「s chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The seal ring 32 partitions a space S into a first back pressure chamber S1 and second back pressure chamber S2.例文帳に追加

シールリング３２は、間隙Ｓを第１背圧室Ｓ１と第２背圧室Ｓ２とに区画する。 - 特許庁

Thereafter, a transfer mechanism 650 transfers the specimen S into the observation chamber 70.例文帳に追加

その後搬送機構６５０は、観察室７０へ試料Ｓを搬送する。 - 特許庁

A latch unit has a casing 1 provided with a holding chamber 11 and a side chamber 17 of a striker S, and a respondent body 2 fitted into the side chamber 17.例文帳に追加

ストライカＳの保持室１１と側方室１７とを備えるケーシング１と、側方室１７内に収められる応動体２とを有している。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing apparatus comprises a deposition chamber 2 for forming an SiC epitaxial film on a wafer W loaded on a susceptor S and a cleaning chamber 5 connected to the deposition chamber 2 via a transportation chamber 4 having a transportation robot 17 transporting the susceptor S and removing an SiC film adhered to the susceptor S.例文帳に追加

サセプタＳに載置されるウェハＷ上にＳｉＣエピタキシャル膜を形成する成膜室２と、サセプタＳが搬送される搬送用ロボット１７を有する搬送室４を介して成膜室２に連結され、サセプタＳに付着したＳｉＣ膜を除去するクリーニング室５とを有する。 - 特許庁

The vacuum chamber 16, while a specimen S is held between the upper vacuum chamber 14 and the lower vacuum chamber 15, separates a space surrounded by the upper vacuum chamber 14 and the lower vacuum chamber 15 from the outside.例文帳に追加

真空チャンバ１６は、上真空チャンバ部１４と下真空チャンバ部１５とで試料Ｓを挟んだ状態で、上真空チャンバ部１４と下真空チャンバ部１５とにより囲まれた空間を外部から分離する。 - 特許庁

The ink S is preferably closed not to make the ink S overflow into the C chamber through the air vent hole 110, after the ink S is sufficiently filled in the B chamber.例文帳に追加

またインクＳがＢ室に十分充填されたのちは空気抜き穴１１０を通ってインクＳがＣ室へ溢れないように閉塞されることが望ましい。 - 特許庁

A cooling chamber 34 for cooling the susceptor S is provided separate from the sputtering chambers 33, 35, and a transfer device for transferring the susceptor S, to which the workpiece W is affixed via the gel G, is provided between the sputtering chamber 33 and the cooling chamber 34.例文帳に追加

サセプタＳを冷却する冷却室３４が、スパッタ室３３，３５とは別に設けられ、スパッタ室３３と冷却室３４との間で、ゲルＧを介してワークＷが貼付されたサセプタＳを移送する移送装置を有する。 - 特許庁

The ozone generator comprises setting multiple electrode plates (20) facing one another in an ozone gas generation chamber (S) and applying an individual voltage to each electrode plate (20).例文帳に追加

オゾンガス生成室(S) に、対向する複数枚の電極板(20)を設け、各電極板(20)に個別に電圧を印加するように構成する。 - 特許庁

The switch (S) comprises the arc-extinguishing chamber (719) for extinguishing arcs generated between the contacts (4, 5) of the main circuit during the opening operation.例文帳に追加

開閉器(S)は、開放動作時に主回路の接触子(4,5)間に発生するアークを消弧する消弧室(719)を有している。 - 特許庁

In the cleaning processing chamber 4, the attitude of the substrate S is converted from the temporarily inclined attitude to the above fully inclined attitude for cleaning the substrate S.例文帳に追加

そして、洗浄処理室４において、基板Ｓの姿勢を仮傾斜姿勢から前記本傾斜姿勢に変換して洗浄処理を行うようにした。 - 特許庁

The vibration of the vibrator 25 is transmitted to the medicine S in a left chamber 21 through pure water to atomize the medicine S.例文帳に追加

振動子２５の振動は純水を介して左室２１内の薬剤Ｓへ伝えられて、薬剤Ｓが霧化される。 - 特許庁

A spiral groove 4MD on the lower side at the seal part S biases the gas at the seal part S to a bearing chamber M side.例文帳に追加

シール部Ｓにおける下方の螺旋溝４ＭＤはシール部Ｓのガスを軸受室Ｍ側に付勢する。 - 特許庁

At that time, after the development processing, the substrate S is converted from the horizontal attitude to the temporarily inclined attitude (an attitude having a smaller slope than the inclined attitude of the substrate S suitable for the cleaning processing) in the development processing chamber 3, and the substrate S is carried from the development processing chamber 3 to the cleaning processing chamber 4 in a state of this temporarily inclined attitude.例文帳に追加

その際、現像処理後、基板Ｓを現像処理室３において水平姿勢から仮傾斜姿勢（洗浄処理に適した基板Ｓの傾斜姿勢よりも斜度の小さい姿勢）に変換し、この仮傾斜姿勢の状態で基板Ｓを現像処理室３から洗浄処理室４に搬送する。 - 特許庁

The separation part 4 has a horizontal cylindrical separation chamber S having a porous bottom, a crushing and separating blade 8 rotary driven at a high speed in the separation chamber S and a plurality of square bars 12 with lead provided on a semi-cylindrical ceiling wall of the separation chamber S.例文帳に追加

分離部４は、底部が多孔である水平円筒状の分離室Ｓと、この分離室Ｓにおいて高速回転駆動される破砕分離プレート８と、分離室Ｓの半円筒状天井壁に設けた複数のリード付き角棒１２とを有している。 - 特許庁

In this case, the ratio of the distance between the substrate S and the inner wall opposing to the substrate S in the chemical film deposition chamber 11b, to the distance between the substrate S and the target arranged opposed to the substrate S in the sputtering chamber 11a, is set to be within a range of 0.07 to 0.3.例文帳に追加

この場合、スパッタ室内で処理基板とこの処理基板に対向して配置されるターゲットと間の距離に対し、化学的成膜室内で処理基板とこの処理基板に対向した化学的成膜室の内壁との間の距離を０．０７〜０．３の範囲に設定する。 - 特許庁

In a process chamber 11, a negative ion source S containing oxygen negative ion radicals is set.例文帳に追加

処理室１１内には、酸素マイナスイオンラジカルを含有するマイナスイオンソースＳがセットされる。 - 特許庁

In result, an airflow flowing toward the exhaust vent 90c is uniformly formed inside the processing chamber S.例文帳に追加

その結果，排気口９０ｃへと流れる気流が処理室Ｓ内において均等に形成される。 - 特許庁

A swirl flow control valve generates a swirl flow S in the combustion chamber.例文帳に追加

スワール流コントロールバルブにより、燃焼室内にスワール流Ｓを発生させる。 - 特許庁

A salt (S) is put above the partition plate (42), and city water is supplied into a lower chamber.例文帳に追加

食塩（Ｓ）は仕切板（４２）の上に投入し、水道水は下の部屋に供給する。 - 特許庁

A bulkhead 3 is prepared within a chamber 1 that forms a projection optical system space S.例文帳に追加

チャンバ１内には、投影光学系空間Ｓを形成するための隔壁３が設けられている。 - 特許庁

The vapor S passing through the orifice 3 is stirred by a mixing nozzle 4 whose outside is covered with a mixing chamber 5.例文帳に追加

外側を混合室５で覆われた混合ノズル４でオリフィス３を通過した蒸気Ｓを攪拌する。 - 特許庁

To measure humidity distribution in a testing chamber S at low cost and high precision.例文帳に追加

試験室Ｓ内における湿度分布の測定をする際に、低コストで、且つ、精度良く測定する。 - 特許庁

A discharge container 1 includes a long and slender arc chamber 3, which possesses the longitudinal axis (s) of rotational symmetry.例文帳に追加

放電容器１は、回転対称の縦軸（ｓ）を有する細長いアークチャンバ３を備える。 - 特許庁

A rotation-holding means 5 holds the substrate to be processed S in the processing chamber 1 and rotates it.例文帳に追加

回転保持手段５は処理室１内部で被処理基板Ｓを保持して回転させる。 - 特許庁

A space S capable of injecting the lubricant is formed in the lubricant storage reception chamber of the case.例文帳に追加

ケースの潤滑剤貯蔵体収容室には、潤滑剤を注入できる空間Ｓが設けられる。 - 特許庁

A rear air chamber S which is sealed with the case 1 and the circuit board 6, is formed at the back of the speaker 4.例文帳に追加

筐体１と回路基板６で密閉される後気室Ｓがスピーカ４の後方に形成される。 - 特許庁

An intake port 24 communicates with a swash plate chamber S on a side lower than a shaft 5.例文帳に追加

吸入ポート２４をシャフト５よりも下方側の斜板室Ｓと連通するように設けている。 - 特許庁

An optical system 45 is provided to an opposite side of the measurement chamber S across a ceiling surface.例文帳に追加

光学系４５は，測定室Ｓの天井面を隔てた反対側に設けられる。 - 特許庁

A measurement block 40 for forming a measurement chamber S is provided inside the housing 30 of a measurement device 4.例文帳に追加

測定装置４の筺体３０内に，測定室Ｓを形成するための測定ブロック４０が設けられる。 - 特許庁

A spiral groove 4MD on the lower side biases the gas at the seal part S to the bearing chamber M side.例文帳に追加

他方、下方の螺旋溝４ＭＤはシール部Ｓのガスを軸受室Ｍ側に付勢する。 - 特許庁

The measurement chamber S is provided with an air supply opening 50 for supplying clean air toward the carrying opening 33.例文帳に追加

測定室Ｓには，搬送口３３に向けて清浄なエアを供給する給気口５０が設けられる。 - 特許庁

The measurement chamber S is formed rectangular of which one side surface is a carrying opening 33 of a wafer W.例文帳に追加

測定室Ｓは，ウェハＷの搬送口３３を一側面とする直方体形状に形成する。 - 特許庁

The issuance of the certificate of origin is done by third party certification by the relevant party’s chamber of commerce.例文帳に追加

品目別原産地規則は、関税分類変更基準が中心である。 - 経済産業省

The certificate of origin is issued through third party certification by the relevant party’s chamber of commerce.例文帳に追加

原産地証明書の発給は、第三者証明により商工会議所が行っている。 - 経済産業省

A fluidized bed furnace 2 holding a fluidized medium S is divided into a pyrolysis chamber 3 and a combustion chamber 4 communicating therewith at the furnace bottom.例文帳に追加

流動媒体Ｓを保持する流動層炉２内を、炉底部においては連通する熱分解室３と燃焼室４とに分割する。 - 特許庁

In the case that a door at the storing chamber S is opened, only fans FM2, 3 at the storing chamber and the circulation fans FM4, 5 are stopped.例文帳に追加

保存室Ｓ側の扉が開けられた場合は、保存室ファンＦＭ２，３と循環ファンＦＭ４，５のみが停止される。 - 特許庁

The compound semiconductor S is installed in a working chamber 11 and, thereafter, the inside of the working chamber 11 is evacuated to a predetermined degree of vacuum.例文帳に追加

加工室１１内に化合物半導体Ｓを設置した後、加工室１１内を所定の真空度まで排気する。 - 特許庁

Since the beam 27 is fixed to the treatment chamber U using the plurality of screws 56 from outside the treatment chamber U, the plane S of the beam 27 in contact with plasma is flattened.例文帳に追加

複数のネジ５６により処理室Ｕの外部から梁２７を処理室Ｕに固定するため，プラズマに接する梁２７の面Ｓが平坦化する。 - 特許庁

The heating cooker 100 for heating the object M to be heated by supplying vapor S into the heating chamber 11 for storing the object M to be heated is equipped with a vapor supplying means for supplying the vapor S into the heating chamber 11 and a venting means for venting the vapor supplied into the heating chamber 11 from the heating chamber 11.例文帳に追加

被加熱物Ｍを収容する加熱室１１に蒸気Ｓを供給して被加熱物Ｍを加熱する加熱調理器１００であって、加熱室１１に蒸気Ｓを供給する蒸気供給手段と、加熱室１１に供給された蒸気を加熱室１１から排気する排気手段とを備えた。 - 特許庁

A test piece S is sandwiched between an atmospheric chamber 11a and a vacuum chamber 12a, and the atmospheric chamber 11a and the vacuum chamber 12a are sealed from the outside air.例文帳に追加

試験片Ｓを雰囲気チャンバ１１ａと真空チャンバ１２ａの間に挟持し、雰囲気チャンバ１１ａと真空チャンバ１２ａを外気から密閉する。 - 特許庁

A shower plate 24 divides a space S in a chamber body 21 into two to form a first chamber S1 forming a film and a second chamber S2 excluding the first chamber S1.例文帳に追加

シャワープレート２４が、チャンバ本体２１の空間Ｓを２つに区画し、成膜を行う第一室Ｓ１と、第一室Ｓ１を除く第二室Ｓ２とを形成する。 - 特許庁

To provide a high vacuum analyzer including a preliminary exhaust chamber 20 before a analyzing chamber 10 wherein a degree of vacuum of the preliminary exhaust chamber is made higher for a short time and contamination of a sample S and walls of the analyzing chamber caused by residual gas is prevented.例文帳に追加

分析室１０の前に予備排気室２０を備える形態の高真空分析装置において、短い時間で予備排気室の真空度をより高くすると共に、残留ガスによる試料Ｓおよび分析室壁の汚染を防止する。 - 特許庁

An ion milling device comprises; a sampling stage 1 where a sample S is placed; an ion source 2 for generating an ion beam with which the sample S is irradiated; a sample chamber 3 maintaining a storage space of the sampling stage 1 as a predetermined vacuum; and refrigerant supplying means 5 for supplying a gaseous refrigerant to cool the sample S inside the sample chamber 3.例文帳に追加

試料Sが設置される試料台1と、試料Sに照射するイオンビームを発生させるイオン源2と、試料台1の収納空間を所定の真空に保持する試料チャンバ3と、試料Sを冷却するための気体冷媒を試料チャンバ3内に供給する冷媒供給手段5とを備えるイオンミリング装置である。 - 特許庁

Since no trough hole is provided to circuit board 6 that forms the rear air chamber S, the sound field in the rear air chamber S is not disturbed by a diffraction effect of the through hole.例文帳に追加

しかも、後気室Ｓを形成する回路基板６には貫通孔が設けられていないので、当該貫通孔の回折効果によって後気室Ｓ内の音場に乱れが発生することがない。 - 特許庁

The rotary piston 85 can move in the clearance S from a low pressure side of a fluid chamber 82 toward a high pressure side (expansion chamber), and is isolated form an inner circumference surface of the cylinder 81.例文帳に追加

間隙（S）は、ロータリピストン（85）が流体室（82）の低圧側から高圧側（膨張室））へ向かって可動し、シリンダ（81）の内周面から離隔するように構成されている。 - 特許庁