「projection pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

In the case where the projected adjustment pattern video image 4 is generating trapezoidal distortion, this is corrected on the projection screen 5, a projection range on the projection screen 5 is determined, and coordinates of the projection range on the display device are acquired.例文帳に追加

投写された調整パターン映像４が台形歪を生じている場合は、投写面５上においてこれを補正して、投写面５上における投影範囲を確定するとともに表示デバイス上における投影範囲の座標を取得する。 - 特許庁

The end 35 of the print pattern 12 to which the end 30 is soldered is in a rectangular projection shape projecting from an edge 12a of the print pattern 12.例文帳に追加

端部３０が半田付けされるプリントパターン１２の端部３５は、プリントパターン１２の縁１２ａから突出された矩形状の凸状をしている。 - 特許庁

The plurality of stripe patterns projected by the projection system are inclination pattern light where each has concentration gradient and are composed by the multivalue pattern.例文帳に追加

投光系にて投射される複数のストライプパターンは、それぞれが濃度勾配を持った傾斜パターン光であり、かつ多値のパターンにより構成される。 - 特許庁

The pattern generator is used to pattern light from an illumination system, and the light is directed by a projection optical system onto a substrate to form features.例文帳に追加

照射システムからの光をパターニングするためにパターンジェネレータが使用され、光は投影光学系によって基板上に配向されてフィーチャが形成される。 - 特許庁

At stops of the reel rotation, optical images 46 of the patterns allotted in the pattern areas 42 are projected on the projection parts 42c of the pattern areas 42.例文帳に追加

リールが回転を停止したときは、図柄領域４２の投影部４２ｃにその図柄領域４２に割り当てられている図柄の光学像４６を投影する。 - 特許庁

An exposure mask comprises a mask pattern which is transferred to a substrate through a projection optical system of the exposure system and includes a Fresnel zone plate pattern.例文帳に追加

露光装置の投影光学系を介して基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクにおいて、マスクパターンはフレネルゾーンプレートパターンを含む。 - 特許庁

To provide a decorative building board which is able to form a desired pattern without any indistinct portion in the consecutive pattern covering a recess and a projection.例文帳に追加

凹部と凸部に亘って連続する絵柄に不鮮明な部分がなくなって所望の絵柄を形成することができる化粧建築板を提供する。 - 特許庁

To provide a crystallized glass article for building which has a clear projection-shaped pattern free from glass defects in the surface, and to provide a method for producing a crystallized glass article for building which forms a projection-shaped pattern by heat treatment.例文帳に追加

表面にガラス欠陥がない明確な凸状模様を有する建築用結晶化ガラス物品、及び熱処理により凸状模様を形成する建築用結晶化ガラス物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposure equipment comprises: a pattern generation part PG which generates a pattern with a predetermined resolution; and an optical device PL which projects an image of a pattern generated at the pattern generation part onto a member to be exposed S with a predetermined resolving power and a predetermined projection magnification.例文帳に追加

所定の解像度でパターンを生成するパターン生成部ＰＧと、パターン生成部で生成されたパターンの像を所定の分解能及び所定の投影倍率で被露光部材Ｓに投影する光学装置ＰＬとを備える。 - 特許庁

As the coated article, the substrate provided with the decoration pattern formed by the recession/projection surface is coated in the pattern surface facing in a constant direction; and further, coating by different colors on every pattern surface facing in a constant direction is applied onto the substrate provided with the decoration pattern formed with the recession/projection surfaces.例文帳に追加

塗装品として、凹凸面により形成された装飾模様を刻設した基材に、一定方向に面する模様面に塗装を施すことを特徴とし、また、凹凸面により形成された装飾模様を刻設した基材に、一定方向に面する模様面毎に異なる色による塗装を施すことを特徴とする。 - 特許庁

A pattern in a rugged pattern opposite to a target fine rugged structure is formed by using resin projection stripes arranged on a substrate surface; and the recesses of the pattern are filled with a dielectric layer by a film forming method.例文帳に追加

基板表面に配列された樹脂の凸条によって目的の微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成し、成膜法によってそのパターンの凹部を誘電体層で充填する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape detector capable of detecting precisely pattern light from a pattern light projection image of a picked-up image of an object under the condition projected with the pattern light.例文帳に追加

パターン光が投光された状態の対象物体を撮像したパターン光投光画像からパターン光を高精度で検出することができる３次元形状検出装置を提供する。 - 特許庁

A pattern is formed on the substrate by the pattern projection unit 14 during the driving (or in synchronism with the driving) and thus the formation of the pattern in an area of specified size on the substrate, i.e. exposure becomes possible.例文帳に追加

その駆動中に（又はその駆動に同期して）パターン投影ユニット１４で基板上にパターンを形成することで、基板の所定面積の領域に対するパターンの形成、すなわち露光が可能となる。 - 特許庁

A stripe pattern which human beings cannot sense is drawn on the video projection screen 1, and when the stripe pattern is imaged with the imaging device, it is drawn so as to generate a stripe-like pattern due to aliasing.例文帳に追加

映像投影スクリーン１には、人が感知できない縞模様が描かれており、この縞模様は撮像装置により撮像されたとき、エイリアシングによる縞状のパターンを生じさせるように描かれている。 - 特許庁

The line pattern structure comprises an extending line adjacent to the first line pattern positioned in an outermost and parallel with the first line pattern; and a second line pattern having at least one projection pattern projecting from the extending line toward the first line patten in a region adjacent to the cut-off part of the first line pattern.例文帳に追加

最外郭に位置する前記第１ラインパターンと隣り合って前記第１ラインパターンと平行した延在ラインと、前記第１ラインパターンの切断部位と隣接する領域で前記第１ラインパターン方向へ向かうように前記延在ラインから突出された少なくとも１つの突出パターンを含む２つの第２ラインパターンを含む。 - 特許庁

To provide a reflection type projection exposure mask blank such that a pattern of a reflection type mask can be transferred onto a wafer with high precision, to provide a reflection type projection exposure mask, and to provide a method of manufacturing the reflection type projection exposure mask.例文帳に追加

高精度に反射型マスクのパターンをウエハ上に転写することが可能な反射型投影露光マスクブランク、反射型投影露光マスク及び反射型投影露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A board is exposed at a specified pattern through a projection optical system after projection magnification of the projection optical system is adjusted based on measurement result of a mark formed on the board placed on a board stage.例文帳に追加

基板ステージ上に載置された基板上に形成されているマークの計測結果に基づいて投影光学系の投影倍率を調整した後に、投影光学系を介して基板を所定パターンで露光する。 - 特許庁

In a method for irradiating the mask pattern of a photomask with light from an exposure light source and projection-aligning the image of the mask pattern on the surface to be exposed of a substrate to be treated by a projection optical system, the photomask is housed in a casing and scanned to be projection-aligned together with this housing.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスクのマスクパターンを照射して、マスクパターンの像を、投影光学系により被処理基板の被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを筐体に収容し、この筐体ごと走査して投影露光を行う。 - 特許庁

A light intensity distribution of a projection image of a mask pattern is simulated, the area of a projection image satisfying specified light intensity on a substrate is calculated according to the light intensity distribution obtained by the simulation, and pattern formation conditions are adjusted according to the area of the projection image.例文帳に追加

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。 - 特許庁

To project a linear pattern using a coherent light source, while restricting generation of speckle in a projection surface.例文帳に追加

コヒーレント光源を用いて線状パターンの投影を行いつつ、投影面でのスペックルの発生を抑制する - 特許庁

A fill light projection part that includes a luminescence unit and a spectroscopic prism projects a focus detection pattern onto a subject.例文帳に追加

補助光投影部は、発光ユニットと分光プリズムとを有し、焦点検出用パターンを被写体に投影する。 - 特許庁

To provide a focus adjustment device in which a time required for performing focus detection is shortened in a pattern projection system.例文帳に追加

パターン投影方式の焦点検出において、所要時間の短い焦点調節装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for exposing a resist layer on a substrate to an image of a pattern on a mask, and a lithographic projection apparatus.例文帳に追加

基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for exposing a resist layer of a substrate to a mask pattern image, and provide a lithography projection apparatus.例文帳に追加

基板上のレジスト層をマスクの模様の像に露光する方法、およびリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

By contriving the projected image (test pattern or the like), processing for simultaneously processing image projection and image reading is realized.例文帳に追加

また、投射画像を工夫して（テストパターン等）、画像投射と画像読み取りを同時に処理する等を行う。 - 特許庁

A position determination processing unit 50 determines a position of the projection lens based on the test pattern image projected onto a screen.例文帳に追加

位置判定処理部５０はスクリーンに投影されるテストパターン画像に基づき、投影レンズの位置を判定する。 - 特許庁

To provide a projection display device that prevents color bleeding and decreases the occurrence of interference pattern.例文帳に追加

色にじみを抑え且つ干渉縞の発生を低減する投射型表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The exposure device transfers a pattern formed on an original plate 2 through a projection optical system 5 to a substrate 8.例文帳に追加

原版２に形成されたパターンを投影光学系５を介して基板８に転写する露光装置に関する。 - 特許庁

To provide a sponge roll which has high productivity and is adaptable to even a complicated arrangement (pattern) of projection streaks on the surface.例文帳に追加

生産性が高く、表面の凸条配置（パターン）が複雑なものでも対応可能なスポンジロールを提供する。 - 特許庁

To accurately transfer a pattern having a line of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or space.例文帳に追加

露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁

To provide a projection lens inspection device for easily modifying the color of illumination light and a test pattern.例文帳に追加

照明光の色及びテストパターンを容易に変更することができる投写レンズ検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a means for efficiently obtaining projection data of a variety of slice widths (slice pattern) by a single scan.例文帳に追加

１回のスキャンで多様なスライス幅（スライスパターン）の投影データを能率良く取得可能なことを課題とする。 - 特許庁

A substrate conveying device conveys a substrate subjected to exposure by a pattern image through a projection optical system and liquid.例文帳に追加

基板搬送装置は、投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する。 - 特許庁

Then the manufactured mask is set to the plurality of projection optical units and the mask pattern is transferred onto the substrate by exposure.例文帳に追加

そして、製造されたマスクを複数の投影光学ユニットに対して設定し、マスクのパターンを基板へ露光する。 - 特許庁

The intersecting points with segments extending radially from the center are calculated with respect to a reflected image of a projection ring-shaped pattern.例文帳に追加

投影リング状パターンの反射像に対して、中心から放射状に伸びる線分との交点を求める。 - 特許庁

The image of a pattern is projected, by exposure light, to a substrate 112 through the optical element of a projection optical system 114.例文帳に追加

露光光によりパターンの像を投影光学系１１４の光学素子を介して基板１１２に投影する。 - 特許庁

The background object and the picture pattern object are set on a projection plane set on the basis of the viewpoint (T6).例文帳に追加

視点に基づいて設定された投影平面に、背景オブジェクトおよび図柄オブジェクトを設定する（Ｔ６）。 - 特許庁

3-DIMENSIONAL INFORMATION ACQUISITION DEVICE, PROJECTION PATTERN IN 3-DIMENSIONAL INFORMATION ACQUISITION AND 3- DIMENSIONAL INFORMATION ACQUISITION METHOD例文帳に追加

３次元情報取得装置、３次元情報取得における投影パターン、及び、３次元情報取得方法 - 特許庁

WAVEFORM ANALYZING DEVICE, WAVE FORM ANALYSIS PROGRAM, INTERFEROMETER DEVICE, PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING DEVICE, AND WAVEFORM ANALYSIS METHOD例文帳に追加

波形解析装置、波形解析プログラム、干渉計装置、パターン投影形状測定装置、及び波形解析方法 - 特許庁

In this exposure method, a reticle 13 having a larger pattern area than the object side visual field of the projection optical system 16 is used.例文帳に追加

投影光学系（１６）の物体側視野よりも大きいパターン領域を有するレチクル（１３）を用いる。 - 特許庁

The pattern image of a reticle R is transferred onto a wafer W via a reflection-refraction projection optical system RL.例文帳に追加

レチクルＲのパターンの像を反射屈折型の投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁

To provide a shot peening device capable of forming a specified projection pattern with an excellent energy efficiency.例文帳に追加

エネルギー効率が良好で所望の投射パターンを形成することができるショットピーニング装置を提供する。 - 特許庁

The manufactured product is the phase shifter optical element having a fine pattern formed by the repetition of a projection and a recess on the surface thereof.例文帳に追加

製造される物品は表面に微細な凹凸の繰返しパターンをもつ位相シフター光学素子である。 - 特許庁

To accurately transfer a pattern having lines of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or a space.例文帳に追加

露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁

In the mating portion 22, a positioning projection 17 is formed on the front surface of a circuit pattern 15 of the FPC 10.例文帳に追加

嵌合部２２において、ＦＰＣ１０の配線パターン１５の表面には、位置決め突起１７が形成される。 - 特許庁