「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, the GND pattern 2a of the inner substrate 2 is formed at a peripheral portion of the inner substrate 2 which comes into contact with at least the frame-inside projection portion 6.例文帳に追加

また、内装基板２のＧＮＤパターン２ａを、少なくともフレーム内側凸部６に当接する内装基板２の周辺部に形成する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional (3D) spatial information input device, capable of general high-accuracy measurement by merging a stereo method, and to provide a pattern projection method.例文帳に追加

ステレオ法とパターン投影法を融合し、汎用的で高精度な計測ができる３次元空間情報入力装置を提供する。 - 特許庁

The four ceramic pieces are formed uneven to a staircase pattern and are mutually fitted, and are further adhered to the side surface of the projection of the lower electrode.例文帳に追加

４個のセラミック片は階段状で段差になるように形成されて相互に契合し、さらに下部電極の凸部の側面に密着する。 - 特許庁

This position measurement system is provided with a plurality of concentric circle pattern projection devices 3a, 3b and 3c in the neighborhood of a display 2 of a computer (PC) 1.例文帳に追加

本位置計測システムは、コンピュータ（ＰＣ）１のディスプレイ２の近傍に複数の同心円模様投影装置３ａ，３ｂ，３ｃを備える。 - 特許庁

A 1st substrate 1 has a nonlinear groove 2, and at its projection part a land pattern part 4 for soldering is formed.例文帳に追加

本発明では、第１の基板１には、非直線状の溝２が設けられ、その凸部には、半田付け用のランドパターン部４が形成されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a trench element isolation region where a dummy projection region is formed in a predetermined pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域が所定のパターンで形成された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The slit type image is configured to generate a curved pattern image of a patterned radiation beam on the image flat plane of a projection system.例文帳に追加

スリット型の像は、パターニングされた放射ビームの湾曲パターンイメージ部分を投影システムの像平面に生成するように構成されている。 - 特許庁

To solve a problem that stereoscopic processing is difficult in a black area such as hairs in the case of finding a three-dimensional shape of an object by a pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法により対象物の三次元形状を求める際、髪の毛などの黒い領域ではステレオ処理が困難である。 - 特許庁

The projection type display includes a light source part 1, and a light valve 2 modulating light from the light source part 1 according to an image pattern.例文帳に追加

本実施形態の投影型表示装置は、光源部１と、光源部１からの光を画像パターンに応じて変調するライトバルブ２を備える。 - 特許庁

Projection of ink is suppressed by a first surface energy region 12b as a liquid-repellent surface and the step, and an edge of a pattern can be accurately formed.例文帳に追加

撥液面である第１の表面エネルギー部１２ｂと、段差によってインクのはみ出しが押さえられ、パターンのエッジを正確に形成出来る。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

In consequence, a desired pattern can be projected onto the substrate and can be exposed with accuracy at a projection magnification of 1:1 or x:1.例文帳に追加

その結果、前記基板上に所望のパターンを正確に投影倍率１：１またはｘ：１で投影させて露光させることができる。 - 特許庁

To provide an electron beam projection exposure system for efficiently determining the sectional shape of an electron beam for exposing to a pattern to be exposed to light.例文帳に追加

露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

An image of the trace where the laser beam 25 passes through the irradiated pattern is transferred to the sample face 103 through the projection lens 17 to fabricate.例文帳に追加

照射されたパターンのレーザービーム２５の通過した軌跡の像を投影レンズ１７を通じて試料面１０３に転写し、加工を行う。 - 特許庁

Moreover, optical characteristic of the projection type optical system is calculated (step 125) based on the position information of a plurality of detected pattern images.例文帳に追加

そして、検出された複数のパターン像それぞれの位置情報に基づいて、投影光学系の光学特性を算出する（ステップ１２５）。 - 特許庁

A stripe-shaped pattern from a projection device 52 is made to agree with a main beam of light LL in the center of the right half face 28R so as to be projected on a subject.例文帳に追加

投影装置５２からストライプ状のパターンを右半面２８Ｒの中心の主光線Ｌ_Lに一致させて被写体に投影する。 - 特許庁

To provide a system and method for altering pattern data capable of precisely compensating for a distortion or aberration of an image formed in a projection system.例文帳に追加

投影系に形成される像のディストーションまたは収差を精度よく補償できるのパターンデータの変更システム及び方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device and other fine-structured parts, by using a projection objective lens (5), the image of a pattern arranged in the object plane of the projection objective lens is projected on a photosensitive substrate arranged in the region of an image surface (12) of the projection objective lens.例文帳に追加

半導体素子およびその他の微細構造部品を製造する方法において、投影対物レンズ（５）を用いて、該投影対物レンズの物体平面内に配置されるパターンの像が、前記投影対物レンズの像面（１２）の領域内に配置される感光性基板上に投影される。 - 特許庁

To provide a rotor capable of changing a projection pattern for a blasting device for changing and moving a projection range, preventing a power- down of a blade 2, saving the energy by the concentrated projection, using the inexpensive blade 2 and easily changing the blades.例文帳に追加

本発明は投射範囲の変更や移動が出来ると共にブレード２のパワーダウンが防止でき、集中投射して省エネルギー化でき、且つ安いブレード２が使用出来ると共にその交換が容易に行えるブラスト装置用の投射パターン変更可能なローターを提供することを目的とする。 - 特許庁

The external light is reflected by upper end parts of the projection portions 31 and the valley portion 32 and a natural indistinct pattern which corresponds to an uneven shape portion consisting of the recessed grooves 21 and projection streak part 22 is viewed to appear to be straight-grained of ivory.例文帳に追加

外部光は、突条部３１の上端部、谷部３２で反射し、凹溝２１及び突条部２２で成る凹凸形状部に応じたぼんやりとした自然な縦縞模様が視認され、象牙の柾目のように見える。 - 特許庁

The exposure device exposes the substrate P by filling at least a part of space between a projection lens system PL and the substrate P with the liquid 50, and by projecting an image of the pattern on the substrate P through the projection lens system PL.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間の少なくとも一部を液体５０で満たすとともに、投影光学系ＰＬを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

In the oil immersion exposure device 100, a pattern of an original plate 2 is projected to a substrate 13 through a projection optical system 14 while an immersion space between a projection optical system 4 and the substrate 13 is filled with liquid.例文帳に追加

液浸露光装置１００は、投影光学系４と基板１３との間の液浸空間に液体を満たした状態で投影光学系１４を介して原板２のパターンを基板１３に投影する。 - 特許庁

Irregular reflection of light is generated by a fine projection/recession by transferring a recession/projection shape 7 of fabric pattern onto the surface and the fabric tone can be further expressed as compared with when it is expressed only by the coating film layer 5.例文帳に追加

表面に織物パターンの凹凸形状７を転写することにより、微細な凹凸による光の乱反射が起こり、塗膜層５だけで表現した時よりも更に布らしさを表現することができる。 - 特許庁

In the case of displaying a sand beach background image, a plurality of objects and a plurality of textures corresponding to images in the case of viewing the respective objects from a specified view point are used, and perspective projection is used as a projection pattern further.例文帳に追加

砂浜背景画像を表示させる場合には、複数のオブジェクトと、特定視点から各オブジェクトを見た場合の画像に対応した複数のテクスチャが用いられ、さらに投影パターンとして透視投影が用いられる。 - 特許庁

A stroboscope body 101 includes an infrared light emitting device 133 which irradiates the subject with AF auxiliary light by pattern light projection, and a xenon tube 136 which irradiates the subject with AF auxiliary light by illuminating light projection.例文帳に追加

ストロボ本体１０１は、パターン投光により被写体にＡＦ補助光を照射する赤外発光装置１３３と、照明投光により被写体にＡＦ補助光を照射するキセノン管１３６とを備える。 - 特許庁

As a result, the vehicular lamp fixture prevents the emission of light L7 from the projection lens 6 so long as the light is other than light of a given light distribution pattern projected from the projection lens 6 and is not under light distribution control.例文帳に追加

この結果、この発明は、投影レンズ６から投影される所定の配光パターン以外の光、すなわち、配光制御されていない光Ｌ７が投影レンズ６から出射されるのを防止することができる。 - 特許庁

The exposing device for exposing a substrate by projecting the image of an original pattern onto the substrate with the use of a projection optical system, includes a sensor for detecting light emitted from the projection optical system toward a substrate stage.例文帳に追加

原版のパターンの像を投影光学系によって基板に投影して前記基板を露光する露光装置であって、基板ステージ内に投影光学系から出射された光を検知するセンサを備える。 - 特許庁

In this position detection method, prior to the position detection of the projection image of reticle patterns RP1 and RP2, the projection image of the reticle patterns RP1 and RP2 is scanned at initial setting speed on a sensor pattern, and actual scanning speed is obtained.例文帳に追加

レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像の位置検出に先立って、そのレチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像をセンサパターン上で初期設定速度にてスキャンさせ、実際の実スキャン速度を求める。 - 特許庁

In addition, on the upper surface of the lower engraving fixture and the lower surface of the upper engraving fixture, diagonal parallel projections for knurling are formed at a mutually inverse angle of inclination and thereby, these projections appear as a line drawing projection in a reversal pattern and/or a mirror character projection.例文帳に追加

下側刻印治具の上面と上側刻印治具の下面に、ローレット加工用斜線平行突起を互いに逆傾斜角を有して突設し逆柄の線図突起及び/又は鏡文字突起を突設してある。 - 特許庁

The projection optical system which projects a pattern of a first object on a second object has a birefringence correction means, which corrects the birefringence property of the optical element included in the projection optical system.例文帳に追加

第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。 - 特許庁

The image forming characteristic fluctuation predicting method concerns predicting image forming characteristic fluctuation of the projection optical system in an exposing device for projecting a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate via a projection optical system.例文帳に追加

マスク上に形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影する露光装置における前記投影光学系の結像特性変動を予測する結像特性変動予測方法。 - 特許庁

A pattern is transferred to a resist film 12 on a wafer 11 with a reduced-projection exposure method, using a half-tone phase shift mask, formed by a translucent phase shift pattern comprising a thin film pattern 2a which has the function of dimmer body and a resist pattern 3a, having the function of photosensitive composite for adjusting the phase.例文帳に追加

減光体としての機能を有する薄膜パターン２ａと、位相調整用の感光性組成物としての機能を有するレジストパターン３ａとを有する半透明位相シフトパターンが形成されたハーフトン位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法によって、ウエハ１１上のレジスト膜１２にパターンを転写する。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus is provided with a radiation system for supplying a radiation projection beam, a support structure for supporting a patterning means that submits the projection beam to patterning according to a designed pattern, a substrate table for retaining a substrate and a projection system for projecting the beam that has been submitted to patterning to a target part of the substrate.例文帳に追加

放射の投影ビームを供給するための放射システムと、設計されたパターンに従って、投影ビームをパターニングする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、上記基板の目標部分にパターニングされたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

A lithography projection apparatus is provided with a substrate holder for supporting at least one substrate, a patternizing means for patterning a projection beam according to a desired pattern, and at least one vacuum chamber including a projection means for projecting the above patterned projection beam at the target portion of the above substrate.例文帳に追加

本発明は、さらに、少なくとも１つの基板を保持するための基板ホルダと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも１つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

Light generated from a light source 1 passes a pretreating lens group, and respective lattice patterns are formed by a measuring lattice pattern 22 and a position lattice pattern 23 in two frequency regions in a pattern prism 3, and light is projected from a projection lens 4 onto a measuring object 5.例文帳に追加

光源１より発生した光は、前処理レンズ郡２を通過し、パターンプリズム３で２つの周波数領域に測定格子パターン２２と位置格子パターン２３でそれぞれの格子パターンが作成され、投影レンズ４より測定対象物５に投影される。 - 特許庁

To provide a method and a device for creating pattern image capable of creating a pattern image to which an endless processing is applied by expressing a depth of field effect by using orthogonal projection and creating the pattern image with distinctive design.例文帳に追加

正射影を用いて被写界深度効果を表現することによりエンドレス処理の施された模様画像を作成することが可能であるとともに、個性的なデザインの模様画像を作成することが可能な模様画像作成方法および装置を提供する。 - 特許庁

In an intra-oral imaging apparatus 10, a fringe pattern generator emits a fringe pattern 50 having a predetermined spatial frequency with light in the approximate 350-500 nm range, a polarizer provides the fringe pattern illumination as linearly polarized light, and the incident light toward a tooth 20 is projected through a projection lens.例文帳に追加

約３５０〜５００ｎｍの波長域に属する照明光に口腔内撮像装置１０のフリンジパターン発生器で所定空間周波数のフリンジパターン５０を付与し、偏光器で直線偏向させた後に投射レンズを介し歯牙２０に向け照射する。 - 特許庁

In a projection exposure of a photo mask pattern of a photo mask on a surface to be exposed by irradiating the photo mask pattern with the light from an exposure light source in a projection optical system, the concentration of an inert purge gas containing a specified quantity of inert gas filled in a space contacting a pellicle film is measured to execute the projection exposure with controlling the concentration of the inert gas.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して前記フォトマスクパターンの像を投影光学系により被露光面に投影露光する際、ペリクル膜に接し、所定量の活性ガスを含む不活性ガスからなるパージガスで満たされた空間の前記活性ガスの濃度を測定し、前記活性ガスの濃度を制御しながら投影露光を行う。 - 特許庁

To provide a projection exposure device which enables a mask and an exposed body to be positioned with high precision as a projection exposure device which forms an image of a mask on an exposed body coated with a photosensitizer by a projection optical system after transmitting luminous flux emitted by a light source through the mask where a specified pattern is formed and then transfers the specified pattern to the exposed body.例文帳に追加

光源の発する光束を所定のパターンが形成されたマスクに透過させたうえで投影光学系によって前記マスクの像を感光剤が塗布された被露光体上で結像させ、前記所定のパターンを前記被露光体に転写する、投影露光装置であって、マスクと被露光体との高精度の位置合わせが可能な投影露光装置を提供することである。 - 特許庁

Then, the pachinko game machine is provided with a projection part 78 and a support hole 74 for supporting the pattern display unit 72 and the attatchment bases 76a and 76b in a hooked state when the pattern display unit 72 is attached or detached.例文帳に追加

そして、該パチンコ機には、上記図柄表示ユニット７２が着脱される際に、該図柄表示ユニット７２と取り付け台７６ａ，７６ｂとを掛け止め状態に支持させる突起部７８と支持穴７４とを備えさせる。 - 特許庁

As respective small accessory symbols on a reel, the symbols composed of a pattern display area 26 where a pattern is arranged and four projection parts 27a, 27b, 27c and 27d respectively turned from the respective sides of the area 26 to an outer side direction are set.例文帳に追加

リール上の各小役シンボルとして、図柄が配置された図柄表示領域２６と、この領域２６の各辺よりそれぞれ外側方向に向かう４個の突出部２７ａ，２７ｂ，２７ｃ，２７ｄとから成るシンボルを設定する。 - 特許庁

Further, since a whole pattern stopping command 38 is not received, the pattern displayed before the power cut can be displayed again when the power is on again without outputting test projection testing information to the outside (such as a connector 20).例文帳に追加

更に、全図柄停止コマンド３８を受信していないので、外部（コネクタ２０等）に試射試験情報を出力することなく、電源断前に表示されていた図柄を電源再入時に再表示することができる。 - 特許庁

To provide a vehicle headlamp of projection type capable of forming selectively a low-beam light distribution pattern suitable for normal driving and a low-beam light distribution pattern suitable for high speed driving by moving a light source.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、その光源の移動により、通常走行に適したロービーム用配光パターンと高速走行に適したロービーム用配光パターンとを選択的に形成可能とする。 - 特許庁

Each light distribution pattern formed of each light source module 10a to 10d is set by changing curvatures of the projection lens, and the low-beam light distribution pattern is formed by synthesis of those light distribution patterns.例文帳に追加

各光源モジュール１０ａ〜１０ｄで形成される夫々の配光パターンは投影レンズの曲率を変えることで設定され、それら配光パターンの合成によってすれ違いビーム用配光パターンが形成される。 - 特許庁

A unit substrate 19 is constituted so that conductive substance 17 charges a through hole 16 of a polyimide sheet 11 wherein a wiring pattern 13 is formed and conductive substance is subjected to slight projection 18 from a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターン13が形成されたポリイミド製シート11のスルーホール16に導電性物質17を充填して成るユニット基板19の前記導電性物質が前記配線パターンより僅かに突出18するようにしたプリント回路板。 - 特許庁