「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(182ページ目) - Weblio英語例文検索

The impurity layer 23 is provided with a collector region 11 of the first conductivity type and a drain region 14 of the second conductivity type, apart from the region layer 9.例文帳に追加

不純物層２３にはベース領域９から離間して第１導電型のコレクタ領域１１および第２導電型のドレイン領域１４が設けられる。 - 特許庁

A compound electrode (40) for an organic electronic device (10) includes a thin first layer (42) of a first electrically conducting material, and a second electrically conducting material disposed on the first layer.例文帳に追加

有機電子デバイス（１０）のための複合電極（４０）は、第１導電性材料の薄い第１層（４２）と、該第１層上に配設された第２導電性材料からなる。 - 特許庁

The opening diameter of the opening at a lower surface portion of the second insulating layer 152 is larger than the opening diameter of the opening at an upper surface portion of the first insulating layer 150.例文帳に追加

第２の絶縁層１５２の下面部分における開口部の開口径が、第１の絶縁層１５０の上面部分における開口部の開口径より大きい - 特許庁

The carrier concentration of the n-type Al_yGa_(1-y)As second clad layer 14 is lower than the carrier concentration of the n-type Al_yGa_(1-y)As first clad layer 13.例文帳に追加

ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_（１−ｙ）Ａｓ第２クラッド層１４のキャリア濃度は、ｎ型Ａｌ_ｙＧａ_（１−ｙ）Ａｓ第１クラッド層１３のキャリア濃度に比べて低くなっている。 - 特許庁

The second buffer layer 16 contains InAlGaN and continuously covers the top surface 14a of the first crystalline layer 14 and the top surface 10a of the substrate 10.例文帳に追加

第２バッファ層１６は、ＩｎＡｌＧａＮを含み、前記第１結晶層１４の前記上面１４ａと前記基板１０の前記上面１０ａとを連続して覆う。 - 特許庁

The laminate 4 is formed by laminating a first insulating layer 5, the primary coil 9, an inter-coil insulating layer 10, the secondary coil 14 and second insulating film 15 and the like.例文帳に追加

また、積層体４は、第１の絶縁層５、１次コイル９、コイル間絶縁層１０、２次コイル１４、第２の絶縁層１５等を積み重ねることによって形成する。 - 特許庁

Either one of the second and the fifth optical compensation layer is a coating layer including a liquid crystal material, and the other is a drawn film of polymer film.例文帳に追加

第２の光学補償層または第５の光学補償層のいずれか一方は液晶材料を含むコーティング層であり、他方は高分子フィルムの延伸フィルムである。 - 特許庁

It is formed by making an opening on the upper part of a seam which is produced when the second conductive layer 9 is embedded on a first conductive layer 7.例文帳に追加

この溝部９ａは、第２の導電層９を第１の導電層７上に埋込み形成する際に生じるシームの上部を開口することにより形成されている。 - 特許庁

By etching, a hole is formed which penetrates a second insulating layer 13 and a third insulating layer 14 composed of porous silicon oxide films and turns to a part of a connection hole 21.例文帳に追加

エッチングにより、多孔質シリコン酸化膜からなる第２絶縁層１３および第３絶縁層１４を貫通して、接続孔２１の一部となる孔を形成する。 - 特許庁

A defect on a surface of the metallic silicide layer with the shallow groove is removed with a second etching solution to form a metallic silicide layer with a smooth surface.例文帳に追加

第２蝕刻液を使用して浅い溝が形成された金属シリサイド層表面に存在する欠陥を除去して滑らかな表面の金属シリサイド層を形成する。 - 特許庁

An optical layer as an air layer is positioned in a gap between a first optical sheet 11 and a second optical sheet 12 which are sheet-shaped light-transmissive optical members.例文帳に追加

透光性を有するシート状の光学部材である第１の光学シート１１と第２の光学シート１２との間隙に空気層としての光学層を設ける。 - 特許庁

In addition, a barrier layer 36 is disposed between the first and second resin layers 32 and 34 for preventing penetration of water vapor into the inside of the shell layer 30.例文帳に追加

そして、第１樹脂層３２と第２樹脂層３４との間には、水蒸気が外皮層３０の内側に侵入することを防ぐバリア層３６が設けられている。 - 特許庁

A heat and press forming of the surface layer pre-preg and the core layer pre-preg is conducted by increasing the heating pressure from a first pressure of 2 to 4 MPa to a second pressure of 5 to 10 MPa.例文帳に追加

表面層プリプレグと芯層プリプレグの加熱加圧成形は、加熱時の圧力を、２〜４ＭPaの第１次圧力から５〜１０ＭPaの第２次圧力へ上げる。 - 特許庁

The positive electrode includes a collector, a first layer capable of irreversible deintercalation of a lithium ion, and a second layer capable of reversible intercalation and deintercalation of the lithium ion.例文帳に追加

集電体、リチウムイオンの非可逆的なデインターカレーションが可能な第１層、及びリチウムイオンの可逆的なインターカレーションとデインターカレーションとが可能な第２層を含む正極。 - 特許庁

Each of the amorphous resins contained in the second layer 3 and the third layer 4 is a methacrylic acid ester resin obtained by polymerization of a methacrylic acid ester monomer.例文帳に追加

第２の層３及び第３の層４に含まれている上記非晶性樹脂はそれぞれ、メタクリル酸エステル単量体を重合して得られるメタクリル酸エステル樹脂である。 - 特許庁

The display device of the invention includes; a first electrode that is transparent on a first surface of a transparent substrate; a light emitting layer formed on the first electrode; and a second electrode formed on the light emitting layer.例文帳に追加

本発明による表示装置では、透明な基板の第１面の上に、透明な第１電極、発光層、及び第２電極が順に積層されている。 - 特許庁

The second optical medium layer 2 consists of a transparent fluid and fills the gap to relax a stress generated between the first optical medium layer 1 and the cover glass 3.例文帳に追加

第二の光学媒体層２は透明な流動体からなり、該間隙に充填されて第一の光学媒体層１とカバーガラス３との間に生じるストレスを緩和する。 - 特許庁

In this case, even on the layer 11, a first polycrystal silicon film is disposed on the metal layer forming region, and a second polycrystal silicon film is formed on the non- forming region.例文帳に追加

このバッファ層１１の上であって、金属層の形成領域上に第１多結晶シリコン膜、非形成領域上に第２多結晶シリコン膜がそれぞれ配置される。 - 特許庁

A first thermoplastic resin layer 12 is laminated on an upper side of a vertical reinforcing cloth 11, and a second thermoplastic resin layer 13 is laminated on a lower side of the vertical reinforcing cloth 11.例文帳に追加

縦補強織布１１の上側に第１の熱可塑性樹脂層１２を積層し、縦補強織布１１の下側に第２の熱可塑性樹脂層１３を積層する。 - 特許庁

Here, the second wiring layer dummy pattern 11 is arranged in the region which is not superimposed on the upper region of the channel region 6 as same as the first wiring layer 9.例文帳に追加

ここで、前記第二配線層ダミーパターン１１は、前記第一配線層９と同様に、前記チャネル領域６の上部領域に重ならない領域に配置される。 - 特許庁

In this structure, a resonator structure for making light emitted from the luminescent layer 352 resonate between the translucent reflecting layer 12 and the second electrode 22 is formed.例文帳に追加

この構成においては、発光層３５２からの出射光を半透過反射層１２と第２電極２２との間で共振させる共振器構造が形成される。 - 特許庁

On a p-type drain diffusion layer 21d, a gate lower layer 33 is formed at lower side ends on the sides of the first common gate 10G and a second gate 20G.例文帳に追加

また、ｐ型ドレイン拡散層２１ｄ上において、第１共有ゲート１０Ｇの第２共有ゲート２０Ｇ側の側端下部にはゲート下部層３３が形成されている。 - 特許庁

Further, an air layer 20 of at least 10μm is formed between a region of the translucent resin layer 15 where the second filler 17 is not located and the light transmission plate 4.例文帳に追加

そして、第２のフィラー１７が位置していない透光性樹脂層１５の領域と導光板４との間に少なくとも１０μｍの空気層２０が形成される。 - 特許庁

A first buffer layer 2a near a silicon substrate 1 and second buffer layer 2b on other portions have a high and low concentrations of an n-type impurity, respectively, resulting in some concentration difference.例文帳に追加

シリコン基板１の近傍をＮ型不純物の濃度が濃い第１バッファ層２ａとし、それ以外の部分を濃度が薄い第２バッファ層２ｂとして濃度差をつける。 - 特許庁

The wavelength is switched to the different one by the wavelength switching mechanism 30 so as to construct the three-dimensional shape of the upper surfaces of the first layer 23a and the second layer 23b.例文帳に追加

波長切替機構３０によって異なる波長に切り替えて、第１層２３ａの上面と第２層２３ｂの上面との３次元形状を構築する。 - 特許庁

The peeling layer and the adhesive layer are obliquely disposed based on the substrate sheet on at least one of the first substrate sheets 1 side and the second substrate sheet 2 side.例文帳に追加

そして、第一の基材シート１側及び第二の基材シート２側の少なくとも一方の側において、粘着層及び剥離層を基材シートに対して斜めに設ける。 - 特許庁

The forming method of the wiring structure includes a first process of forming a metal layer 4 on a substrate 1, and a second process of annealing the metal layer 4 by irradiating light emitted from a flush lamp thereto.例文帳に追加

基体１上に金属層４を形成する第１工程と、金属層４にフラッシュランプから発せられる光を照射してアニールを行う第２工程とを含む。 - 特許庁

A signal wiring formation area 30 for forming signal wiring is provided between the mutually adjacent first layer power wiring clusters 10 and between the mutually adjacent second layer power wiring clusters 20.例文帳に追加

隣り合う第１層電源束配線１０間及び第２層電源束配線２０間には、信号配線を形成するための信号配線形成領域３０を有する。 - 特許庁

Furthermore, the first coating layer 16 and the second coating layer 18 can be manufactured by a simple method such as an immersion method or the like, enabling the tatami mat surface to be manufactured inexpensively.例文帳に追加

さらに、第１コーティング層16や第２コーティング層18は浸漬法などの簡便な方法で製造できるので原料ロスが少なく、畳表を安価に製造できる。 - 特許庁

A fuse layer 18T is formed on a second interlayer insulating film 17 above a semiconductor substrate 10 and the fuse layer 18T is covered with a third interlayer insulating film 20.例文帳に追加

半導体基板１０上の第２の層間絶縁膜１７上にヒューズ層１８Ｔが形成され、ヒューズ層１８Ｔは第３の層間絶縁膜２０で覆われる。 - 特許庁

Next, after a second insulation layer 17 is formed on the first insulation layer 15, a contact hole 21b is formed as to expose the pad electrode 14 of a normal chip 12.例文帳に追加

次に、第１絶縁層１５上に第２絶縁層１７を形成した後、良品チップ１２のパッド電極１４を露出するコンタクトホール２１ｂを形成する。 - 特許庁

Next, a second active layer 30b is grown on the semiconductor substrate 10 on which the first active layer 30a is etched using the etching mask 42 as a selective growing mask.例文帳に追加

次に、エッチングマスク４２を選択成長マスクとして用いて、第１活性層３０ａがエッチングされた半導体基板１０上に、第２活性層３０ｂを成長する。 - 特許庁

A first layer on the substrate among the silicon nitride films which are laminated has film quality such that an Si-H group is high and a second layer outside it has film quality such that film density is high.例文帳に追加

積層する窒化シリコン膜の内で、基板側の第１の層をＳｉ−Ｈ基が高い膜質とし、外側の第２の層を膜密度が高い膜質とする。 - 特許庁

A second semiconductor layer 20 containing impurities is formed on a first semiconductor layer 10 having recessed parts 11 and projecting parts 12 to coat the recessed parts 11 and the projecting parts 12.例文帳に追加

凹部１１及び凸部１２が形成された第１半導体層１０の上に、不純物を含む第２半導体層２０を形成して、凹部１１及び凸部１２を被覆する。 - 特許庁

Next, a lower layer 11 of a second inter-layer insulation membrane is formed, an SOG membrane 14 is laminated and etched back to let the SOG membrane remain in the preliminary opening part C1a.例文帳に追加

次に、第２の層間絶縁膜下層１１を形成し、さらにＳＯＧ膜１４を積層させてからエッチバックして予備開口部Ｃ１ａにＳＯＧ膜を残留させる。 - 特許庁

When measuring the concentration of inert gas in a first hollow layer 15 and in a second hollow layer 17, an inert gas concentration measuring device 30 shown in Fig.4 is used.例文帳に追加

第１の中空層１５、及び第２の中空層１７の不活性ガスの濃度を測定する場合には、図４に示す不活性ガス濃度測定装置３０を用いる。 - 特許庁

The nucleic acid-amplifying substrate 10 is obtained by laminating a first layer and a second layer and forming a space between them to form a reaction liquid-storing part 20.例文帳に追加

核酸増幅基板１０は、第一層と第二層が積層されたものであり、両者の間で空隙が形成されて反応液溜部２０が形成されている。 - 特許庁

A first p-side electrode 40 and a second p-side electrode 42 are provided on the cap layer and the back side of the substrate, and an n-side electrode 44 is provided on the contact layer.例文帳に追加

キャップ層上及び基板裏面には第１ｐ側電極４０及び第２ｐ側電極４２が、コンタクト層上にはｎ側電極４４が設けてある。 - 特許庁

On the inter-layer insulating film 17, a second metal film 24 having a lower Young's modulus than that of the first metal layer 20 is formed covering the remaining first metal film 20.例文帳に追加

残された第１金属膜２０を覆うように層間絶縁膜１７上に、第１金属膜２０よりもヤング率が低い第２金属膜２４を形成する。 - 特許庁

A chlorinated rubber adhesive is coated on the surface of the layer 2, and dried in the atmosphere at 70°C for 5 min to form a second adhesive layer 3.例文帳に追加

前記第１接着剤層２表面には、塩化ゴム系接着剤を塗布し、７０℃の温度雰囲気下で５分間乾燥させて第２接着剤層３を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor substrate comprises a first process of forming the SiGe layer 1 on a silicon substrate 3, and a second process of forming the insulator layer 2 on the silicon substrate 3.例文帳に追加

シリコン基板３上にＳｉＧｅ層１を形成する第１の工程と、前記シリコン基板３中に絶縁体層２を形成する第２の工程とを備える。 - 特許庁

In a coating resin insulating layer forming process, a third resin insulating layer 130 having a second via hole 211b from which the small diameter via projecting part 116b is exposed is formed.例文帳に追加

次いで、被覆樹脂絶縁層形成工程で、小径ビア凸部１１６ｂが露出する第２ビアホール２１１ｂを有する第３樹脂絶縁層１３０を形成する。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the laminated sheet 30 joins a first resin layer 3, a second resin layer 4 and a fiber base material 2 to manufacture the laminated sheet 40.例文帳に追加

積層シート製造装置３０は、第１の樹脂層３および第２の樹脂層４と繊維基材２とを接合して積層シート４０を製造するものである。 - 特許庁

The first porous layer 33a, as well as, the second porous layer 33b is structured of a paste-like kneaded object obtained by kneading conductive powder and a water repellent.例文帳に追加

第１の微細孔層３３ａおよび第２の微細孔層３３ｂは、それぞれ、導電性粉末と撥水剤とを混練して得られるペースト状の混練物で構成されている。 - 特許庁

The thermal-chromatic element includes a sealed housing, an isolation layer, a first heating structure, a second heating structure, a thermal-chromatic structure, and an absorption layer.例文帳に追加

本発明の熱変色性素子は、密封筐体と、隔離層と、第一加熱構造体と、第二加熱構造体と、熱変色性構造体と、吸収層と、を備える。 - 特許庁