「reaction processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

Moreover, since the TiWN is excellent in the barrier performance even at a high temperature region, the reaction can be prevented between the Al in the Al-containing ohmic electrode 2 and the Au in the Au wire electrode 7 even when a high temperature anneal processing is applied to the semiconductor device 100.例文帳に追加

また、ＴｉＷＮは高温域においてもバリア性に優れていることから、半導体装置１００に高温アニール処理を施しても、Ａｌ含有オーミック電極２中のＡｌとＡｕ配線電極７中のＡｕとの反応を防止することができる。 - 特許庁

A vibration cancel control unit determines a movement amount for canceling the vibrations using force of reaction by movement of a weight on the basis of information on the angular velocity and amplitude determined by the cancel processing decision unit, and also moves the weight provided in the housing.例文帳に追加

振動相殺制御部は相殺処理判断部により求められた角速度、振幅の情報に基づき錘の移動による反作用の力を利用して振動を相殺する移動量を決定するとともに、筐体内部に設けられた錘を移動させる。 - 特許庁

The apparatus is further provided with an exhaust gas processing section located on a pipeline on the air intake side of an ozone gas generation unit and consisting of a check valve and an exhaust ozone decomposing catalyst, as well as a retention pipe connected between the ozone water generation reaction tank and a mixing unit which mixes water with ozone bubbles.例文帳に追加

なお、オゾンガス発生部の空気吸込み側の配管に逆止弁および排オゾン分解触媒からなる排ガス処理部を設け、水とオゾン気泡を混合する混合部とオゾン水生成反応槽との中間に、滞留配管を付加することができる。 - 特許庁

A probe immobilization method for immobilizing a probe 12 onto a substrate 11 comprises the steps of: preparing the substrate 11 and the probe 12; and processing the substrate 11 to fix the probe 12 onto the substrate 11 without chemical reaction.例文帳に追加

基板１１にプローブ１２を固定化するためのプローブの固定化方法であって、基板１１とプローブ１２とを準備する工程と、基板１１を処理することで化学反応を伴わずプローブ１２を基板１１に固定化するプローブの固定化方法からなるものである。 - 特許庁

Because platinum group elements are included in a thick film silver paste and alloy is formed by the reaction with silver included in it with the platinum group element paste to disperse silver into Y electrode and X electrode and then suppress reaction with the platinum constituting them, the thick film can disperse silver into an electrode and suppress the precipitation of foreign matter in burning processing of silver paste.例文帳に追加

厚膜銀ペーストに白金族元素が含まれることによって、それに含まれている銀とその白金族元素とが反応して合金を生成し、これにより銀のＹ電極およびＸ電極中への拡散延いてはそれらを構成する白金との反応が抑制されるため、その厚膜銀ペーストの焼成過程において銀が電極内に拡散し、延いては異物を析出させることが抑制される。 - 特許庁

This method schedules various assays of the plurality of liquid samples, creates a unit dose disposable and separately transfer a first liquid sample and reagents to a reaction vessel without initiation of an assay reaction sequence, and then physically transfers the unit dose disposable to a processing workstation, thereby achieving a mixture of the unit dose disposable reagents and sample during an incubation.例文帳に追加

この方法では、複数の液体標本の様々な検定をスケジューリングし、それに続いて、検定反応シーケンスを開始せずに、単位用量ディスポーザブルを生成し、第１の液体標本および試薬を別々に反応槽へ移送し、それに続いて、単位用量ディスポーザブルを処理ワークステーションへ物理的に移送し、それによって、インキュベーションの際に単位用量ディスポーザブル試薬と標本との混合を行う。 - 特許庁

In this fuel cell generating system, placed in proximity to an ozone treatment system for treating water to be treated by supplying ozone obtained by an ozone generator 40 to an ozone reaction vessel 30, exhaust gas exhausted from the ozone reaction vessel 30 is fed to a waste ozone processing tower 35, wherein the ozone contained is converted into oxygen for use as an oxidizer gas supplied to the air electrode of a fuel cell body 1.例文帳に追加

オゾン発生装置４０で得られたオゾンをオゾン反応槽３０に供給して被処理水を処理するオゾン処理システムに近接して配される燃料電池発電装置において、オゾン反応槽３０より排出された排出ガスを排オゾン処理塔３５に送り、含まれるオゾンを酸素に変換したのち、燃料電池本体１の空気極に供給する酸化剤ガスとして用いる。 - 特許庁

The method comprises scheduling various assays of the plurality of liquid samples, creating a unit dose disposable and separately transferring a first liquid sample and reagents to a reaction vessel without initiation of an assay reaction sequence, and physically transferring the unit dose disposable to a processing workstation, whereby a mixture of the unit dose disposable reagents and the sample is achieved during incubation.例文帳に追加

この方法では、複数の液体標本の様々な検定をスケジューリングし、それに続いて、検定反応シーケンスを開始せずに、単位用量ディスポーザブルを生成し、第１の液体標本および試薬を別々に反応槽へ移送し、それに続いて、単位用量ディスポーザブルを処理ワークステーションへ物理的に移送し、それによって、インキュベーションの際に単位用量ディスポーザブル試薬と標本との混合を行う。 - 特許庁

The method comprises scheduling various assays of the plurality of liquid samples, creating a unit dose disposable and separately transferring a first liquid sample and reagents to a reaction vessel without initiation of an assay reaction sequence, and physically transferring the unit dose disposable to a processing workstation, whereby a mixture of the unit dose disposable reagents and a sample is achieved during incubation.例文帳に追加

この方法では、複数の液体標本の様々な検定をスケジューリングし、それに続いて、検定反応シーケンスを開始せずに、単位用量ディスポーザブルを生成し、第１の液体標本および試薬を別々に反応槽へ移送し、それに続いて、単位用量ディスポーザブルを処理ワークステーションへ物理的に移送し、それによって、インキュベーションの際に単位用量ディスポーザブル試薬と標本との混合を行う。 - 特許庁

The polyimide resin suitable for processing at a low processing temperature by resin transfer molding and resin infusion is a reaction product of one or more aromatic acid dianhydride, one or more aromatic diamine and one or more terminator, wherein the melting point is lower than about 200°C and melt viscosity at 200°C is lower than about 3,000 centipoise.例文帳に追加

低い加工温度で樹脂トランスファ成形法および樹脂注入法によって加工するのに適したポリイミド樹脂であって、１種以上の芳香族酸二無水物、１種以上の芳香族ジアミンおよび１種以上の末端停止剤の反応生成物であり、融点が約２００℃未満であり、２００℃での溶融粘度が約３０００センチポアズ未満であることを特徴とするポリイミド樹脂とする。 - 特許庁

This dry etching device for applying etching processing to a wafer WF by arranging the wafer WF in a processing chamber and converting an introduced reaction gas to plasma includes: an annular first ring 110 arranged in the outside to surround the wafer WF and formed of a conductive material; and an annular second ring 120 arranged in the outside to surround the first ring 110 and formed of an insulating material.例文帳に追加

処理室内にウエハーＷＦが置かれ、導入される反応ガスをプラズマ化してウエハーＷＦにエッチング処理を施すドライエッチング装置であって、ウエハーＷＦを取り囲むように外側に配置され、導電性材料からなる環状の第１リング１１０と、第１リング１１０を取り囲むように外側に配置され、絶縁性材料からなる環状の第２リング１２０と、を備えた。 - 特許庁

To provide an inkjet type image forming apparatus capable of obtaining an image with a high image quality with a high image density, and less feathering, bleeding and beading on a plain paper at a high speed without using such an article of consumption as a reaction liquid and a processing liquid except a recording liquid, and capable of detecting a nozzle delivering condition with a simple and inexpensive constitution and rapidly performing recovery processing of a nozzle.例文帳に追加

反応液・処理液といった記録液以外の消耗品を使うことなく、普通紙に高速で、画像濃度が高く、フェザリングやブリーディング、ビーディングの少ない高画質な画像を得ることができ、且つ、簡易で安価な構成でノズル吐出状態を検知できてノズルの回復処理を迅速に行うことができるインクジェット方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solder bump by reflow processing using a reducing atmosphere and for preventing the outward scattering of solder in small spherical shape by reaction of crushed voids in the molten solder in the reflow processing and preventing the solder from being solidified while including the voids, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device with the solder bump.例文帳に追加

還元性雰囲気を用いたリフロー処理により半田バンプを製造する方法であって、当該リフロー処理において、溶融した半田中のボイドが潰れた反動で小さい球状の半田が外部に飛び散ることを防止し、更に、前記ボイドを内包したまま半田が固化されることを防止する方法及び前記半田バンプを備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, it is found that when a processing is carried out by adopting a processing condition in which a mixture of a polymer of a dichloro-S-triazine-based compound is used or the polymer is successively formed during a processing by using a monomer of the compound, a crosslinking/network formation reaction is smoothly advanced to give an excellent shape stabilization effect.例文帳に追加

本発明者等はかかる品質上の諸問題を解決し、地球環境に優しい有機天然素材の改質・形態安定加工法について鋭意研究を重ねた結果、ジクロル−Ｓ−トリアジン系化合物の多量体混合物を用いるか、或いは単量体を用いて加工中に逐次多量体を形成する様な加工条件を採用して加工すれば、架橋・網目形成反応がスムーズに進行し優れた形態安定効果が得られることを見出した。 - 特許庁

A solar cell generating device is not used for reaction gas cooling water for an auxiliary power source and a control power source of the fuel cell power generating system 1, but exclusively for air-cooled exhaust heat processing device 6 as an accessory equipment for cooling exhaust heat generated from the fuel cell.例文帳に追加

太陽電池発電装置は燃料電池発電システム１の反応ガスまたは冷却水用の補機電源および制御電源には用いず、燃料電池から発生する排熱を冷却処理する付帯機器である空冷式排熱処理装置６専用に使用する。 - 特許庁

In this processing, the PH3 gas jetted out of a gas diffusion hole 12a of the nozzle 12 is allowed to reflect at the inner wall of the reaction furnace 1, and the gas stream is directed at an angle of 45° to 90°, preferably at an angle vertical or approximately vertical to the surface of the substrate 11.例文帳に追加

このとき、石英ガスノズル１２のガス拡散穴１２ａから吹き出されるＰＨ_3 ガスを反応炉１の内壁で反射させ、そのガス流の方向を半導体基板１１の表面に対して、４５°〜９０°の角度、好適には、垂直か垂直に近い角度になるようにする。 - 特許庁

A time progression of a reaction force applied additionally in a deformation process by a testing body is measured during the deformation process, measured values (distance and force) are passed to a computer for processing and evaluation, and a testing table 1 is arranged on a force measuring instrument.例文帳に追加

変形過程時に、付加的に、試験体によって変形過程時に加えられた反力の時間的な経過を測定し、測定値（距離および力）を、処理および評価のための計算器に供給し、かつ試験テーブル１が、力測定装置上に配置されているようにした。 - 特許庁

Processing gas flows into the main pipe part 16 of a nozzle 15 in a reaction tube 11 flows into a plurality of forward end pipe parts 17 branched at a right angle from the main pipe part 16 and ejected horizontally from an ejection port 17a toward a semiconductor wafer 12.例文帳に追加

処理ガスは、反応管１１内のノズル１５の主管部１６に流入し、さらに、この主管部１６から直角に屈曲するように分岐する複数の先端管部１７に流入して、噴射口１７ａから半導体ウェーハ１２に向けて水平に噴出される。 - 特許庁

The control gain g2 at the time of calculating the reaction force component based upon the yawrate is set on the basis of the addition gain obtained by adding together the first control gain μb calculated in a relatively short processing time and the second control gain μc calculated with a relatively high calculation accuracy.例文帳に追加

ヨーレートに基づく反力成分を算出する際の制御ゲインｇ２を、相対的に短い処理時間で算出される第１制御ゲインμｂと、相対的に高い演算精度で算出される第２制御ゲインμｃとを加算して得た加算ゲインｇｓに基づき設定した。 - 特許庁

The presence of a specific fluorescent reaction in the sample is detected based on calculation processing data for each pixel unit obtained by collation calculation between the respective pixels that are at the same location in the binarized data for each pixel unit in a plurality of kinds of digital images D1, D2 at excitation times (S9-S13).例文帳に追加

複数種類の励起時デジタル画像Ｄ１，Ｄ２における各画素単位の２値化データのそれぞれ同じ位置にある画素単位同士で照合演算して求めた画素単位ごとの演算処理データに基づいて、試料中における特定蛍光反応の有無を検出する（Ｓ９〜Ｓ１３）。 - 特許庁

To provide a method for producing a chlorinated vinyl chloride-based resin by irradiating a vinyl chloride-based resin with ultraviolet light in an aqueously suspended condition to effect its chlorination, while suppressing the initial discoloration of the vinyl chloride-based resin in its processing to cut the chlorination reaction time.例文帳に追加

塩化ビニル系樹脂を水性懸濁下で、紫外線を照射して、塩素化する塩素化塩化ビニル系樹脂を製造するにあたり、加工時の初期着色を抑制し、塩素化反応時間を短縮した塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To suppress generation of a product having a low molecular weight in the period from the latter half to the end of a polymerization reaction since with a conventional method of solution polymerization, adiabatic polymerization in particular, the temperature range becomes wide and the molecular weight distribution of a water soluble (co)polymer obtained becomes wide, large flocks are not easily formed when processing sludge or the like.例文帳に追加

従来の水溶液重合、とくに断熱重合法では、重合温度幅が広くなることから得られる水溶性（共）重合体の分子量分布が広く、該（共）重合体からなる高分子凝集剤では、汚泥等の処理の際に粗大フロックが形成されにくい。 - 特許庁

Since only a single IC tag 20 executes transmission or optical transmission at a certain set time, the IC tag can be detected by simple discrimination processing based on time or the like, so that mixed transmission can be surely prevented, useless reaction or power consumption can be reduced and the position of the IC tag can be easily detected.例文帳に追加

これにより、同時刻には単一のＩＣタグしか送信や送光を行わないので時刻に基づく簡単な判別処理等にて検知がなされて、混信が確実に防止されるうえ無駄な反応や電力消費が削減されるとともに位置検出も容易となる。 - 特許庁

The mixer is used in a reaction system that performs a continuous processing and has a first mixing section 8 with a mixing channel 24 where at least two microchannels 22a, 22b interflow and a second mixing section 10 provided downstream the first mixing section 8.例文帳に追加

この混合器は、連続処理を行う反応システムにおいて用いる混合器であり、少なくとも２つの微細流路２２ａ，２２ｂが合流する混合流路２４を有する第１の混合部８と、第１の混合部８の下流側に設けられた第２の混合部１０とを有する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for treating wastewater enhancing sedimentation property of sludge to improve processing speed (capacity) in a wastewater treatment in which a nitrification treatment and a denitrification treatment are carried out in separate reaction tanks using common biological sludge.例文帳に追加

本発明は、別々の反応槽で共通の生物汚泥を用いて硝化処理及び脱窒処理を行う排水処理において、汚泥の沈降性を改善し、処理速度（負荷）を向上させることができる排水の処理方法及び処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method also includes steps of: flowing a silicon-containing precursor into the processing chamber housing the substrate; flowing an oxidizing gas into the chamber; and causing a reaction between the silicon-precursor, the oxidizing gas and the water vapor to form the dielectric material in the trench.例文帳に追加

また、この方法は、シリコン含有前駆物質を、基板を収容する処理チャンバ内に流すステップと、酸化ガスを前記チャンバ内に流すステップと、シリコン含有前駆物質、酸化ガス及び水蒸気の間の反応を起こし、トレンチ内に誘電体材料を形成させるステップと、を含む。 - 特許庁

The battery with the high capacity and the long life can be obtained by uniforming the reaction in the electrode 4, by processing a mixture 1 with a spacer 2 for keeping its thickness constant contained therein into a current collector 3, when the electrode 4 is pressured, and by using the electrode 4 for the battery.例文帳に追加

電池用電極４は圧力が加えられたとき、合剤１中にその厚さを一定に保持するスペーサ２を含ませるたものを集電体３に加工ことにより電極４内の反応を均一化し、それを電池に用いることにより、高容量で長寿命の電池となる。 - 特許庁

By using the operating condition or the gas state value, the control unit performs bumping decision processing of determining whether the state of the reaction gas enters a bumping generation region previously set as a region where the bumping of the water is very likely to cause in the apparatus for evaluating the fuel cell.例文帳に追加

制御部は、反応ガスの状態が、燃料電池評価装置内の水分の突沸を引き起こす可能性が高い状態の領域として予め設定された突沸発生領域に入るか否かを、運転条件またはガス状態値を用いて判定する突沸判定処理を実行する。 - 特許庁

The analyzer 1 detects the contaminant even with respect to the region other than the photometric region of the container used in analyzing processing in order to detect a degree of contamination on the basis of the measuring results in the respective regions of the reaction vessel 21 measured by the detecting photometric part 122.例文帳に追加

そして、分析装置１は、検出用測光部１２２によって測定された反応容器２１の各領域における測定結果をもとに汚れの程度を検出するため、分析処理に使用する容器の測光領域以外の領域についても汚れを検出することが可能になる。 - 特許庁

To provide an apparatus for biological treatment of solid organic materials that requires a relatively small installation area for its processing capacity by stacking multistage reaction chambers vertically and can easily give an overturning/agitation effect to the materials to be treated without using an agitator.例文帳に追加

反応室を垂直に多段重層して設けることにより、処理能力の割に設備設置面積を小さくせしめた上、撹拌設備が不要でありながら、処理物に簡便に切り返し・撹拌効果を施すことができる固形有機物質の生物処理装置を提供する。 - 特許庁

An inflow water processing arithmetic part 10 utilizes the input data to an existing dissolved oxygen concentration constant control unit 20 to input the dissolved oxygen concentration value measured by a dissolved oxygen densitometer 16 and the air blow quantity to a reaction tank 6 measured by an airflow meter 19.例文帳に追加

流入水処理演算部１０は、既存の溶存酸素濃度一定制御装置２０への入力データを利用し、溶存酸素濃度計１６により計測された溶存酸素濃度値と、風量計１９により計測された反応槽６への送風量を入力する。 - 特許庁

To provide a thermistor element which ensures high air-tightness between the element body and the ambient air, allows processing at a relatively low temperature, have less reaction between the thermistor element and a coating material, can accurately detect temperatures ranging from a low temperature to a high temperature and have high stability, and to provide a method of manufacturing the thermistor element.例文帳に追加

素体と外気との気密性が高く、比較的低温で処理することができ、サーミスタ素体と被覆材との反応が少なく、低温度から高温にわたり正確な温度検知が可能で、且つ安定性が高いサーミスタ素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The photo spacer constituting the liquid crystal display apparatus of which the cell thickness is 2 to 4 μm is manufactured by forming and patterning a photosensitive resin layer using a photosensitive resin component of which the cross-linking radical density is ≥0.0073 mole/g and then performing heating processing so that a cross-linking reaction rate becomes 86 to 100%.例文帳に追加

セル厚が２〜４μｍである液晶表示装置を構成するフォトスペーサーを、架橋基密度が０．００７３モル／ｇ以上の感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂層を形成してパターニングした後に、架橋反応率が８６〜１００％となるように加熱処理を行なう。 - 特許庁

A plurality of microchips 1 to 3, each of which is constituted of a chemical reaction part 4, a measuring part 5 equipped with a cell 13, a light source 14 and a detector 15 and a signal processing part 5 used to perform a concentration computing operation, a sensitivity correction and the like as units are piled up in the vertical directions so as to be freely separable.例文帳に追加

化学反応部４、セル１３と光源１４と検出器１５を備えた測定部５、濃度演算や感度補正等を行う信号処理部６をそれぞれユニット構成した複数のマイクロチップ１〜３を上下方向に分離自在に重ね合わせている。 - 特許庁

To provide a water treatment apparatus which reduces the total organic carbon (TOC) of treated water, and decreases the turbidness of the treated water, in water treatment for processing by Fenton reaction an organic compound contained in water containing the organic compound that forms a coordinate bond with the metal ion.例文帳に追加

金属イオンと配位結合を形成する有機化合物を含む水に含有される当該有機化合物をフェントン反応で処理する水処理において、処理水の全有機炭素（ＴＯＣ）が低減され、処理水の濁りが減少する水処理装置を提供する。 - 特許庁

By the melt processing, a reaction product of the anionic function group of the ingredient A with the metallic cation is produced on site, thus, a pseudo-crosslinked structure of the ingredient A is formed in the presence of the ingredient B and a penetration or semi-penetration net structure of the ingredient A with the ingredient B is formed.例文帳に追加

この溶融加工により成分Ａのアニオン性官能基と金属カチオンとの反応生成物が現場で生成して、成分Ｂの存在下で成分Ａの疑似架橋構造が形成され、かくして成分Ａと成分Ｂとの貫入または半貫入網状構造が形成される。 - 特許庁

The ratio of the components in the aqueous solution is 300-800 pts.wt. of the polyalkylene glycol, 50-300 pts.wt. of the N-methylol-based resin processing agent and 10-100 pts.wt. of the reaction catalyst based on 100 pts.wt. of the water-soluble polymer.例文帳に追加

上記水溶液中の各成分の割合が、該水溶性ポリマー１００重量部に対してポリアルキレングリコールが３００〜８００重量部、Ｎ-メチロール系樹脂加工剤が５０〜３００重量部、反応触媒が１０〜１００重量部である上記吸湿発熱性セルロース系繊維。 - 特許庁

This method of forming a thin film on a semiconductor substrate, which uses a plasma CVD processing apparatus having a reaction chamber and a susceptor, is defined by including a preprocessing step of forming a surface layer on the susceptor to eliminate electrostatic attraction between the semiconductor substrate and the susceptor.例文帳に追加

反応チャンバと、サセプタを有するプラズマCVD処理装置を使って、半導体基板上に薄膜を成膜する方法において、サセプタ上に表面層を形成する前処理工程を含み、表面層によって半導体基板とサセプタとの静電吸着が無くなることを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide catalytic combustion equipment for lengthening the service life of a catalyst, and always performing processing of combustible organic compound at an optimal reaction temperature while sufficiently purifying the combustible organic compound by easily monitoring a purification state of the combustible organic compound.例文帳に追加

可燃性有機化合物の浄化状態を簡易にモニタリングし、可燃性有機化合物を十分に浄化しつつ触媒の高寿命化を図ることができる最適反応温度で可燃性有機化合物の処理を常時行うことが可能な触媒燃焼装置を提供する。 - 特許庁

The existence of the trouble state is judged by subjecting electromagnetic wave emission radiated by plasma discharge upon a plasma emission processing in a reaction chamber to photoelectric conversion to obtain a voltage value 31, and comparing this voltage value 31 with a predetermined non-changing fixed value Th1 along a time axis.例文帳に追加

反応室内でのプラズマ発光処理時にプラズマ放電により発生する電磁波発光を光電変換して電圧値３１を取得し、この電圧値３１を時間軸に沿って非変化の所定の固定値Ｔｈ１と大小比較するなどして、異常状態の有無を判断する。 - 特許庁

The method for modifying the hot metal desulfurization slag so that it can be reused as various refining materials includes: loading the hot metal desulfurization slag into a reaction tank where a combustion gas is used as a reactive gas; and roasting the same, thereby processing the hot metal desulfurization slag into the recyclable modified slag.例文帳に追加

溶銑脱硫スラグを再利用可能な改質スラグにするに当たり、その溶銑脱硫スラグを、燃焼ガスを反応ガスとして用いる反応槽内に装入して焙焼し、各種精錬材として再利用できるようにする溶銑脱硫スラグの改質方法。 - 特許庁

In practice, the movement of assembly and processing operations overseas led by large enterprises has set off a chain reaction as SMEs involved in related processes follow in their wake, creating gaps in the division of labor in manufacturing within Japan. 例文帳に追加

実際に、大企業を中心とした組立・加工工程の海外移転の動きが起こると、関連する工程を担う中小企業がこれに追随して移転する動きへと連鎖が生じ、日本国内のモノ作りに関する分業構造に隙間が空いていくことになったのである。 - 経済産業省

In a cold wall type single wafer processing lamp heating furnace where oxidizing gas is produced after thermal decomposition and thermal oxidation is conducted using a reactive gas for forming an oxide film on a semiconductor substrate, a plurality of heating lamps 3 are arranged above the semiconductor substrate 1 placed in a reaction chamber 2 and a plurality of gas introduction holes 22 are made between the heating lamps 3 in order to introduce the reaction gas.例文帳に追加

加熱分解した後に酸化性ガスを生成し、半導体基板に酸化膜を形成する反応性ガスを用いて熱酸化を行うコールドウォール型枚葉式ランプ加熱炉において、半導体基板１を収容する反応チャンバー２の、半導体基板の上方に複数の加熱用ランプ３を設け、さらに加熱用ランプ３の間において複数のガス導入孔２２を形成し、このガス導入孔を通して反応性ガスを導入するように構成したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exhaust gas processing system and the system control method in which electric power is applied useful to reduce exhaust gas corresponding to an engine operation condition, an operator is informed by an indication with an alarm when an electrical disconnection is judged, and an electrical connection factor is self-purified via a plasma reaction when energized.例文帳に追加

エンジンの運転条件に応じて排気ガス低減に有利な電力を印加し、断線判定時には運転者にアラームで表示することによって認知できるようにし、通電の場合には通電要因をプラズマ反応を通じて自己浄化するようにする排気ガス処理システム及びこのシステム制御方法の提供。 - 特許庁

A 3D video game device is provided with a display 40 displaying images, an image processing part 16 preparing a three-dimensional image from the view point of the pseudo camera and displaying the image on a display screen and a game control part 14 receiving reaction from the player responding to the display image to the display 40 and advancing a game.例文帳に追加

画像を表示するディスプレイ４０と、擬似カメラの視点からの３次元画像を作成し、該画像をディスプレイ画面に表示する画像処理部１６と、ディスプレイ４０への表示画像に応答する、プレイヤからの反応を受けてゲーム進行を行うゲーム制御部１４とを備えた３Ｄビデオゲーム装置。 - 特許庁