「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor light-emitting device for making in an ideal linear shape a cut-off line of a light distribution pattern with a projection image of an edge by linearly forming an outer periphery edge of a light-emitting face of the device, and hence, is capable of forming a given light distribution pattern in an ideal shape.例文帳に追加

半導体発光装置の光出射面の外周端（エッジ）を直線状に形成することにより該エッジの投影像で形成される配光パターンのカットオフラインを理想的な直線状とし、よって所望の配光パターンを理想的な形状に形成することが可能な半導体発光装置を提供する。 - 特許庁

In a state that the projection 22 and a protrusion-side end surface 41a of the second protrusion 41 are inserted into an insertion hole 31 formed at an insulating layer 30 from different directions to abut against each other, the top surface-side circuit pattern 20 and the reverse surface-side circuit pattern 40 are laminated together with the insulating layer 30.例文帳に追加

そして、プロジェクション２２と第２突出部４１の突出側端面４１ａとを絶縁層３０に設けられる挿入穴３１に対して異なる方向から挿入して当接させた状態で表面側回路パターン２０および裏面側回路パターン４０を絶縁層３０とともに積層する。 - 特許庁

A light shielding pattern 54 having a plurality of arrayed polygonal light shielding portions 53 and a light transmitting portion 55 of a resolution limit or lower disposed at the center of the array is formed in the light transmitting region of a photomask, as a unit light shielding pattern for forming a projection 56 for alignment control in a photosensitive composition layer.例文帳に追加

感光性組成物層に配向制御用突起５６を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスクの光透過領域中に、多角形状の遮光部５３が複数個配列され、その配列の中心部に解像限界以下の光透過部５５を有する遮光パターン５４を形成する。 - 特許庁

To provide nonslip tape capable of imparting excellent projection-and- depression-following properties by using metallic foil as a base and achieving a great nonslip effect without deteriorating visibility of a pattern, etc., depicted on a display layer or deforming and destroying the pattern itself.例文帳に追加

金属箔をベースとして使用して優れた凹凸追従性をもたらすことができる滑り防止テープにおいて、表示層に描かれた模様等の視認性を低下させたり模様そのものを変形、損壊させたりすることなく高い滑り防止効果を発揮することのできる滑り防止テープを提供すること。 - 特許庁

An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.例文帳に追加

露光光ＢによりマスクＲのパターンを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する露光装置９において、マスクＲのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Ｂの露光量を制御する制御装置２３とを備える。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.例文帳に追加

リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁

A laser lithography equipment comprises a mask 2 having a pattern, laser light source 52 for writing from which laser light for lithography is irradiated on the mask 2, projection optical system 4 for imaging and projecting a pattern image of the mask 2 on a substrate 65 for wiring, substrate holding and moving mechanism 66 for holding and moving the substrate 65 for lithography, and control system 5.例文帳に追加

パタンを有するマスク２と、マスク２を描画用レーザ光により照明する描画用レーザ光源５２と、マスク２のパタン像を描画用基板６５に結像投影する投影光学系４と、描画用基板６５を保持し、描画用基板６５を移動させる基板保持移動機構６６と、制御システム５とを備える。 - 特許庁

The resist pattern forming method is provided with a process, wherein a pattern formed in a reticle is imprinted on a resist film in the status that optical path medium in which acid is added to fluorine solvent has been interposed between a projection column 33 and a substrates 10, a process which heats the resist film on which a latent image was formed, and a process which develops the heated resist film.例文帳に追加

投影レンズ系３３と基板１０との間に、フッ素溶剤に酸を添加した光路媒質を介在させた状態でレチクルに形成されたパターンをレジスト膜に転写する工程と、潜像が形成されたレジスト膜を加熱する工程と、加熱されたレジスト膜を現像する工程を含む。 - 特許庁

The apparatus comprises a beam generating system constituted so that it can project a pattern forming beam to a target portion of a substrate by providing a projection beam of radiation and by forming the pattern in the beam, and a supporting table for supporting the item so that the flat surface of the item may be placed the predetermined surface crossing a beam propagation direction.例文帳に追加

装置は、放射線の投影ビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システム、および品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを含む。 - 特許庁

Lithographic equipment is provided with an illumination system for supplying a radiation beam, a pattern applying device integrated with the array of respectively controllable elements for applying a pattern to a beam cross-section, a substrate table for supporting a substrate and a projection system integrated with a micro-lens array for projecting a beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。 - 特許庁

To enable to secure sufficient brightness at the portion near the lower part of a cut-off line in the right and left diffusion area of a low-beam light distribution pattern, even when a light source is arranged at the position separated from an optical axis downward in a vehicle headlamp of projection type constituted so as to form the low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、光源が光軸から下方に離れた位置に配置されている場合であっても、ロービーム用配光パターンの左右拡散領域におけるカットオフラインの下方近傍部分の明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁

The positional relation between a pattern light projection device and the camera is preliminarily determined, whereby the three-dimensional position of a characteristic point on a pattern in a camera coordinate system is measured from the principle of triangulation to determine the shape (equation) of the writing surface in the camera coordinate system, whereby the relative moving quantity of the pen tip is calculated.例文帳に追加

あらかじめパターン光投影装置とカメラとの位置関係を事前に求めておくことにより、三角測量の原理から、カメラ座標系におけるパターン上の特徴点の３次元位置を測定して、カメラ座標系における書画面の形状(方程式)を求め、これによりペン先の相対的な移動量を算出する。 - 特許庁

On the base for forming the optical disk, each projection is formed to contain a coloring matter having a light-absorbing effect to the light for reproducing a signal pattern and to be provided with variation in quantity of the reflected light of the light for reproduction, and the signal pattern is detected by detecting the variation in the light quantity.例文帳に追加

光ディスク成型用基盤において、上記夫々の突起部を、上記信号パターンの再生用の光に対して光吸収効果を有する色素を含ませて形成し、上記再生用の光の反射光の光量に変化を与え、この光量変化を検出することにより、上記信号パターンを検出可能とする。 - 特許庁

The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.例文帳に追加

投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁

The spatial position relation between the endoscope image and ultrasonic image is coordinated by dot pattern projection of laser beams or pattern matching of three-dimensional form image information of a lesion part surface, and on the basis of the coordination, the endoscope image and ultrasonic image are compositely displayed.例文帳に追加

レーザビームのドットパターン投影により、あるいは、病変部表面の３次元形態画像情報をパターンマッチングさせることにより内視鏡画像と超音波画像との空間的な位置関係の対応付けを行い、この対応つけに基づいて内視鏡画像と超音波画像とを合成して表示する。 - 特許庁

By projecting an irregular track of a wave pattern created when the liquid 15 having viscosity is flowing down along the surface of the wall surface body, and its motion on the display surface 14 by using the light projection device 13, slow fantastic motion of the wave pattern can be visually enjoyed as an image.例文帳に追加

粘稠性を有する液体１５が壁面体の表面に沿って流れ落ちるときにつくりだす波紋様の不規則な軌跡とその動きを、投光装置１３を用いて表示面１４に投影することにより、ゆっくりした波紋様の幻想的な動きを映像として視覚的に楽しむことができる。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus includes: a working stage arranged to retain a workpiece; a projection system for projecting an image pattern; a fluid-supplying unit for providing an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece during an immersion lithography process; and a cleaning device to clean the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

By appropriately setting the shape, the dimensions and arrangement pattern of the convex-lens-like projection 3 or the content of the fluorescent dye forming the convex-lens-like projection 3, the natural light whose R/B is about 0.6 usually is modified to modified light whose R/B is about 1.5 to 5 by making the natural light pass through the plant growing film 1.例文帳に追加

凸レンズ状突起３の形状、寸法、配置パターン、あるいは、凸レンズ状突起３を形成している蛍光染料の含有率などを適宜設定することにより、通常はＲ／Ｂ比が０．６程度である自然光を、植物育成フィルム１を通過させることによってＲ／Ｂ比が１．５〜５程度の改質光に改質する。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁

The invention relates to the pattern form that has projection surfaces and recess regions formed on a surface thereof, and includes a resin layer characteristics of which change through action of a photocatalyst irradiated with energy, wherein side surfaces and bottom surfaces of the recess regions have characteristics different from those of the projection surfaces.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、表面に凸面および凹部領域が形成され、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する樹脂層を有し、前記凹部領域の側面および底面が、前記凸面の特性と異なる特性を有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.例文帳に追加

銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Ａｕボールをボンディングした後にＡｕワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第１のめっき及び第２のめっきを施したことにある。 - 特許庁

In joining the projection electrode 5 to a wiring pattern 2, a load applied on a semiconductor chip 4 is controlled so that a product between the amplitude an ultrasonic vibration and the load may be always constant during applying the ultrasonic vibration to the projection electrode 5 and the load may be larger in finish of application of the ultrasonic vibration than in start of application.例文帳に追加

突出電極５を配線パターン２に接合させる場合、突出電極５に超音波振動が印加されている時に超音波振動の振幅と荷重との積が常に一定かつ超音波振動の印加開始時より印加終了時の方が荷重が大きくなるように半導体チップ４にかかる荷重を制御する。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus incorporates a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit for supplying an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

The robot system which performs autonomous navigation determines the direction on the basis of previous decision on the course and arrangement of reflecting line patterns 44 and 48 obtained during the projection of a line pattern by a laser projector in a different known direction in environment according to the current laser projection line patterns 44 and 48 photographed by a camera.例文帳に追加

自律的にナビゲーションするロボットシステムにおいて、カメラによって撮影された現在のレーザ投射ラインパターン４４、４８に基づき、及び環境における異なる既知の方向のレーザプロジェクタによるラインパターンの投射中に得られた反射ラインパターン４４、４８の進路及び配置の予めの判定に基づいて方向決めが行われる。 - 特許庁

To provide a projection exposure method, in which a circuit pattern is formed at an accurate position even if relative position relation or an arrangement of respective reference marks deviates from a design value, and a decrease in throughput of manufacture of a printed circuit board is small.例文帳に追加

各基準マークの相対的な位置関係や配置が設計値に対して偏移しても回路パターンを的確な位置に形成でき、且つ、プリント基板の製造のスループット低下が少ない投影露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of complementarily dividing a mask used for an electron beam projection exposure, which is capable of dividing the mask quickly and reliably by introducing a simple procedure even when the mask has a very complicated pattern as an object of division.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクの相補分割処理において、その分割対象となるパターン形状が非常に複雑な場合であっても、簡潔な手順を導入することにより、迅速かつ信頼性の高い処理を実現する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measuring instrument, a three-dimensional measuring method, and a three-dimensional measuring program capable of obtaining a large number of pattern optical information by one projection, and capable of obtaining three-dimensional information quickly and precisely.例文帳に追加

一回の投影で多くのパターン光情報を得ることができ、高速かつ高精度の三次元情報を得ることができる三次元計測装置および三次元計測方法ならびに三次元計測プログラムを提供する。 - 特許庁

When the pattern is formed by arranging arrays on the surface of a base material, the respective arrays contain cells by 0 to 100% area and light scattering elements are formed of fine recessed parts or projection parts in the cells.例文帳に追加

基材表面にアレイを配置して前記パターンを形成する際、各アレイは、それぞれの内部に０〜１００％の面積を占めるセルを包含し、前記セル内に微細な凹部または凸部からなる光散乱要素を形成する。 - 特許庁

In the coin 1a, a pattern based on projecting and recessing parts on a surface is mainly converted into an electric signal by light reflection sensors 9 and 10 having projection parts and light reception parts and by coil sensors 11 and 12 using detection coils in such state.例文帳に追加

この状態で硬貨１ａは、投光部と受光部を有する光反射センサ９，１０と、検出コイルを用いたコイルセンサ１１，１２により、主として表面の凹凸に基づくパターンが電気信号に変換される。 - 特許庁

To provide a building board and its manufacturing method presenting more complex grain-like design appearance by presenting different color appearance even only at the grain forming projection parts or recessed parts of an uneven grain pattern.例文帳に追加

木目凹凸模様の木目形成凸部だけにおいて，また凹部だけにおいても異なる色外観を呈することができ，より複雑な木目調の意匠外観を呈することができる建築板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To enhance utilization efficiency of light source light flux of a direct-projection lighting lamp tool for a vehicle using a light-emitting element as a light source, even in case a light-distribution pattern is formed at a top end part with horizontal and slanted cutoff lines.例文帳に追加

発光素子を光源とする直射型の車両用照明灯具において、上端部に水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンを形成するようにした場合にも光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁

This exposure apparatus includes: a projection optical system (PL); a first stage mechanism (PS) for moving a photosensitive substrate (P) while holding it; and a second stage mechanism (MS) for moving an object (M) having a pattern while holding it.例文帳に追加

本発明の態様にかかる露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と、感光性を有する基板（Ｐ）を保持して移動する第１ステージ機構（ＰＳ）と、パターンを有する物体（Ｍ）を保持して移動する第２ステージ機構（ＭＳ）と、を備える。 - 特許庁

This deposition mask 1 has openings 1a formed according to a deposition pattern, and is provided with projection parts 1b formed by pressingly deforming a base plate 11 of the deposition mask 1 itself toward the side where the base plate 11 is installed.例文帳に追加

蒸着パターンに応じた開口部１ａを形成した蒸着マスク１であって、蒸着マスク１の基板１１が設置される側に板体自身を押圧変形させることにより形成される突出部１ｂを設ける。 - 特許庁

A shade driving part 29 is structured to move a plurality of shades 12a to 12c independently between a progressing position of a focal plane of a projection lens or in its vicinity and a retracting position not giving an effect to a light distribution pattern.例文帳に追加

シェード駆動部２９は、複数のシェード１２ａ〜１２ｃをそれぞれ独立に、投影レンズの焦点面またはその近傍である進出位置と配光パターンに影響を与えない後退位置との間で移動するように構成される。 - 特許庁

Since exposure value dependency of a best focus position to be calculated can be neglected while preventing occurrence of pattern collapse due to defocus, image plane position of a projection optical system can be measured with high accuracy.例文帳に追加

これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 - 特許庁

This cata-dioptric type projection optical system is equipped with at least one concave reflection mirror (CM) and plural lens components (Li), and projects the image of a slit-shaped pattern extended in a specified direction on a first surface (M) to a second surface (P).例文帳に追加

少なくとも１つの凹面反射鏡（ＣＭ）と複数のレンズ成分（Ｌｉ）とを備え、第１面（Ｍ）上において所定方向に沿って延びたスリット状のパターンの像を第２面（Ｐ）に投影する反射屈折型の投影光学系。 - 特許庁

To provide a method of effectively removing, from a substrate, unwanted residues in the assist feature to be used for optical proximity compensation, when a feature pattern is printed on a substrate, using a lithographic projection system.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置を使ってマスク上の形態パターンを基板上にプリントする場合に、光学的近接補正のために利用する補助形態の不要な残留物を基板から効果的に除去する方法を提供すること。 - 特許庁

Phase difference between a detection phase cycle and a reference phase cycle is detected, based on the image of the periodic pattern 33 by a main control system 23, and based on the detection result, the imaging characteristics of the projection optical system 24 are corrected.例文帳に追加

主制御系２３により、前記周期パターン３３の像に基づく検出位相周期と前記基準位相周期との位相差を検出し、その検出結果に基づいて投影光学系２４の結像特性を補正する。 - 特許庁

The exposure apparatus, which exposes a substrate 40 through liquid LW, is provided with a projection optical system 30 which projects a pattern of an original 20 onto the substrate 40; and a substrate stage 45 which holds and moves the substrate 40.例文帳に追加

液体ＬＷを介して基板４０を露光する露光装置１において、原版２０のパターン像を基板４０上に投影する投影光学系３０と基板４０を保持し且つ移動する基板ステージ４５とを備える。 - 特許庁

A ball stored on an outlet rail 10e by a projection 10f of a center frame 10 is released by a ball release solenoid 15 driven according to the game player's button operation to win a prize in a pattern operation hole 4a.例文帳に追加

また、センターフレーム１０の突起１０ｆによって出口レール１０ｅ上に貯留された球は、遊技者のボタン操作に応じて駆動する球放出ソレノイド１５によって貯留解除されて図柄作動口４ａへ入賞する。 - 特許庁

To provide a headlight for a vehicle capable of making light beams of high luminous intensity incident along a nearly parallel line of a projection lens optical axis of reflection light from a light source, making vertically spectroscopic colors alleviated, and capable of restraining color unevenness on a light distribution pattern.例文帳に追加

光源からの反射光を投影レンズ光軸の略平行線上に高光度の光線を入射可能とし、上下分光色を緩和させ、配光パターン上の色ムラを抑制できる車両用前を提供する。 - 特許庁

To provide a headlight for a vehicle capable of making light beams of high luminous intensity incident along a nearly parallel line of a projection lens optical axis of reflection light from a light source, making vertically spectroscopic colors alleviated, and capable of restraining color unevenness on a light distribution pattern.例文帳に追加

光源からの反射光を投影レンズ光軸の略平行線上に高光度の光線を入射可能とし、上下分光色を緩和させ、配光パターン上の色ムラを抑制できる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive sheet suitable to be used for, for example, a projection capacitance type touch panel, allowing reduction of resistance of a transparent conductive pattern formed on a substrate, and also allowing improvement of visibility.例文帳に追加

基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な導電シートを提供する。 - 特許庁

A light source turning part 20 moves the light-emitting module 24 closer to a second focus of the substantial spheroid and allows light from the light-emitting module 24 to be directly incident on the projection lens 12 to form a high beam light distribution pattern.例文帳に追加

光源回転部２０は、発光用モジュール２４を略回転楕円面の第２焦点近傍に移動させ、発光用モジュール２４からの光を投影レンズ１２に直接入射させ、ハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁