「reaction processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To put off a maintenance cycle of a gas supply nozzle to the same degree as other component members in a processing chamber by delaying the deposition rate of a reaction product in the gas supply nozzle.例文帳に追加

ガス供給ノズル内の反応生成物の堆積レートを遅くして、ガス供給ノズルのメンテナンスサイクルを、処理室内の他の構成部材と同程度に延ばすことができるようにする。 - 特許庁

To lower heat treatment temperature for conducting the predetermined heat treatment such as a film forming process to form a film to a substrate by supplying the treatment gas into a reaction vessel and heating the processing atmosphere.例文帳に追加

反応容器内に処理ガスを供給すると共に処理雰囲気を加熱して基板に対して成膜処理などの所定の熱処理を行うにあたり、熱処理の温度を低くする。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device and its working method capable of quickly removing reaction product and effecting etching high in uniformity with high speed, in plasma processing employing gas pulse.例文帳に追加

ガスパルスを用いたプラズマ加工において、反応生成物を迅速に除去し、均一性の高いエッチングを高速で行うことができるプラズマ処理装置及び加工方法の提供。 - 特許庁

As a section for optically stimulating gas, a processing gas supply chamber 11 formed by a UV-ray transmitting window 5 is provided outside a reaction chamber 2 for containing a wafer W.例文帳に追加

処理ガスを光励起する光励起部として、紫外線透過窓５により画成される処理ガス供給室１１を、ウェハＷが収容される反応チャンバ２の外部に設ける。 - 特許庁

In a deposition process (steps S2 and S3), when a first voltage is applied to the processing solution through electrodes, a reduction reaction takes place, and metal ions are separated out as metal at the electrode.例文帳に追加

析出過程（ステップＳ２，Ｓ３）において、電極を介して処理液に第１電圧を印加すると還元反応が生じ、処理液中の金属イオンが金属として電極に析出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of efficiently removing a reaction product occurring in plasma processing and preventing it from attaching to the surface of a substrate to be processed.例文帳に追加

プラズマ処理で発生した反応生成物を効率的に除去し、被処理基板表面への付着を防止することの出来る半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method highly stable and reproducible wherein hybridization reaction usually needing an overnight process can be finished in a short time in nucleic acid hybridizations of the FISH method or the like.例文帳に追加

FISH法などの核酸のハイブリダイゼーションにおいて、通常一晩の処理を必要とするハイブリダイゼーション反応を短時間で済ませ、かつ安定性・再現性の高い処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which suppresses the deposition of a reaction product on an internal peripheral surface of a focusing ring, and of reduces the wasting of the internal peripheral surface of the focusing ring owing to plasma.例文帳に追加

フォーカスリングの内周面への反応生成物の堆積を抑制でき、また、フォーカスリング内周面のプラズマによる消耗を低減できるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a composite processing device capable of maintaining rigidity against a working reaction force even in the case of moving a main spindle head to a position adapted to lathe working or milling.例文帳に追加

主軸ヘッドを旋盤加工およびフライス加工に応じた位置に移動した場合でも、加工反力に対する剛性を維持することができる複合加工装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a microchannel chip, and an apparatus and method for processing a microchannel chip, wherein the reaction is treated in a properly sealed condition, the sealing condition is maintained after reaction, and is not unlocked carelessly, and a space around an opening is secured even in a series of steps from introduction of a solution to reaction treatment.例文帳に追加

確実に封止された状態で反応が処理され、反応後には封止状態を維持して、不用意に開放されることのなく、また、溶液導入から反応処理までの一連の工程においても、開口周辺のスペースを確保することのできるマイクロ流路チップ、及びそのマイクロ流路チップ処理装置及びマイクロ流路チップ処理方法を提供することである。 - 特許庁

The alkali aggregate reaction suppresser is characterized by containing a lithium-containing ore highly activated by finely pulverizing processing, and in the alkali aggregate reaction suppressing method the alkali aggregate reaction is suppressed by mixing the lithium-containing ore highly activated by the finely pulverizing processing in the ratio of 5 pts.mass or more and 15 pts.mass or less to 100 pts.mass of a cement compound including the binder including cement and aggregate.例文帳に追加

アルカリ骨材反応抑制材に関しては、微粉砕処理により高活性化されたリチウム含有鉱物を含むことを特徴とし、また、アルカリ骨材反応抑制方法に関しては微粉砕処理により高活性化されたリチウム含有鉱物を、セメントを含む結合材と、骨材とを含むセメント組成物に、前記結合材１００質量部に対して５質量部以上１５質量部以下の割合で混合することによってアルカリ骨材反応を抑制することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.例文帳に追加

本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁

The method of manufacturing the photographic photoreceptor is provided with a base substance holding member for holding a processing base substance in a reaction vessel and forms a functional film on the surface of the processing base substance mounted on the base substance holding member, and uses a means for preventing dust generated when assembling the processing base substance on the base substance holding member from adhering to the processing base substance.例文帳に追加

反応容器内に処理基体を保持する基体保持部材を備え、該基体保持部材に装着される処理基体の表面上に機能性膜を形成する電子写真感光体の製造方法において、前記基体保持部材上に処理基体を組み上げる際に発生したダストが処理基体上に付着するのを防止する手段を用いることを特徴とする。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus in which a cylindrical substrate installed in a reaction vessel is subjected to plasma processing, a high frequency electrode and a plurality of auxiliary members different from the cylindrical substrate are installed around the cylindrical substrate within the reaction vessel, and at least a part of the auxiliary members is formed of a conductive material, and is also electrically grounded.例文帳に追加

反応容器内に設置された円筒状基体にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、反応容器内の円筒状基体の周囲には、高周波電極及び円筒状基体とは異なる複数の補助部材が設置され、補助部材は少なくとも一部が導電性材料で形成され、かつ電気的に接地されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the biosensor including steps of forming the electrode on a substrate 12 consisting of an insulator, and forming a reaction part 18 which contacts the electrode on the substrate 12, UV (ultraviolet rays) irradiation processing (UV irradiation processing) is performed on the substrate 12 before forming the reaction part 18 after forming the electrode on the substrate 12.例文帳に追加

絶縁体から成る基板１２上に電極を形成するステップと、基板１２上に電極に接触する反応部１８を形成するステップと、を含むバイオセンサの製造方法において、基板１２上に電極を形成した後反応部１８を形成する前に、基板１２上にＵＶ（紫外線、ultraviolet rays）照射処理（ＵＶ照射処理）を行うバイオセンサの製造方法とした。 - 特許庁

Thus, the reaction products are prevented from flowing from the processing chambers 13, 15 and 17 to the other processing chambers 13, 15 and 17 of the load lock chambers 9 and 11 or the like, the foreign matter generation is suppressed, and the quality of the process is improved.例文帳に追加

これにより、処理室１３、１５、１７から搬送室２、ロードロック室９、１１などの他の処理室１３、１５、１７へ反応生成物が流入する事を防止し、異物発生の抑制、プロセスの高品質化が可能な基板処理装置を実現することができる。 - 特許庁

The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, which is replaced with a new chemical processing solution before its quality is degraded by the increase in the number of reaction products, and a part or the whole of the surface of the substrate is processed at a polishing velocity of 10 μm/min or less.例文帳に追加

ガラス基板を化学加工液に浸漬し、反応生成物の増加により品質が劣化する前の化学加工液を新たな化学加工液に交換すると共に、ガラス基板表面の一部または全部を１０μｍ／分以下の研磨加工速度で加工する。 - 特許庁

Thus, the operator can perform the operation of instructing the execution of the processing desired by the operator by tilting the first switch 11 to the selection areas 11a-11i for instructing the execution of the desired processing based on the reaction force without watching the steering wheel 1.例文帳に追加

そのため、操作者は、この反力を頼りに、ステアリング１上に目を落とさなくても、所望の処理の実行を指示するための選択エリア１１ａ〜１１ｉに、第１スイッチ１１を傾けて操作者が所望する処理の実行を指示する操作をすることができる。 - 特許庁

To provide a method for preparation of a reaction liquid, which is a method for preparation of a reaction liquid, indispensably containing a monomer having a polyalkyleneglycol chain and a monomer containing carboxyl group(s), which can manufacture a polymer having a high performance and quality, and by using which troubles in processing and deterioration of various chemical products are sufficiently decreased, and also provide the reaction liquid obtained thereby.例文帳に追加

ポリアルキレングリコール鎖を有する単量体とカルボキシル基を有する単量体とを必須として含む反応液の調製方法であって、高い性能や品質を実現する重合体を製造することができ、製造工程での不具合の発生や、各種の化学製品の性能や品質の低下を充分に抑制することができる反応液の調製方法及びそれにより得られる反応液を提供する。 - 特許庁

The apparatus for processing volatile organic compounds comprises a reaction vessel 1 having at least one gas inlet 2a and a gas outlet 2b, a porous material 4 of high thermal conductivity installed in the reaction vessel 1 to carry adsorbent particles 7 and catalyst particles 8, a gas channel 3 formed in the reaction vessel 1, and a heating means 5 for the porous material 4 of high thermal conductivity.例文帳に追加

少なくとも一以上のガス導入口２ａと、ガス排出口２ｂとを備える反応容器１と、該反応容器１内に設けられた、吸着剤粒子７と触媒粒子８とを担持している高熱伝導性多孔質部材４と、該反応容器１内に形成されたガス流路３と、該高熱伝導性多孔質部材４を加熱する加熱手段５とを含んでなる揮発性有機化合物の処理装置 - 特許庁

To provide a panel-rail assembly of a flat cathode-ray tube that can shorten the processing time as well as it improves adhesion strength with chemi cal reaction between ions moved within the panel and reaction promoter by adhering the panel and rail binder with electrostatic joining system after coating the rail surface facing the panel with reaction promoter that improves surface illuminance and adhesion with the panel.例文帳に追加

パネルと対接するレール面に表面照度及びパネルとの密着性を向上させる反応促進剤を被覆した後、静電接合方式によってパネルとレール結合体とを接合させることにより、パネル内で移動したイオンと反応促進剤との化学反応によって接合強度を向上させると共に、工程時間を短縮できるような平面ブラウン管のパネル−レールアセンブリを提供すること。 - 特許庁

To provide an electrolytically phosphating chemical-conversion treatment method which can miniaturize the facility, can control the reaction, and can place the apparatus so as to be incorporated in a workpiece processing line and combined with other mechanical facilities, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

設備の小型化・反応の制御を可能とし、部品加工ラインの中に組み込み、他の機械設備と連結して設置し得る電解リン酸塩化成処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a data processing system capable of excellently performing data collection on general user's reaction using a storefront storage rack capable of arousing the interest of a general user in over-the-counter sale commodities on the basis of commodity ranking data.例文帳に追加

商品ランキングデータによる店頭販売商品への一般ユーザの興味を喚起できる店頭収容ラックで一般ユーザの反応を良好にデータ収集できるデータ処理システムを提供する。 - 特許庁

Further, the driving force of a motor 142 is transmitted to the conveyor roller couple 50, etc., with the attracting forces and reaction forces of magnets 140 and 144 to rotate the rollers, so the processing liquid can securely be sealed.例文帳に追加

しかも、マグネット１４０、１４４の吸引力及び反発力によってモータ１４２の駆動力を搬送ローラ対５０等へ伝えて回転させるため、確実に処理液を封入できる。 - 特許庁

The classification facility 11 for water quality is composed of a temperature controlled tank having one or more parts selected from a sampling part, solution producing part and reaction part, and of a measuring means, information processing part and cleaning means.例文帳に追加

前記水質分類設備１１が、サンプリング部、溶液生成部および反応部から選ばれる１つまたは２つ以上を備えた恒温槽と、計測手段と、情報処理部と、洗浄手段とからなる。 - 特許庁

If a low-dielectric-constant (low-k) film is damaged during plasma processing, one of the reaction products is water, which is left adsorbed on the low-dielectric-constant film (into pores), if the temperature is lower than 100-150°C.例文帳に追加

プラズマ処理の際、低誘電率(low-k)膜が損傷した場合、反応生成物の１つは水であり、温度が１００〜１５０℃より低ければ、低誘電率膜（孔内）に吸収されたままである。 - 特許庁

To provide a game program, a game device, a game system, and a game processing method, which make it possible to easily change production, which shows the reaction of a collided object, in response to the operation direction of an input device.例文帳に追加

入力装置の動作方向に応じて、被衝突オブジェクトの反応を示す演出を容易に切り替えることを可能にするゲームプログラム、ゲーム装置、ゲームシステム、及びゲーム処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing vegetable paste having good taste, flavor and palate feeling while keeping its color tone or softness owing to superheated steam processing of vegetable raw material and enzymatic reaction of the vegetable paste.例文帳に追加

野菜原料の過熱水蒸気加工処理および野菜ペーストの酵素反応によって色合いや柔らかさを維持し、味や風味、食感の良好な野菜ペーストの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mechanism capable of reducing a difference in processed dimensions caused by a difference in density of a pattern, when processing the pattern formed on a semiconductor substrate by chemical reaction with a reactive gas.例文帳に追加

半導体基板に形成されたパターンを、反応性ガスとの化学反応により加工する場合に、当該パターンの疎密差に伴う加工寸法差を低減することができる仕組みを提供する。 - 特許庁

To provide a gas processing method which enables the simultaneous decomposition of CO and H_2 with the poisoning of a catalyst suppressed by a decomposition reaction of C_2F_4 as much as possible, and can carry out a long-time treatment.例文帳に追加

Ｃ_2Ｆ_4の分解反応による触媒の被毒を極力抑えて、ＣＯとＨ_2とを同時に分解処理することができで、且つ長時間処理が可能なガスの処理方法を提供する。 - 特許庁

The rectifying plates 20 are formed to the upper wall 6 of the processing chamber 4 having the gas inlets formed therein so as to be extended in their width directions intersected by the reaction-gas flowing direction.例文帳に追加

整流板２０は、ガス導入部が形成された処理室４の上壁６において、反応ガスの流れる方向に対して交差する方向である幅方向に延びるように形成されている。 - 特許庁

To provide a remote input device, which has a superior operation sense upon remote input operation, by relaxing an incongruity sense with a reaction force changeover upon menu screen changeover, without needing complicated processing and control.例文帳に追加

複雑な処理、制御を必要とせずにメニュー画面切替え時の反力切替えに伴う違和感を緩和し、遠隔入力操作時の操作感覚に優れた遠隔入力装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, an induction component is not easily generated between the operation part and coil part and the plasma processing apparatus compatibly remove the reaction product deposited on the dielectric window and obtain the stability of the etching rate of a workpiece.例文帳に追加

これにより、作用部とコイル部との間で誘導成分が生じにくく、誘電体窓に堆積する反応生成物の除去と被処理体のエッチングレートの安定性とを両立させることができる。 - 特許庁

To provide a chuck assembly of semiconductor device etching facilities wherein a residue from reaction is prevented from remaining in the edge portion of a wafer, processing failure is prevented, and the quality and yield of semiconductor devices can be enhanced.例文帳に追加

ウェハのエッジ部位に反応残余物が残存することを防止し、工程不良を防止し、品質と収率を向上させることができる半導体装置食刻設備のチャック組立体を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing apparatus, capable of suppressing increase in a profile dimension of the apparatus per reaction furnace, while increasing the number of cassettes capable being contained in the apparatus to a maximum limit.例文帳に追加

装置内に収容できるカセットの個数を最大限に増やしながら、１反応炉当たりの装置外形寸法の増大を抑制することができるようにした基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To solve a problem in a counter cam device wherein a conventional thrust cam device has an adverse effect to expand a holder unit outwardly due to reaction force during processing.例文帳に追加

本発明は、カウンタカム装置に関し、従来の突き上げカム装置において加工時の反力による、ホルダユニットを外側に広げようとする悪影響があることが課題であって、それを解決することである。 - 特許庁

To easily and strongly form a reaction flow channel having a large channel length without requiring a special precise micro-processing technique and to achieve the shortening of a manufacturing period or the reduction of a manufacturing cost.例文帳に追加

特殊な精密微細加工技術を必要とせずに長い路長の反応流路を容易且つ堅固に製作することができ、しかも製作期間の短縮や製作費用の低減を図ることができる。 - 特許庁

Sandblast processing is carried out under the condition that an Ni plating layer 38 be left on the circuit 36, after a step of removing the conductive reaction layer 70 which is left on the metal-removed part 36a of the circuit 36 is carried out.例文帳に追加

サンドブラスト処理は、回路３６の金属除去部分３６ａに残存する導電性反応層７０を除去した段階で、回路３６上にＮｉメッキ層３８が残存する条件で行う。 - 特許庁

To prevent electrical discharge from happening between a discharge electrode of an activating means and a placing means in a substrate processing device which is equipped with an activating means positioned inside or along a reaction chamber.例文帳に追加

活性化手段を反応室内部または反応室に沿って備えている基板処理装置において、活性化手段の放電用電極と載置手段との間での放電を防止できるようにする。 - 特許庁

To obtain a concentrated milk for processing capable of providing a white sauce, a cream stew or a gratin rich in flavor and a rich taste of milk without causing browning due to the Maillard reaction even when carrying out high-temperature sterilization such as retort sterilization.例文帳に追加

レトルト処理の如き高温殺菌をおこなっても、メイラード反応による褐変が起こらず、かつ乳の風味、こく味に富んだホワイトソース、クリームシチュー、グラタンが得られる加工用濃縮乳を提供する。 - 特許庁

A hydrophobic organic high polymer film, comprising a polyimide resin film containing a fluorine atom is formed on the surface of a member 1 exposed to vacuum in a vacuum processing chamber by deposition polymerization reaction.例文帳に追加

真空処理室の真空中に露出される部材１の表面に、フッ素原子を含有するポリイミド樹脂膜から成る疎水性有機高分子膜を蒸着重合反応により形成する。 - 特許庁

After removing the metal film which is no reaction in the heat treatment, a crystal phase is transferred by heat treatment to perform the resistance reducing processing of the silicide films 18a, 18b.例文帳に追加

続いて、当該熱処理において未反応の金属膜が除去された後、熱処理により結晶相転移させ、基板上に形成されたシリサイド膜１８ａ、１８ｂの低抵抗化処理が行われる。 - 特許庁

The recovery apparatus for inorganic substances form plastics comprises: a reaction tank 1 for processing plastic molded products containing inorganic substances with a sub-critical fluid 3; and an ejection section 2 for the contents in the reaction tank 1, wherein the ejection section 2 includes a crusher 21 that crushes a solid content including inorganic substances in the contents.例文帳に追加

無機物を含有するプラスチック成形品を亜臨界流体３で処理する反応槽１とともに、反応槽１内の内容物の取出し部２を備えたプラスチックからの無機物の回収装置において、取出し部２は、内容物中の無機物を含む固形分を破砕する破砕機２１を有することとする。 - 特許庁

Also, the reaction gas nozzles 31, 32 and the separation gas nozzles 41, 42 are detachably provided along a circumferential direction of a vacuum vessel 1, and the ceiling member 4 is detachably provided on a top board 11, thus adjusting the size of a processing region and the adsorption time of the reaction gas, and hence increasing the flexibility corresponding to a change in processes.例文帳に追加

また反応ガスノズル３１，３２や分離ガスノズル４１，４２を、真空容器１の周方向に沿って着脱自在に設ける共に、天井部材４を天板１１に着脱自在に設けているので、処理領域の大きさや反応ガスの吸着時間を調整でき、プロセスの変更に対応する自由度が高くなる。 - 特許庁

To provide a monitoring method and reaction control method for rapidly detecting a decomposition product and obtaining the degree of the progression of the decomposition reaction so as to enable efficient decomposition/detoxification processing, when organic chlorine compound such as mustard as medicament for chemical weapon, lewisite, or chloroacetophenone is decomposed and detoxified.例文帳に追加

化学兵器用薬剤であるマスタード、ルイサイト、クロロアセトフェノンなどの有機塩素化合物を分解して無害化する際に、効率的な分解・無害化処理が可能となるように、分解生成物を迅速に検出して分解反応の進行の程度を把握するためのモニター方法と反応制御方法を提供することである。 - 特許庁