「s chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Any two of a narrow-band module 2, a laser chamber 3, and a slit S are moved in a widthwise direction X of electric discharge by moving means 6 and 8.例文帳に追加

狭帯域化モジュール２と、レーザチャンバ３と、スリットＳとのうちでいずれか２つが、放電電極１０、１３の放電幅方向Ｘに沿って移動手段６、８によって移動される。 - 特許庁

The separated gas G is passed through a slit 5-9 so as to be discharged to the downstream-side chamber 4-3 of the apparatus body 4 through the inside cavity part 5-1b of an inner ring 5-1, and it joins the solid S and the liquid L from the electromagnetic flowmeter 7.例文帳に追加

分離された気体Ｇは、スリット５−９を通し、内輪５−１の内側空洞部５−１ｂを通して、装置本体４の下流側室４−３に排出され、電磁流量計７からの固定Ｓ・液体Ｌと合流される。 - 特許庁

The clamping means 29 cooperates with the table 11 to clamp only an outer peripheral portion of the semiconductor wafer W together with the adhesive sheet S in a state wherein the case 14 is closed to form the single pressure-reduced chamber C.例文帳に追加

挟込手段２９は、前記ケース１４を閉塞して単一の減圧室Ｃが形成された状態で、テーブル１１と相互に作用して半導体ウエハＷの外周部のみを接着シートＳと共に挟み込む。 - 特許庁

In a reaction chamber 10, a substrate S is provided in such a way that bias voltage by a bias power source 11 can be applied to it and also a sputtering target 20 is disposed in close vicinity to a plasma window 12a.例文帳に追加

反応室１０内には、基板Ｓがバイアス電源１１によるバイアス電圧が印加できるように設けられるとともに、プラズマ窓１２ａに近接してスパッタ用のターゲット２０が配設される。 - 特許庁

When the wafer W is placed on the cooling plate 60 and cooled, the cover 66 is moved down to form a processing chamber S, and the cover 66 at the low temperature is brought near to the wafer W to facilitate the cooling of the wafer W.例文帳に追加

ウェハＷが冷却板６０上に載置され，冷却される際に，蓋体６６を下降させて，処理室Ｓを形成すると共に，低温の蓋体６０をウェハＷに近づけて，ウェハＷの冷却を促進させる。 - 特許庁

In the measurement chamber, a fixed clamp 24 and a moving clamp 26 are provided, and a measurement sample S is gripped by the fixed clamp and the moving clamp to be held.例文帳に追加

この計測室内には、固定クランプ２４と移動クランプ２６が設けられており、計測試料Ｓが固定クランプと移動クランプに把持されて保持される。 - 特許庁

As a result, since an occupied area of a sewage W in the cross section of the inverted siphon pipe 3 is narrowed to accelerate the velocity of a flowing fluid, sedimentary earth and sand S are washed away and collected in a pit 21 of an inverted siphon chamber 2B on a downstream side.例文帳に追加

この結果、伏越し管３の横断面における下水Ｗの占有面積が小さくなり下水Ｗの流速が速まるので、堆積する土砂等Ｓが押し流されて下流側の伏越し室２Ｂのピット２１内に集められる。 - 特許庁

The threshing cylinder 16 of the thresher structure includes a plurality of threshing cylinder frames 47 and a plurality of threshing teeth 48, and an inner space S connected to a threshing chamber 14 is formed in the threshing cylinder 16.例文帳に追加

扱胴１６を複数の扱胴フレーム４７と複数の扱歯４８とから構成して、扱胴１６の内部に扱室１４に連通する内部空間Ｓを形成する。 - 特許庁

The switch mechanism S is so structured as to be turned on/off by pressing the flame-shaped case 1, and mounted in an upper part of the vertically connected hollow chamber part R.例文帳に追加

スイッチ機構Ｓを、炎形ケース１を押圧することにより、オン／オフ切換え自在に構成するとともに、上下連結状空室部Ｒの上方部位に設ける。 - 特許庁

The film is formed by oscillating an ECR sputter source S having a target, a coil and a plasma chamber so that the central axis 7a of the target follows a circumference L having a predetermined radius from a center of an HD substrate 1.例文帳に追加

ターゲット、コイルおよびプラズマ室を有するＥＣＲスパッタ源Ｓを首振り運動させて、ターゲットの中心軸７ａがＨＤ基板１の中心から所定半径を有する円周Ｌをなぞるようにして成膜する。 - 特許庁

A plasma generation chamber S is sectioned and formed by closing both upper and lower openings of a through-hole 7 formed in a columnar body 6 of a top plate 5 with a microwave transmission window 8 and a lower lid 13.例文帳に追加

トッププレート５の円柱体６に形成した貫通穴７の上下両開口部をマイクロ波透過窓８と下蓋１３とで閉塞させることでプラズマ生成室Ｓが区画形成される。 - 特許庁

In a roof storage chamber 7, an insertion space S for inserting a jack lever 104 for pushing the pushing portion 93 is formed in such a manner as to be opened to the side of the a cabin.例文帳に追加

ルーフ格納室７には、解除用押圧部９３を押圧するジャッキレバー１０４を挿通させるための挿通空間Ｓが車室側に開口して形成されている。 - 特許庁

As a result, the finely cut pieces S stagnated at the boundary of a fixed blade 15 and each of the annular grooves 10 are automatically fitted in the recessed place 26 to be discharged to an outlet chamber 20.例文帳に追加

その結果、固定刃１５と環状溝１０との境に滞留した小細断片Ｓは、自動的に凹所２６に嵌まり込み、出口側室２０に排出される。 - 特許庁

Thus, relatively low temperature air of a bottom side of the chamber S is circulated to the ceiling side 35, thereby suppressing temperature rises of a ceiling side 35 and a ceiling surface 36.例文帳に追加

これにより保存室Ｓの底部側の相対的に低温の空気が天井側３５に循環され、天井側３５並びに天井面３６の温度上昇が抑制される。 - 特許庁

A head main body 10 of a cylinder head 1 is divided into an upper half part 10A and a lower half part 10B at a nearly intermediate position in the vertical direction of a combustion auxiliary chamber 11 as a division surface S.例文帳に追加

燃焼副室１１の上下略中間位置を割り面Ｓとして、シリンダヘッド１のヘッド本体１０を上半部分１０Ａと下半部分１０Ｂとに分割する。 - 特許庁

The atmospheres in the hermetic chambers 40 are exhausted outside through the air passages S and the air chamber 48 and therefore the dew condensation of the rollers and guide members existing in the hermetic chambers 40 does not occur and the immediate removal of moisture is possible in spite of the dew condensation.例文帳に追加

この構成により、気密室４０の雰囲気が空気通路Ｓ、空気室４８を通じて外部へ排気されるため、気密室４０にあるローラやガイド部材が結露せず、また、結露しても直ぐに水分を除去することができる。 - 特許庁

The baseboard 12 is provided with an airflow entrance 18 communicating with the air bag arrangement area S of the mat part 1 and an airflow exit 19 communicating with the pump storing chamber 9 and, then, the gaps are used as airflow passages 17.例文帳に追加

マット部１の空気袋配置領域Ｓと連通する空気流入口１８と、ポンプ収容室９に連通する空気流出口１９とを基板１２に設け、この空隙を空気流路１７として使用する。 - 特許庁

Mercury S enclosed in a space 15d of a chamber 15c of an arc tube 15 is liquefied by a temperature drop and adheres to an electrode 16 after the discharge lamp 12 is extinguished.例文帳に追加

放電ランプ１２の消灯後、温度低下により発光管１５のチャンバー部１５ｃの空間１５ｄ内に封入された水銀Ｓが液化して電極１６に付着する。 - 特許庁

In the manufacturing method of coke carried out in a chamber oven, a hydrocarbon-containing matter which is liquid at 400°C and has a viscosity of 0.1 Pa.s or lower at the same temperature is added to a raw material coal.例文帳に追加

（１）室炉式コークス炉で行うコークスの製造方法であって、温度400℃で液体であり、同温度における粘度が0.1Pa・s以下である炭化水素含有物を原料石炭に添加する。 - 特許庁

A rectangular substrate S is pressed at four points by the abutment block 36 of the positioners 33a, 33b, 33c, and 33d, in the load lock chamber 30 for alignment in X-Y direction.例文帳に追加

矩形をした基板Ｓは、ロードロック室３０内で、ポジショナー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの当接ブロック３６により４点で押圧され、Ｘ−Ｙ方向の位置合わせが行なわれる。 - 特許庁

Basically, a TSCV 12 is closed in a swirl generating region S of the low load low rotation side (steps S2→S7), a swirl flow is generated in a combustion chamber 5, and combustibility of an air-fuel mixture is improved.例文帳に追加

低負荷低回転側のスワール生成領域（Ｓ）において基本的にはＴＳＣＶ１２を閉じ（ステップＳ２→Ｓ７）、燃焼室５にスワール流を生成させて、混合気の燃焼性を高める。 - 特許庁

A steel sheet S passes through a deflector roll 122 in an introduction chamber 120, is introduced into a channel 112, and moves from the lower part to the upper part in a body vessel 111.例文帳に追加

鋼板Ｓは、導入室１２０内のデフレクタロール１２２を経てチャネル１１２に導入され、本体容器１１１内を下方から上方に移動する。 - 特許庁

The velocity of air flow generated in a treating chamber S when evacuating is increased in the peripheral part of the wafer W because the gap between the wafer W and the projected parts 72a is made narrower.例文帳に追加

ウェハＷと突部７２ａとの隙間が狭くなるため，減圧された際に処理室Ｓに発生した気流の速度がウェハＷの周縁部において増大する。 - 特許庁

A protective member 35 of the same material as that of a target 15 is fixed to the periphery of the target 15 on the inner surface of the processing chamber S in a sputtering system 1.例文帳に追加

スパッタリング装置１の処理室Ｓの内側表面であってターゲット１５の周辺に，ターゲット１５と同じ材質の保護部材３５が取り付けられる。 - 特許庁

An air take-in fan 2 is provided to supply chilled air taken from an under floor chamber Q to a chilled air path 1 formed at the front side of an electronic apparatus S from the bottom surface of a rack P.例文帳に追加

床下チャンバＱから取入れた冷気をラックＰ底面から電子機器Ｓの前面に設けた冷気通路１に供給する給気ファン２を設ける。 - 特許庁

A storage chamber 2 having a rope R in this device 1 is fixed to a cabinet body part S, and a tip part of the rope R is fitted to a door T.例文帳に追加

本発明装置１におけるロープＲの収納器２はキャビネット本体部Ｓに固定され、ロープＲの先端部は扉Ｔに取り付けられる。 - 特許庁

A coupling face S in the extruding direction of a male die 2 and a female die 3 is formed in the same flat face as an inner face 27a, positioned on the front side in the extruding direction, of a material lead-in chamber 27 disposed around a mandrel 25.例文帳に追加

雄型２および雌型３相互の押出方向の接合面Ｓが、マンドレル２５の周りに形成された材料流入室２７の押出方向前方側の内面２７ａと同一平面上に設定されている。 - 特許庁

Because there is no gap between the reflectors of adjoining light source units, the lamp can be embodied smaller than in the conventional structure, and also the appearance of inside the lamp chamber S viewed through the front lens 11 is improved.例文帳に追加

隣接する光源ユニットのリフレクター間に隙間がないので、従来構造に比べて、ランプを小型化でき、前面レンズ１１を通した灯室Ｓ内の見栄えも良好となる。 - 特許庁

Thus, the convection is hard to occur in the inner space S, so that, while the substrate 2 carried in the loadlock chamber 20 is being kept at a constant temperature, atmospheric pressure can be shifted to vacuum.例文帳に追加

このような構成により、上記の内部空間Ｓにおいて対流が発生しにくくなるので、ロードロックチャンバー２０内に搬入されてきた基板２の温度を均一に保持しつつ大気圧から真空に移行させることができる。 - 特許庁

A thermal treatment apparatus 68 is equipped with a hot platen 67, which heats a wafer W, keeping it horizontal in position and a lid 63, which forms a space S serving as a treating chamber that processes the wafer W.例文帳に追加

加熱処理装置６８は、ウエハＷを加熱し、基板を水平に保持する熱板６７と、ウエハＷを処理する処理室となる空間Ｓを形成する蓋６３とを具備する。 - 特許庁

The sample chamber 10 is placed on the two-dimensional moving stage 12 while holding a well plate 1 having a plurality of wells 1a in which the samples S are housed, and is moved in an X-Y direction by the two-dimensional moving stage 12.例文帳に追加

試料室１０は、試料Ｓを収容する複数のウエル１ａを有するウエルプレート１を保持して二次元移動ステージ１２上に載置され、二次元移動ステージ１２によってＸ−Ｙ方向に移動する。 - 特許庁

Air of a temperature the same as a temperature of the building interior is sent into the windbreak chamber at about 2 m/s, and the building interior and an exterior is cut off and a loss of the indoor temperature is also prevented by the continuously blown air.例文帳に追加

風除室内に、図１に示すように建物内部の温度と同じ温度の空気を２ｍ／ｓｅｃ程度で送り込み連続的に吹き出す空気により建物内部と外部を遮断し、室内温度の損失も防ぐ。 - 特許庁

Since air flows along a flow regulating plate 20, the phenomenon that air dances at the upper space of the first chamber part 10 and the generation of the flow of air returning to an operator S (the side of the opening port 12 in front) do not occur.例文帳に追加

整流板２０に沿って空気は流れるので、第１チャンバー部１０の上部空間で空気が舞ったり、作業者Ｓ（前方の開口１２側）に舞い戻る空気の流れが発生しない。 - 特許庁

A chilled air opening 5 is formed on the bottom surface of the rack P at the heating part side of the electronic apparatus S to supply the chilled air from the under floor chamber Q to the heating side in the rack P.例文帳に追加

電子機器Ｓの発熱部側のラックＰ底面に、床下チャンバＱからの冷気をラックＰ内の発熱側に供給する冷気開口部５を設ける。 - 特許庁

Both rails 43L, 43R are formed with stoppers 60 rising at the inner edges of the lateral plates 47 and positioned frontward by a prescribed dimension S from the inner wall 16A of the storage chamber 16.例文帳に追加

両レール４３Ｌ，４３Ｒには、横板４７の奥縁にストッパ６０が立ち上がり形成され、収納室１６の奥壁１６Ａから所定寸法Ｓ手前に位置する。 - 特許庁

Operation that the same filler gas as the inside of the pressure chamber 28 is filled into the heat insulating space S and operation that the cover 27 is connected to the element part 9 are performed simultaneously with the manufacture of the element part 9, therefore, manufacturing performance is excellent.例文帳に追加

また、断熱空間Ｓに圧力室２８内と同じ封入ガスを封入する作業と、カバー２７をエレメント部９に接合する作業とが、エレメント部９の製造と同時に行われるため、製造性に優れる。 - 特許庁

The chamber 4A is constituted by closing an open part of a hole with a detachable lid 7, and the lid 7 is provided with an opening 72 of a size which prevents the bell S from flying out.例文帳に追加

室４Ａは、孔の開放部分を着脱可能な蓋体７で閉蓋して構成してあり、前記蓋体７には鈴Ｓが飛び出さない程度の開口７２を設けてある。 - 特許庁

Thereby, even if water and dust are intruded into the storage chamber S, since the water and the dust are prevented from being intruded into the inner case 17, the water and the dust can be prevented from being deposited on the air bag 15.例文帳に追加

これにより、収納室Ｓ内に水や埃が侵入してもそれら水や埃がインナケース１７内に侵入することが防止されるので、エアバッグ１５に水や埃が付着するのを防止することができる。 - 特許庁

The arbitral tribunal referred to a statement of the State Treasury Minister, documents on resolution of the Council of Ministers, reports of the Poland’s Supreme Audit Chamber, etc., and found that the government changed the PZU privatization plan based on the decision that the Ministry of Treasury needed to maintain control over PZU.例文帳に追加

仲裁廷は、ポーランドの財務相の発言、閣議決定の文書、最高監査委員会の報告書等を参照し、財務省によるPZU の支配権維持が必要との判断に基づいてPZU 民営化計画を変更したと認定した。 - 経済産業省

In the automatic learning for the matching point correction, a dummy semiconductor wafer which is not an actual processing object is transported into a chamber and plasma processing is carried out under the same condition as the actual process and automatic matching is made to perform to a matching unit under a reference impedance Z_s, and the measured value of reflected wave power obtained by the reflected wave measuring circuit is fetched and stored in a memory.例文帳に追加

この整合ポイント補正のためのオートラーニングにおいては、実際の加工対象ではないダミーの半導体ウエハをチャンバ内に搬入し、実プロセスと同じ条件でプラズマプロセスを実行して、基準インピーダンスＺ_sの下で整合器にオートマッチングを行わせ、反射波測定回路で得られた反射波電力の測定値を取り込んでメモリに格納する。 - 特許庁

The method for producing a silicon single crystal by doping carbon in a chamber with a Czochralski method comprises the steps of disposing a silicon raw material S in a crucible 3, wherein a carbon dopant is disposed in a position apart from a crucible inner surface 3a by 5 cm or more, that is, in an area range K3, and after the disposition in this state, melting the silicon raw material S.例文帳に追加

チョクラルスキー法によりチャンバ内において炭素をドープしてシリコン単結晶を製造する方法であって、ルツボ３内にシリコン原料Ｓを配置する工程において、炭素ドープ剤を、ルツボ内面３ａに対して５ｃｍ以上離れた位置、つまり、領域範囲Ｋ３内に配置し、この状態で配置工程後にシリコン原料Ｓを溶融する溶融工程をおこなう。 - 特許庁

Discharge gas E discharged from a blower 82 of a deodorizer 80 constituting this treatment device 10 for livestock feces is supplied to right and left space sections S, S provided between opposing wall surfaces of the hopper 31 and the combustion chamber 34, which constitute a hot air flow supply device 30, and right and left space sections T, T provided on a livestock feces adjustment plate 35.例文帳に追加

畜糞処理装置１０を構成する脱臭装置８０のブロワー８２から排出される排ガスＥを、熱風供給装置３０を構成するホッパー３１と燃焼室３４との対向壁面間に設けた左右空間部Ｓ，Ｓと、畜糞量調整板３５に設けた左右空間部Ｔ，Ｔとに供給する。 - 特許庁

The plasma processing device guides the microwaves M transmited inside a wave guide 3 from first and second slot antennas provided to a magnetic field surface H, forms a surface wave S, produces surface wave excitated plasma P by exciting process gas inside a chamber 4 by the surface wave S and processes a processing object by the plasma P.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、導波管２内を伝播するマイクロ波Ｍを磁界面Ｈに設けられた第１および第２のスロットアンテナからマイクロ波導入窓３に導き、表面波Ｓを形成し、表面波Ｓによってチャンバー４内のプロセスガスを励起して表面波励起プラズマＰを生成し、このプラズマＰにより被処理物を処理する。 - 特許庁

The liquid phase epitaxial growing device 1 which epitaxially grows crystal on the lengthwise substrate S is provided with a growing chamber 20 for storing the substrate S stood against a back plate 52a lengthways and a growing solution sink 30 accumulating raw material solution L of crystal grown on the substrate.例文帳に追加

本発明の液相エピタキシャル成長装置１は、縦置きの基板Ｓに結晶をエピタキシャル成長させる装置であって、背板５２ａに立てかけた基板Ｓを縦置きに収容するための成長室２０と、基板に成長させる結晶の原料溶液Ｌを貯留する成長用溶液溜３０とを備える。 - 特許庁

This temperature measurement device having a sensor S detecting thermal radiation rays inside the combustion chamber C of a reciprocating engine has: the nozzle leading a gas X to the vicinity of the surface of the thermal radiation ray incident part 15a of the sensor S; and a gas supply control means A supplying the gas X to the nozzle 5 in an intake stroke and/or an exhaust stroke of the reciprocating engine.例文帳に追加

レシプロエンジンの燃焼室Ｃ内の熱放射線を検出するセンサＳを備えた温度計測装置であって、センサＳの熱放射線入射部１５ａの表面近傍にガスＸを導くノズルと、レシプロエンジンの吸気行程時及び／あるいは排気行程時において、ノズル５にガスＸを供給するガス供給制御手段Ａとを具備する。 - 特許庁