「reaction processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of symmetrically and uniformly generating a plasm density distribution throughout the center part and an outer periphery by forming openings for entering a processing gas at the center part of the lower part in a reaction chamber and a side surface thereof and by providing fan-shaped antennas below the reaction chamber.例文帳に追加

反応チャンバ内の下部中央部及び側面に処理ガスの流入口を形成し、反応チャンバ下部に扇形アンテナを具備することでプラズマ密度分布を中央部と外郭にかけて対称的でかつ均一に発生させることができる誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To restrain production of CO gas caused by the reaction of carbon in granulated iron, to improve strength of slag after melting and refining processing, to reduce unit consumption of fuel in melting and refining processing and to increase the recovery quantity of metals, by devising the structure of a vessel for melting and refining of steelmaking slag used as a reaction vessel, in the melting and refining processing of the steelmaking slag.例文帳に追加

製鋼スラグの溶融改質処理に反応容器として使用される製鋼スラグの溶融改質用容器の構造を工夫することにより、粒鉄中の炭素の反応によるＣＯガスの発生を抑制し、溶融改質処理後のスラグの強度を向上させ、溶融改質処理時の燃料原単位を低減し、かつ、地金の回収量を増加させる。 - 特許庁

The method for producing a pleat product includes an immersion process 3 for immersing a cloth containing a cellulose-based fiber in a processing liquid containing a glyoxal-based resin, a reaction catalyst for promoting the reaction of the glyoxal-based resin and a silk protein; a drying process 4 for dehydrating or evaporating the processing liquid from the cloth; and a pleat processing process 5 for pleating the cloth in a dry hot state.例文帳に追加

セルロース系繊維を含む生地を、グリオキザール系樹脂、当該グリオキザール系樹脂の反応を促進させる反応触媒および絹タンパク質を含む加工液に浸漬する浸漬工程３と、生地から加工液を脱水、または蒸発させる乾燥工程４と、生地に乾熱状態でプリーツ加工するプリーツ加工工程５と、を含むプリーツ製品の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for drilling a printed circuit board while enabling high-speed and high-accuracy processing by reducing the vibration of a device which occurs due to the driving reaction of a drill when drilling, and to provide a processing machine for the printed circuit board.例文帳に追加

穴明け加工時にドリルの駆動反力により発生する装置振動の低減を図り、高速で高精度な加工ができるプリント基板の穴明け方法及びプリント基板加工機を提供すること。 - 特許庁

When a depression coordinate is in the marginal region 13, a CPU 14 selects one processing among processings corresponding to the button reaction region RR, based on the depression coordinate and executes the selected processing.例文帳に追加

ＣＰＵ１４は、押下座標が余白領域１３の領域内の場合に、その押下座標に基づいて、ボタン反応領域ＲＲに対応する処理のうち何れかの処理を選択し、選択した処理を実行する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method capable of removing a reaction product or a hard mask from a treated workpiece immediately after etching processing, and to provide an etching processing method and a manufacturing method of an electronic device.例文帳に追加

本発明は、エッチング処理直後に被処理物から反応生成物やハードマスクなどの除去を行うことのできる表面処理方法、エッチング処理方法、および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The coating with the phosphate metallic salts is conducted by preliminarily operating the reaction processing of the surface of the magnetic powder beforehand with the single or mixed solution of each processing agent in a phosphoric acid system, zinc phosphate system, manganese phosphate system, iron phosphate system, or calcium phosphate system.例文帳に追加

燐酸金属塩での被覆は、磁性粉末表面を、燐酸、燐酸亜鉛系、燐酸マンガン系、燐酸鉄系、または、燐酸カルシウム系の各処理剤の単独または混合溶液で予め反応処理する。 - 特許庁

To provide a parallel flat plate type plasma processing apparatus which does not cause problems due to an abnormal discharge and can solve problems caused by reaction products sticking on an electrode, and to provide a plasma processing method.例文帳に追加

異常放電による問題が生じず、かつ電極に付着する反応生成物に起因する問題を解消することができる平行平板型のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁

When at least two plasma processing steps are performed in the same plasma reaction chamber, CW AC power or pulse modulated AC power is selected properly as plasma processing power at each step.例文帳に追加

少なくとも２のプラズマ処理工程を同一のプラズマ反応室内で行う場合に、各工程においてプラズマ処理用の電力としてＣＷ交流電力またはパルス変調された交流電力を適宜選択する。 - 特許庁

According to the plasma processing apparatus, a process gas is taken in from a suction port 28 formed in an electrode 20, so that the adherence of the reaction product from the reaction between a radical and a substrate 16 to the surface of the substrate 16 can be suppressed.例文帳に追加

このプラズマプロセス装置によれば、電極２０に形成された吸引口２８から、プロセスガスを吸い込むので、ラジカルと基板１６の表面との反応で生成した反応生成物が基板１６の表面に付着することを抑制できる。 - 特許庁

In the device for a plasma process by arranging a cylindrical substrate 109 in a reaction container that forms a decompressible plasma processing space 106, an electrode 103 for introducing a discharging electric power is disposed outside the reaction container.例文帳に追加

減圧可能なプラズマ処理空間１０６を形成する反応容器内に円筒状基体１０９を配置しプラズマ処理を行う装置において、その反応容器外に、放電電力を導入するため電極１０３が配置されている。 - 特許庁

To provide a preparation method for an activated catalyst for FT synthesis reaction in a fuel oil production facility by FT synthesis reaction by a simplified step dispensing with a special equipment, and without applying stabilization treatment by coating processing.例文帳に追加

ＦＴ合成反応による燃料油製造設備において、特別な設備を必要とせず、被覆処理による安定化処理を施すことなく、簡略化された工程によるＦＴ合成反応用活性化触媒の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent condensation occurring when reaction solutions in sealed vessels are heated in a nucleic acid analyzer for performing sequential processing in which individual reaction vessels are sequentially fed to a nucleic acid amplification unit in a given cycle.例文帳に追加

本発明の目的は、個々の反応容器が核酸増幅部へ一定の周期で順次投入される連続処理の核酸分析装置において、密閉容器内の反応溶液の加熱に伴って発生する結露を防止することに関する。 - 特許庁

Two layers of an inert substance layer 28 which is not reactive to the gelatinous substance 21 and the water layer 29 for stabilization as solid-state by-product 30 through reaction with the gelatinous substance 21 are provided within a mixed reaction vessel 33 of the processing apparatus 20.例文帳に追加

処理装置２０の混合反応槽３３には、ゲル状物質２１とは反応しない不活性物質層２８と、ゲル状物質２１と反応して固体生成物３０として安定化させる水層２９との二層が備えられている。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a reaction tube, improved in sealing, preventing the leakage of a cleaning gas from a reaction furnace, and enabling use of HCl gas as a cleaning gas in a vertical furnace for high temperature processing of a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

半導体製造装置の高温処理用縦型炉に於いてシール性を向上させ、クリーニングガスが反応炉より漏出することを防止し、クリーニングガスとしてＨＣｌガスの使用を可能とした反応管のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

The reaction force processing operation part 90 comprises a cancel thrust operation part 92 to which the stage drive command (b) is input and drivers 94a to 94d for generating a drive signal (f) corresponding to a reaction force drive command (e) from the cancel thrust operation part 92.例文帳に追加

反力処理演算部９０は、ステージ駆動指令ｂが入力されるキャンセル推力演算部９２と、キャンセル推力演算部９２からの反力駆動指令ｅに応じた駆動信号ｆを生成するドライバ９４ａ〜９４ｄとを有する。 - 特許庁

The processing method for the reducing slag has a reaction step of: infiltrating the reducing slag with water, which contains Cr, has a basicity ([%CaO]/[%SiO_2]) of 1.5 or more and contains 0.1 mass% or more S; and causing a reaction in the resultant reducing slag at 80°C of higher.例文帳に追加

Ｃｒを含み、塩基度（[％ＣａＯ]／[％ＳｉＯ_2]）が１．５以上であり、Ｓ含有量が０．１ｍａｓｓ％以上である還元スラグを水で浸潤させ、８０℃以上の温度で反応させる反応工程を備えた還元スラグの処理方法。 - 特許庁

To provide a microwave heating device that performs large-amount processing in which a microwave is branched from a single microwave oscillation source to a plurality of reaction fields to irradiate the respective reaction fields with the microwave while continuously supplying a chemical liquid, and the respective reaction fields are brought under independent heating control in parallel simultaneously without exerting any influence of reflected waves generated in other reaction fields.例文帳に追加

単一のマイクロ波発振源から複数の反応場にマイクロ波を分岐させ、各反応場に薬液を連続的に流しながらマイクロ波を照射し、各反応場を並列して、各反応場を同時に、他の反応場で生じた反射波の影響を受けることなく各々の反応場を独立に加熱制御することができ多量処理が可能なマイクロ波加熱装置を提供する。 - 特許庁

The image data processing part 18 has an extraction processing part 18a extracting the contour of a reaction image of blood, and a detection processing part 18b detecting an image not originated from blood based on the number of intersecting points between straight lines passing inside a closed curve which forms the contour, and the closed curve.例文帳に追加

画像データ処理部１８は、血液の反応像の輪郭を抽出する抽出処理部１８ａと、輪郭を構成する閉曲線内を通る直線と閉曲線との交点の数に基づいて、血液に由来しない像を検知する検知処理部１８ｂとを備えている。 - 特許庁

To provide a substrate-processing apparatus with a plurality of process gases alternately supplied to the processing chamber for processing substrates, wherein the evacuation pipe clogging by reaction by-products is suppressed, even if the exhaust pipe is prolonged, by preventing the occurrence of a low-temperature region in the evacuation pipe, on the secondary side of a vacuum pump.例文帳に追加

処理室に複数の処理ガスを交互に供給して基板を処理する基板処理装置において、真空ポンプの２次側の排気管から低温部を無くすことによって、排気管の配管長が長くなっても、反応副生成物による排気管の詰まりを抑制できるようにする。 - 特許庁

A gas supply nozzle 4 drawn from the throat flange 7 is extended from the throat space 21 to the substrate processing space 20, and a reaction gas is directly introduced into the substrate processing space 20 so that the contaminant in the throat space 21 is not intruded into the substrate processing space 20.例文帳に追加

炉口フランジ７から導入したガス供給ノズル４を炉口部空間２１から基板処理空間２０まで延在させ、反応ガスを直接基板処理空間２０内に導くようにして、炉口部空間２１内の汚染物質を基板処理空間２０に巻きこまないようにする。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can reduce the number of replenishing a liquid raw material to a tank while maintaining controllability in supplying a reaction gas, in the substrate processing apparatus in which the liquid raw material is vaporized and supplied to a processing chamber using the small tank for storing the liquid raw material.例文帳に追加

液体原料を貯蔵するタンクに小型のものを用いて、前記液体原料を気化し、処理室へ供給する基板処理装置において、反応ガス供給の制御性を維持しつつ、タンクへの液体原料補給の回数を減少させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent particles from being produced owing to a weld zone between a manifold flange and a gas intake port when substrate treating equipment which carries out gas chemical reaction in a processing chamber is manufactured.例文帳に追加

処理室でガス化学反応を伴う基板処理装置の、その装置を製造した時の、マニホールドフランジとガス導入ポートの溶接部に起因するパーティクルを抑止する。 - 特許庁

An exhaust gas generated in the chamber 11 after a reaction is made to flow through a gas exhaust pipeline 12 and finally introduced to an exhaust gas processing mechanism 13, such as a scrubber, pretreatment device, etc.例文帳に追加

ガス排気配管１２は、チャンバ１１内における反応後の排ガスを流し、最終的にスクラバーや除害装置等の排ガス処理機構１３に導かれる。 - 特許庁

To automate inspection and determination, to avoid a bias in visual determination, to input color reaction inspection by a CCD image, and to display and record a determined result through image processing.例文帳に追加

検査と判定を自動化し、目視判定のバイアスを回避し、呈色反応検査をＣＣＤ画像で入力し、画像処理を経て、判定結果を表示・記録する。 - 特許庁

This measuring instrument prepares an initial concentration of analyte solution at first, and conducts measurement processing for feeding the analyte solution to an SPR sensor to measure a reaction situation with a ligand.例文帳に追加

測定装置は、まず、初期の濃度でアナライト溶液を調製し、このアナライト溶液をＳＰＲセンサに送液してリガンドとの反応状況を測定する測定処理を行う。 - 特許庁

To provide a reaction furnace for a dry cleaning device which is superior in economy by reducing a supply amount of cleaning gas by improving the efficiency of a cleaning processing for an object to be cleaned.例文帳に追加

被洗浄物の洗浄処理の効率化して洗浄ガスの供給量を減らし、経済性に優れたドライ洗浄装置用反応炉を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, by covering an inside wall of a transport pipe with reaction products, such as aluminum fluoride in advance, changes with the passage of time in the plasma processing rate can be repressed.例文帳に追加

また、輸送管の内壁に、フッ化アルミニウムなどの反応生成物を予め被覆しておくことにより、経時的なプラズマ処理速度の変動を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method that can reduce the possibility of abnormal reaction to maintain and improve the characteristics and the yield of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

異常な反応を起こる可能性を低減し、半導体集積回路装置の特性並びに歩留りの維持、向上を図ることが可能な基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To supply reaction gas uniformly onto a substrate so as to deposit a film of uniform thickness on the substrate and to control a flow of gas better in a processing chamber.例文帳に追加

基板上に膜が均一な厚さで堆積されるように、反応ガスを基板上に均一に供給し、処理チャンバ内のガスの流れをより良く制御するようにする。 - 特許庁

The processing liquid for forming the material to be recorded includes an organic polymer aggregate separated out through the reaction between an anionic polymer and a cationic polymer and inorganic particles.例文帳に追加

アニオン性ポリマーとカチオン性ポリマーとを反応させて析出させた有機高分子凝集体と、無機質粒子とを含有する被記録材形成用処理液。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for processing the surface of a substrate in a furnace with improved precipitation of a thin layer as well as the reaction between gas-phase components and the surface.例文帳に追加

本発明は、炉内で基板の面を処理し、薄層の析出を向上させると共にガス相成分と面の反応を向上させる装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of compatibly achieving removal of a reaction product deposited on a dielectric window and obtaining stability of an etching rate of a workpiece.例文帳に追加

誘電体窓に堆積する反応生成物の除去と被処理体のエッチングレートの安定性とを両立させることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a remote input device with improved operability which is capable of easily moving a pointer to the center of a reaction force area on a menu screen without requiring complex processing or control.例文帳に追加

複雑な処理、制御を必要とせずに、メニュー画面上の反力エリアの中心にポインタを移動させ易く、操作性に優れた遠隔入力装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which minimizes the replacement volume of a process gas supply pipeline, and to improve the speed of switching process gases supplied to a reaction chamber.例文帳に追加

処理ガス供給配管の置換容積を最小限とし、反応室内に供給する処理ガスの切替え速度を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the reaction of a food additive with food components or control the development of the suppressing effect during processing by controlling the action timing of the food additive component and, consequently, effectively utilizing the food additive component and reducing the amount of the additive, and provide a good processed food.例文帳に追加

食品添加物成分の作用時期を制御することで、食品成分との反応抑制、或いは工程中での効果発現制御を行うこと。 - 特許庁

To improve maintenance work efficiency and operation coefficient of a substrate processing apparatus by easily removing a reaction byproduct deposited on an exhaust pipe and thereby remarkably alleviating the maintenance work.例文帳に追加

排気管に堆積した反応生成物を簡単に除去でき、メンテナンス作業を大幅に軽減し、保守作業性の向上、基板処理装置の稼働率の向上を図る。 - 特許庁

To provide a wafer processing system, in which a wafer can be dried surely, after removing reaction products originating from a resist and produced through dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングによって生じたレジストに由来する反応生成物の除去処理後に基板を確実に乾燥することができる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an automatic analysis apparatus capable of preventing lowering the efficiency of processing a series of analyses when a reaction vessel is reused to implement the series of analyses.例文帳に追加

反応容器を再使用して一連の分析処理を行う場合に、該一連の分析処理の処理効率低下を防止することができる自動分析装置を提供すること。 - 特許庁

The whole surface of the metal plate 40 containing the circuit 60 is subjected to sandblast processing, by which a conductive reaction layer 70 left on the metal-removed part 36a of the circuit 36 is removed.例文帳に追加

その後、回路３６を含む全面に対してサンドブラスト処理を行って、回路３６の金属除去部分３６ａに残存する導電性反応層７０を除去する。 - 特許庁

To provide a novel method for readily eliminating ammonia and a reaction product thereof from radioactive liquid waste and performing stabilization processing of the liquid waste.例文帳に追加

放射性廃液からのアンモニア、並びにその反応生成物の除去と、前記廃液の安定化処理とを簡易に行うことができる新規な方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the covering of inside wall of a transport pipe 30 with reaction products, such as aluminum fluoride in advance, allows the changes with time in the plasma processing rate to be repressed.例文帳に追加

また、輸送管３０の内壁に、フッ化アルミニウムなどの反応生成物を予め被覆しておくことにより、経時的なプラズマ処理速度の変動を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a method for dry type ammonia decomposition processing which can well accelerate decomposition reaction of ammonia in a gas while suppressing deterioration as a fuel as much as possible.例文帳に追加

燃料としての劣化を可及的に抑制しつつガス中のアンモニアの分解反応を良好に促進させることができる乾式アンモニア分解処理方法を提供する。 - 特許庁

After film formation processing, a control unit 29 performs control to supply a vent gas into the reaction tube 4, into vent piping 17 downstream from a vent valve 18, and to a conveyance chamber 6.例文帳に追加

成膜処理後、制御部２９は、反応管４内、ベントバルブ１８よりも下流のベント配管１７内、ならびに搬送室６にベントガスを供給するように制御する。 - 特許庁

To provide a biosensor capable of developing biological liquid on a reaction layer quickly and accurately, and performing analysis processing quickly with an excellent work efficiency.例文帳に追加

生体液を迅速且つ正確に反応層上で展開させることができ、従って、迅速且つ作業効率良く分析処理を行うことができるバイオセンサを提供する。 - 特許庁