped or island-shaped pattern on a color filter substrate, the number of steps required to complete the color filter substrate thus formed is increased, and consequently the production yield is decreased and the production cost is increased.例文帳に追加

カラーフィルタ基板上にはフォトスペーサ、配向制御用の突起、ストライプ状やアイランド状のパターンまで作り込むようになっており、カーフィルタ基板の完成に要する工程数が増加して、製造歩留まりの低下とコストアップを来たしている。 - 特許庁

Therefore, when the transfer film 82 is pressed to stick on the outer periphery surface of the base layer 22, a moving direction of the recess/projection pattern 82A with respect to the o periphery surface of the base layer 22 can be different depending on each part of the transfer film 82 by bending of the transfer film 82.例文帳に追加

このため、転写フィルム８２をベース層２２の外周面に圧着する際には、転写フィルム８２が撓むことで、転写フィルム８２の部位毎に凹凸柄８２Ａのベース層２２外周面に対する移動方向を異ならせることができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that can improve the yield of a product by forming patterns of a spacer, a projection for liquid crystal alignment control, etc., at desired positions, and a structure for electronic display and the display that do not have variance (unevenness) of display characteristics.例文帳に追加

スペーサー、液晶配向制御用突起等のパターンを所望の位置に形成し、製品の歩留まりを向上させることができるパターン形成方法、表示特性にばらつき（ムラ）が生じない電子ディスプレイ用構造物及びディスプレイを提供する。 - 特許庁

The vehicle under test includes a projector equipped with the radio communication function, a reflector for adjusting the projection angle from the projector, and a screen displaying the vehicle speed pattern projected by the projector arranged on the front wind shield of the vehicle under test.例文帳に追加

被試験車両に、無線による送受信機能を有するプロジェクタと、このプロジェクタからの投射角を調整する反射体と、前記被試験車両のフロントウインドウに配設されてプロジェクタが投影した車速パターンを表示するスクリーンを設置する。 - 特許庁

To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

A luminance area extraction part 12B extracts the image area of a speaker P from a luminance image based on distance images obtained by photographing a projection pattern projected to the speaker P by 1st and 2nd cameras 3A, 3B.例文帳に追加

通話者Ｐに投影された投影パターンを第１のカメラ３Ａおよび第２のカメラ３Ｂで撮影することによって得られる距離画像に基づいて輝度画像から通話者Ｐの画像領域を輝度領域抽出部１２Ｂで抽出するようにした。 - 特許庁

To improve the characteristics of a semiconductor device, while connecting a metal base with a circuit pattern provided on an insulating layer, by using a metal projection obtained by transforming the metal base, in the semiconductor device that uses a metal base circuit board.例文帳に追加

金属ベース回路基板を用いた半導体装置において、金属ベースを変形させることにより得られる金属の突起を利用して絶縁層上に設けられる回路パターンと金属ベースとを接続しながら、その特性を向上させる。 - 特許庁