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reaction processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 605件
CARTRIDGE FOR CHEMICAL REACTION AND CHEMICAL REACTION PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
化学反応用カートリッジおよび化学反応処理システム - 特許庁
VAPOR PHASE REACTION PROCESSOR AND VAPOR PHASE REACTION PROCESSING METHOD例文帳に追加
気相反応処理装置および気相反応処理方法 - 特許庁
REACTION SUPPRESSING STRUCTURE AND PROCESSING DEVICE例文帳に追加
反動抑制構造及び加工装置 - 特許庁
RAW MATERIAL VAPORIZER, AND REACTION PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
原料気化器及び反応処理装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR REACTION TYPE INFORMATION PROCESSING例文帳に追加
反応型情報処理装置及び方法 - 特許庁
Reaction gas is introduced into the processing chamber 10.例文帳に追加
処理チャンバー10内に反応ガスを導入する。 - 特許庁
SAMPLE PROCESSING APPARATUS, SAMPLE PROCESSING METHOD AND REACTION CONTAINER USED THEREFOR例文帳に追加
試料処理装置、試料処理方法、およびこれらに使用する反応容器 - 特許庁
A reaction gas for processing the substrate 14 flows through the processing space 50.例文帳に追加
処理空間50には、基板14を処理する反応ガスが流通する。 - 特許庁
To provide a cartridge for chemical reaction and a chemical reaction processing system enabling versatile and diversified processing.例文帳に追加
汎用的で多様な処理を可能とした化学反応用カートリッジおよび化学反応処理システムを提供する。 - 特許庁
The preliminary reaction plasma processing chamber is constituted so as to generate reaction radicals, by subjecting to chemical reaction based on the plasma of a reaction substance.例文帳に追加
予備反応プラズマ処理チャンバは、反応物質のプラズマに基づく化学反応を行って反応基を生成するように構成されている。 - 特許庁
To provide a reaction processor for automatically and accurately processing a reaction by using a reaction vessel plate.例文帳に追加
反応容器プレートを用いて自動的にかつ正確に反応処理を行なうことができる反応処理装置を提供する。 - 特許庁
Measurement processing is carried out even during the reaction time T1.例文帳に追加
反応時間T1中も、測定処理は実行されている。 - 特許庁
A system for processing large quantities of the reaction medium while maintaining the reaction medium in sheets.例文帳に追加
反応媒体をシート状に維持しながら、大量の反応媒体を処理するためのシステム。 - 特許庁
Surface of the glass substrate A is subjected to film deposition processing or etching processing in a reaction chamber 2.例文帳に追加
反応室2でガラス基板Aの表面に成膜処理あるいはエッチング処理をする。 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND REACTION TUBE FOR PROCESSING SUBSTRATE例文帳に追加
基板処理装置及び半導体装置の製造方法及び基板処理用反応管 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING REACTION VESSEL FOR PLASMA GENERATION, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
プラズマ処理装置、プラズマ生成用の反応器の製造方法、及びプラズマ処理方法 - 特許庁
DISPENSING TIP DRIVE MECHANISM, AND REACTION KIT PROCESSING DEVICE EQUIPPED THEREWITH例文帳に追加
分注チップ駆動機構及びそれを備えた反応キット処理装置 - 特許庁
This substrate processing device is provided with a reaction vessel for processing a substrate and a heating device for heating the substrate in the reaction vessel.例文帳に追加
基板を処理する反応容器と、この反応容器内の基板を加熱する加熱装置とを備えた基板処理装置に関する。 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND REACTION TUBE例文帳に追加
基板処理装置、半導体装置の製造方法、および反応管 - 特許庁
REACTION/PROCESSING APPARATUS FOR CIRCULATION TYPE LIQUID OR SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE例文帳に追加
循環型液体又は超臨界二酸化炭素反応/処理装置 - 特許庁
In the wafer surface processing method involving chemical processing, the chemical processing is characterized by including a reaction controlling processing step, and a diffusion controlling processing step following the reaction controlling processing step.例文帳に追加
化学処理を伴うウェーハ表面処理方法であって、前記化学処理が、反応律速型処理工程と、該反応律速型処理工程に続く拡散律速型処理工程とを含むことを特徴とする、ウェーハ表面処理方法。 - 特許庁
A substrate processing apparatus comprises a heater 206 provided outside a reaction container for processing substrates.例文帳に追加
基板処理装置は、基板を処理する反応容器の外側に設けられたヒータ206を有する。 - 特許庁
A processing system, based on previously loaded plasma, is provided with a preliminary reaction plasma processing chamber, a power source connected to the preliminary reaction plasma processing chamber so as to drive the chamber and a wafer plasma processing chamber connected to the preliminary reaction plasma processing chamber through fluid.例文帳に追加
事前ロードしたプラズマに基づく処理システムは、予備反応プラズマ処理チャンバと、この予備反応プラズマ処理チャンバと動作可能に連通して配置された電力源と、予備反応プラズマ処理チャンバと流体連通して配置されたウエハプラズマ処理チャンバとを具備する。 - 特許庁
Arithmetic processing system 2 determines which reaction of the oxidation reaction and the reduction reaction occurs preferentially in accordance with the result of the computation.例文帳に追加
演算処理手段2は、演算結果に基づき、該酸化反応と該還元反応のうち、どちらの反応が優先的に起こるかを決定する。 - 特許庁
As the result of the oxygen plasma processing, the reaction product 14 is removed.例文帳に追加
この酸素プラズマ処理の結果、反応生成物14が除去される。 - 特許庁
SUPPLY STRUCTURE FOR VAPORIZED RAW MATERIAL, RAW MATERIAL VAPORIZER AND REACTION PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
気化原料の供給構造、原料気化器及び反応処理装置 - 特許庁
A Sabatier reaction chamber 20 is stored inside a processing chamber 3.例文帳に追加
処理室3の内部にはサバティエ反応室20が収容されている。 - 特許庁
In the crystallization reaction device, raw water is introduced from the lower part of the reaction column 2 and a part of processing water is taken out from the upper part of the reaction column 2 and is circulated to the lower part of the reaction column 2.例文帳に追加
原水を反応塔2の下部から導入し、処理水の一部を反応塔2の上部より取り出して反応塔2の下部に循環させる晶析反応装置。 - 特許庁
The reaction force processor 1 is equipped with a reaction force processing actuator 2 which applies a counter thrust that reduces the reaction force f_r on the table 11.例文帳に追加
この反力処理装置1は、反力frを低減する力であるカウンタ推力を定盤11に印加するための反力処理アクチュエータ2を備えている。 - 特許庁
To provide a biological sample reaction method for enabling a reaction process with the minute quantity of a reaction liquid, and for efficiently processing a plurality of specimens at once.例文帳に追加
微量な反応液での反応処理が可能であり、また一度に多くの検体の処理を効率よく行うことが可能な、生体試料反応方法を得る。 - 特許庁
Hereby, an enzyme reaction and an electrode reaction in the reaction layer 9 are proceeded smoothly, to thereby quicken the analysis processing and to improve an analysis efficiency.例文帳に追加
従って、反応層9による酵素反応と電極反応とが円滑に進み、分析処理の迅速化と分析効率の向上を図ることができる。 - 特許庁
To provide a semiconductor processing apparatus which eliminates a defect caused from a reaction product produced in a reaction pipe, and controls deterioration of processing performance; and to provide a semiconductor processing method.例文帳に追加
処理性能の低下を抑制しつつ、反応管内に生じた反応生成物による不具合を解消する半導体処理装置および半導体処理方法を提供する。 - 特許庁
The warming-up processing section 4 consists of a second reaction chamber water quality data setting section 41, a variable model parameter setting section 42, a water quality stabilization processing section 43 and a reaction chamber water quality data saving processing section 44.例文帳に追加
このウォーミングアップ処理部4は、反応槽水質データ第2設定部41と、可変モデルパラメータ設定部42と、水質安定化処理部43と、反応槽水質データ保存処理部44とからなる。 - 特許庁
To change a processing range in which objects are recognized according to a reaction time.例文帳に追加
反応時間に従って、対象物が認識される処理範囲を変更する。 - 特許庁
BIO-CHIP, FLUORESCENT SIGNAL PROCESSING METHOD AND HYBRIDIZATION REACTION RESULT DISPLAY METHOD例文帳に追加
バイオチップ、蛍光シグナル処理方法及びハイブリダイゼーション反応結果表示方法 - 特許庁
To provide a water-soluble silicone processing liquid that can suppress generation of hydrogen by reaction of silicone and a processing liquid during processing of silicone.例文帳に追加
シリコンの加工において、シリコンと加工液との反応による水素の発生を抑制できる水溶性シリコン加工液を提供すること。 - 特許庁
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