「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a projection type lighting device of which ornamental property at the environmental area of a light source is improved by enhancning the utilization rate of the light source around the surface of a dinner table, and enabling to project the light including colored or colorless pattern like a character even around the light source with a necessary lightness.例文帳に追加

食卓等のテーブル面において光源の光の利用率を高め、光源の周囲をもキャラクタ等の光の有色あるいは無色模様を含め所要の明るさで投光するを可能にして、光源周囲の装飾性を高めるようにする。 - 特許庁

The scanning exposure apparatus 100 uses a down scaling projection optical system 104 for projecting a pattern scaled down to 1/6 or 1/8 in a laser beam irradiating area 103 of a mask 102 on a wafer 105 mounted on a wafer stage 106.例文帳に追加

本発明のスキャン型露光装置１００では、マスク１０２におけるレーザ光照射領域１０３内のパターンは、縮小投影光学系１０４によって、１／６又は１／８に縮小されてウエハステージ１０６に載せられたウエハ１０５上に投影される。 - 特許庁

A mold 1 with a rugged pattern formed is pressed against an ultraviolet ray setting resin 3 which is applied to a substrate 2, so that a projection 3a and a flat base 3b having a first predetermined thickness are formed on the resin 3 and then cured.例文帳に追加

凹凸パターンが形成された型１を基板２上に塗布された紫外線硬化型樹脂３に押し付けて、その樹脂３に凸部３ａと第１の所定の厚さを有する平らなベース部３ｂとを成形し、凸部３ａ及びベース部３ｂを硬化させる。 - 特許庁

To provide an electron beam (EB) drawing data generation method capable of extracting a graphic in a CP cut-away frame as a character pattern while suppressing an increase in computational complexity even if it is necessary to resize a graphic cell, when extracting the graphic in a character projection (CP) cut-away frame generated from a cell arrangement frame included in the graphic cell as a character pattern.例文帳に追加

図形セルに含まれるセル配置枠から生成されたＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、ＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、ＥＢ描画データ生成方法を提供すること。 - 特許庁

A pattern defining means 20 is made up of a blanking means that defines a multitude of beamlets included in the respective particle beams to configure the form of the projection on the target 41 in a desired pattern, by permitting the beamlets to pass through exclusively a plurality of apertures that serve to define the forms of the beamlets transmitted therethrough, and further switches off the passage of selected beamlets from the respective paths.例文帳に追加

パターン規定手段２０が、それぞれの粒子ビーム内にある多数のビームレットを規定し、アパーチャを透過するビームレットの形状を規定する複数のアパーチャのみの通過を許容することによってターゲット４１上に投射される形状を所望のパターンとし、さらにそれぞれの経路から選択されたビームレットの通過をスイッチオフさせるブランキング手段からなる。 - 特許庁

To provide a computer-readable recording medium recording a program for making a computer execute a method of determining a pattern of a mask and an effective light source distribution with which the mask is illuminated, both of which are used for an exposure apparatus including an illumination optical system which illuminates a mask with light from a light source and a projection optical system which projects a pattern of the mask onto a substrate.例文帳に追加

光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

In formation of the metal projection, as for a pattern of a resist 71, the pattern is formed by removing a resist in a resist removal domain 72 including nine quadrangular pyramid tips, and a polyimide film is formed after removing the resist, to thereby obtain the contact terminal wherein the tip part in one terminal is divided into nine, and a part of the contact terminal is constituted of polyimide.例文帳に追加

この金属製突起の形成において、レジスト７１のパターンは、９つの四角錐先端を含むレジスト除去領域７２のレジストを除去することによりパターンを形成し、レジストを除去した後にポリイミド膜を形成することにより、１つの端子中に先端部が９つに分かれ、かつ接触端子の一部がポリイミドで構成される接触端子を得る。 - 特許庁

The data creation method for an electron beam projection photolithography machine is characterized by including a process of creating flat data by expanding the pattern data of a hierarchized mask, a process of performing profiling that extracts the profile line of the pattern on the flat data, and a process of extracting cells in which polygons have the same patterns and hierarchizing the cells.例文帳に追加

電子ビーム投影露光装置用のデータ作成方法において、階層化されたマスクのパターンデータを展開してフラットなデータを作成する工程と、このフラットなデータについてパターンの輪郭線を抽出する輪郭化処理を行う工程と、このフラットなデータから同一の形状のポリゴンを有するセルを抽出して階層化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

This working device for bringing a mold formed with a projection and recess pattern into contact with a resist on a substrate to transfer the pattern to the resist is provided with a rotating mechanism which rotates the mold, and a magnification changing means which makes the moving distance of the rotary shaft of the mold different from the moving distance of the mold on the resist.例文帳に追加

凹凸のパターンを形成したモールドを、基板上のレジストに接触させて、当該レジストに前記パターンを転写する加工装置であって、前記モールドを回転させる回転機構と、前記モールドの回転軸の移動距離と前記モールドの前記レジスト上での移動距離とを異ならせる倍率変更手段とを有することを特徴とする加工装置を提供する。 - 特許庁

A lithography device comprising a substrate table that holds a substrate, a projection system so configured as to project a radiation beam whose pattern is formed on the substrate, a liquid feed system so configured as to feed liquid into a space among the projection system, the substrate and the substrate table, and a ring so disposed as to cover a gap between the substrate and the substrate table and to come into contact with the substrate and the substrate table.例文帳に追加

基板を保持する基板テーブルと、基板上にパターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、投影システムと基板と基板テーブルとの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、基板と基板テーブルとの間のギャップを覆うように設けられ、基板および基板テーブルと接触するリングとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁

A scanning exposure type projection optical system, which forms a pattern image of a mask M on a plate by moving the mask M and a plate P relatively to the projection optical system, has at least one deflection member, and the continuation direction of the periodic waving of the reflecting surface of the deflection member is made to cross the direction orthogonal to the scanning direction of the mask and plate.例文帳に追加

マスクＭおよびプレートＰを投影光学系に対して相対的に移動させることによりマスクのパターン像をプレート上に形成する走査露光型の投影光学系において、投影光学系は、少なくとも１つの偏向部材を有し、偏向部材の反射面に存在する周期性を持つうねりの連続方向をマスクおよびプレートの走査方向と直交する方向と交差する方向とした。 - 特許庁

The aligner has a projection optical system for projecting the pattern of a reticle to a workpiece, exposes the workpiece to light via liquid supplied at least partially between the projection optical system and the workpiece, forms a prescribed flow velocity distribution in the liquid, and has a means for removing bubbles and/or foreign matters mixed into the liquid.例文帳に追加

レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と前記被処理体との間の少なくとも一部に供給される液体を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、前記液体内に所定の流速分布を形成し、前記液体に混入した気泡及び／又は異物を除去する除去手段を有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

A projecting position for specifying an item to be a projection target acquired for each arrangement of an item constituting sequence data is associated with an item to be a basic point of the projection and stored, and an item specified by the projecting position stored while associated with the item is extracted from the sequence data with the last item among items in the sequence data corresponding to the sequence pattern as a basic point.例文帳に追加

系列データを構成するアイテムの配列毎に取得した射影の対象となるアイテムを特定するための射影位置を、当該射影の基点となるアイテムに関連付けて記憶し、系列パタンに対応する前記系列データでのアイテムのうち最後のアイテムを基点として、このアイテムに関連付けて記憶された前記射影位置により特定されるアイテムを前記系列データから抽出する。 - 特許庁

Alternatively, a projection and recess pattern having a cross section of the form of trigonometric functions is adopted, and projections and recesses having only their widths (diameters) varied compared with the basic form are disposed randomly.例文帳に追加

あるいは、凹凸の断面形状を三角関数形状に形成したものを基本形状とし、且つ基本形状からみて幅（径）のみを種々変化させた凹凸が混在するようにばらつかせ、凹凸の幅の分布が、基本形状の凹凸の幅を平均値とする正規分布に従うようする。 - 特許庁

To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

Next, concerning the wiring pattern detecting the current, the presence of the current is detected, on the basis of a longer projection than the prescribed range, by the distance between the edges by applying a second voltage V_2 between the pieces of the adjacent wiring and measuring the current made to flow between the pieces of the wiring.例文帳に追加

次いで、この電流が検出されなかった配線パターンについて、隣接する配線間に第２の電圧Ｖ_2を印加して、これらの配線間に流れる電流を測定することにより、その先端間の距離が前記所定範囲よりも長い突起に基づく電流の有無を検出する。 - 特許庁

To provide a technique of replacing the space approximately closed by an original plate and a pellicle film with inert gas with an exposure device for replacing the interior of the device with the inert gas and irradiating a photosensitive substrate with the pattern of the plate across a projection optical system using UV light as exposure light.例文帳に追加

露光光として紫外光を用い、装置内を不活性ガスで置換し、原版のパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、原版とペリクル膜で略閉じられた空間を不活性ガスで有効に置換する技術を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrolytic capacitor that improves the productivity by decreasing the frequency of replacement of a projection pattern for joining electrode foils and tab terminals together and also improves the yield by maintaining peeling strength even when the frequency of replacement is decreased to avoid foil breaking.例文帳に追加

電極箔とタブ端子とを接合する凸型の交換頻度を減らすことによって生産性を向上させ、且つ交換頻度を少なくしても、剥離強度を維持して箔切れを生じさせないようにすることで歩留まりを向上させることができる電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner that supports, aligns, and controls an object such that the reaction forces and the vibrations caused by the motion of the object are not transferred to other elements, such as a projection optical device for exposing a pattern of a mask onto the object, and to provide a method of exposure using the apparatus.例文帳に追加

対象物の運動により生ずる反力及び振動が、マスクのパターンを対象物に露光するための投影光学装置の如き他の要素に伝達しないように、対象物を支持、位置決め、及び、制御する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁

When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.例文帳に追加

レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。 - 特許庁

In a light-emitting device 10 in which a pattern showing mounting positions of LEDs 2 is printed on one plane 1a of a printed circuit board 1 in which the LEDs 2 are mounted to one plane 1a, at least a part of patterns 51, 52 is formed outside a projection outer shape to one-side planes 1a of the LEDs 2.例文帳に追加

ＬＥＤ２，２…をその一面１ａに装着してあるプリント基板１の一面１ａにＬＥＤ２，２…の装着位置を示すパターンが印刷してある発光装置１０において、パターン５１，５２は、少なくとも一部が、ＬＥＤ２，２…の一面１ａへの投影外形の外側に形成してある。 - 特許庁

To provide an exposure device that detects an amount of a relative position shift between a position where a projection optical system projects an exposure pattern and a detection position of a position detection optical system without moving the position detection optical system on a reverse surface side, and performs exposure with high precision using the amount of the position shift.例文帳に追加

裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影する位置と、位置検出光学系の検出位置との相対的な位置ズレ量を検出し、この位置ズレ量を用いて露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The projection of at least two illuminating directions to the sample is vertical or parallel with respect to the orientation of a principal pattern of the sample, and the polarization of illumination light in a first direction and the polarization of illumination light in a second direction are different from each other.例文帳に追加

また、少なくとも２つの照明方向の該試料への射影は該試料の主要なパターンの方向に対して垂直または平行であり、該第１の方向の照明光の偏光と該第２の方向の照明光の偏光は互いに異なることを特徴とする。 - 特許庁

In the aligner having a movable stage in holding the mask substrate to expose a pattern formed on the mask substrate on a photosensitive substrate by a projection optical system, the stage holds the mask substrate through an elastic member being elastically deformable according to deformation of the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板を保持して移動可能なステージを備え、前記マスク基板に形成されたパターンを投影光学系によって感応基板上に露光する露光装置において、そのステージは、マスク基板をそのマスク基板の変形に応じて弾性変形可能な弾性部材を介して保持するようにした。 - 特許庁

To provide a headlight for a vehicle arranged so that a low beam projection is conducted with a light distribution pattern having a horizontal and an oblique cutoff line, capable of heightening a long-range visibility by securing the photo-quantity of a hot zone sufficiently even in the case the vertical width of its reflector is small.例文帳に追加

水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行うように構成された車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの上下幅が小さい場合であってもホットゾーンの光量を十分に確保して自車線側の遠方視認性を高める。 - 特許庁

At the first movement position, the light distribution pattern for a low beam can be obtained by setting the light source 22a at a first light source position located on an optical axis Ax and by setting the movable shade 32 at a first shade position where its upper edge 32a is located on the optical axis Ax at the rear-side focal point F of a projection lens 28.例文帳に追加

第１の移動位置では、光源２２ａを光軸Ａｘ上に位置する第１の光源位置、可動シェード３２をその上端縁３２ａが投影レンズ２８の後側焦点Ｆにおいて光軸Ａｘ上に位置する第１のシェード位置とし、ロービーム用配光パターンを得る。 - 特許庁

The reflection type projection optical system for projecting a pattern on an object plane onto an image plane, is characterised in that a condensed luminous flux is made incident on the 2nd mirror from the image plane along the optical path, and also, the paraxial magnification of the 2nd mirror is ≤-0.14.例文帳に追加

物体面上のパターンを像面上に投影する反射型投影光学系であって、前記像面から光路を辿って２番目のミラーに集光光束が入射すると共に、当該ミラーの近軸倍率が−０．１４以下であることを特徴とする反射型投影光学系を提供する。 - 特許庁

An exposure apparatus using an immersion lithography method includes a projection lens 31 for projecting an exposure light which transmits through the mask 22 having a design pattern to a resist film, and a solution supply unit 40 for temporarily storing an immersion solution 21A disposed between the resist film and the lens.例文帳に追加

浸漬リソグラフィ法を用いる露光装置は、設計パターンを有するマスク２２を透過した露光光をレジスト膜に投影する投影レンズ３１と、レジスト膜とレンズとの間に配する浸漬溶液２１Ａを一時的に貯留する溶液供給部４０とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a decorated material capable of performing stereoscopic and clear pattern expression by a light and a shadow in the manufacturing method for the decorated material in which a recession/projection layer is formed on a back surface of a transparent sheet-like base material and a light reflection layer is superposed on its outer side.例文帳に追加

透明なシート状基材の裏面に凹凸層を形成しその外側に光反射層を積層させる装飾材の製造方法において、光と影による立体的で明瞭な図柄表現を行うことが可能な装飾材の製造方法の提供。 - 特許庁

Since the cockle 35 which is a recessed and projection pattern is formed on each floor mat mounting face 31, friction force between each floor mat mounting face 31 and the floor mat 33 is increased in the vicinity of a load action part when a load of a foot acts on the floor mat 33 so that the floor mat 33 does not slip easily.例文帳に追加

各フロアマット装着面３１に凹凸模様であるしぼ３５を成形するので、フロアマット３３に足の荷重が作用する場合、荷重作用部付近で各フロアマット装着面３１とフロアマット３３間の摩擦力が増加し、フロアマット３３が滑りにくくなる。 - 特許庁

In this case, the drawing control section 13 makes the near-infrared light emit with the amount of projecting light and a light projection pattern in accordance with conditions set by an imaging/projecting light condition set section 27 and a near-infrared light LED light emission control section 28 (the near-infrared light is made to emit from which region of the display section 11).例文帳に追加

この際、描画制御部１３は、撮像／投光条件設定部２７や近赤外ＬＥＤ発光制御部２８が設定した条件に応じた投光量及び投光パターン（表示部１１のどの領域から近赤外光を出射させるか）で、近赤外光を出射させる。 - 特許庁

An immersion exposure system wherein the pattern of an original plate is exposed over a substrate by means of a liquid layer between a projection optical system and the substrate is provided with a means to remove an immersion liquid adhered onto the substrate or filled thereon by turning or moving a substrate holding member.例文帳に追加

投影光学系と基板との間の液体層を介して原版のパターンを基板に露光する液浸露光装置を、基板保持部材を回動または移動させることにより、基板上に付着した、または基板上に満たされた液浸液を除去する手段を備えたものとする。 - 特許庁

The lithographic device comprises: a substrate table which is so constituted as to hold a first type of first substrate, wherein the first substrate has a polishing surface; and a projection system which is so constituted as to project a radiation beam, provided with a pattern, to a target part of the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、第１のタイプの第１の基板を保持するように構成された基板テーブルであって、第１の基板が研磨面を有する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

The box-shaped concrete blocks comprises a polygonal or circular bottomed cylindrical body having a plurality of through hole parts 5 and at least a pair of projection parts 4, 4 on each side wall part 3, a pseudo-stone pattern 17 is formed on the outer face of a bottom part 6 or a through hole part 7 is opened in the bottom part 6.例文帳に追加

各側壁部３に複数の透孔部５と少なくとも一対の突起部４，４とを有する多角形又は円形の有底筒体からなる箱形状であって、底部６の外面には擬石模様１７が形成され、若しくは底部６には透孔部７が開設される。 - 特許庁

The opposed two sides 6a, 6b of the pattern 3 incline with respect to a reference side 4a of the circuit board 1, and the projection lengths of the sides 6a, 6b to a vertical side 4b, i.e., the inclination fraction H' is set equal to the pixel size or integral multiple thereof.例文帳に追加

このアライメントマーク３の対向する平行な２辺６ａ，６ｂは電気回路基板の基準辺４ａに対して傾斜し、これら辺６ａ，６ｂの垂直辺４ｂへの投影長、即ち、傾斜量Ｈ’を画素サイズにほぼ等しくもしくはその整数倍程度とする。 - 特許庁

The mask has a quartz-made transparent substrate Q and an absorber layer AB where a pattern is formed of, for example, chromium or chromium oxide, wherein the thickness (t) of the absorber layer AB is larger than the wavelength λ of a projection beam PB and three to four times as large as the width (b) of the absorber layer.例文帳に追加

石英製の透明な基板Ｑ及び、例えばクロム又は酸化クロムからなるパターン形成された吸収体層ＡＢを備えるマスクにおいて、吸収体層ＡＢの厚さｔを投影ビームＰＢの波長λよりも大きく、吸収体層の幅ｂの３倍又は４倍以下とする。 - 特許庁

The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

In this case, a scanning direction of the mask and the photosensitive substrate is aligned with the projection optical system, and the mask and the photosensitive substrate are moved along the scanning direction in a condition where alignment have been performed, and the pattern image of the mask is scanned and exposed on each exposure area of the photosensitive substrate.例文帳に追加

この場合、本発明では、マスクおよび感光性基板の走査方向を投影光学系に対して位置合わせし、位置合わせした状態においてマスクと感光性基板とを走査方向に沿って移動させて、感光性基板の各露光領域にマスクのパターン像を走査露光する。 - 特許庁

Lenses with high sphericity can be obtained by setting an area ratio (S1+S2)/S3 to a range of 7 to 45, wherein S1 is the exposure area of the electrode plate 12, S2 is the projection area of the resist pattern onto the substrate 10, and S3 is the exposure area of the oxygen generating section that includes the substrate 10.例文帳に追加

電極板１２の露出面積をＳ１、レジストパターンの基板１０への投影面積をＳ２、基板１０を含む酸素発生部の露出面積をＳ３としたとき、面積比（Ｓ１＋Ｓ２）／Ｓ３を７〜４５の範囲内の値に設定すると、真球度の良いレンズが得られる。 - 特許庁

Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁

In a step 424, a target dosage is changed, centering on the optimum dosage, in a plurality of steps at a finer step pitch and the pattern is transferred to the plurality of regions on the wafer through the projection optical system by exposure processing similar to that in the step 406.例文帳に追加

そして、ステップ４２４で、目標ドーズ量を、上記最適ドーズ量を中心としてより細かいステップピッチで複数段階で変化させて、ステップ４０６と同様の露光処理により前記パターンが投影光学系を介してウエハ上の複数の領域に転写される。 - 特許庁

The knurl formed on the roll may be flat pattern composed of projections that are formed on the peripheral face of the roll A at a circumferential pitch of 0.4 to 1.5 mm and at a transverse length of 0.1 to 1.5 mm, each projection having a height of 0.1 to 1.5 mm and a height of 0.1 to 1.5 mm.例文帳に追加

ロールに施されたローレットが、ロールの円周面上に、円周方向のピッチが０．４〜１．５ｍｍ、幅方向の長さが０．１〜１．５ｍｍ、高さが０．１〜１．５ｍｍである突起が、幅方向に０．１〜１．５ｍｍの間隔をあけて形成された平目ローレットである上記治具。 - 特許庁