「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(181ページ目) - Weblio英語例文検索

The collector is used such that when the positive electrode is formed, the second conductive layer is positioned on the side of the positive electrode active material layer of the nickel-containing positive electrode.例文帳に追加

そして、正極の形成時には、第２の導電性層がニッケル含有正極の正極活物質層の側に位置するように用いられる点にも特徴を有する。 - 特許庁

Two laser beams are used, with one laser irradiation being focused on a first substrate layer and the other focused on a second substrate layer to remove the layers.例文帳に追加

そのための一方が第１基板層上に集束し、他方が第２基板層上に集束する２つのレーザが用いられ、それによって前記層が除去される。 - 特許庁

The second surface is comprised of a surface of a low refractive index layer of an antireflection film 30 having at least the low refractive index layer or a surface having anti-glare irregularities 35.例文帳に追加

第２面は、少なくとも低屈折率層を有した反射防止膜３０の前記低屈折率層の表面、あるいは、防眩性凹凸３５を有した面からなる。 - 特許庁

The other end 101b of the vibrating member 101 can vibrate in a direction which is parallel with a direction 105 in which the first piezoelectric material layer 113 and the second piezoelectric material layer 123 are connected.例文帳に追加

振動部材１０１の他端１０１ｂは、第１の圧電体層１１３と第２の圧電体層１２３とを結ぶ方向１０５と平行な方向に振動可能である。 - 特許庁

The second organic EL emitter 20 is constructed of a glass substrate and an ITO membrane 22, a luminous layer 23, a cathode layer 24, and a sealing substrate 25 that are laminated on its both sides.例文帳に追加

第２の有機ＥＬ発光体２０は、ガラス基板と、その両面に積層されたＩＴＯ膜２２、発光層２３、陰極層２４、封止基板２５で構成する。 - 特許庁

In succession, a lower electrode seed layer and a plating mask layer are successively formed on the second interlayer insulating film, and a hole is formed by etching so as to expose the lower electrode pad 78.例文帳に追加

続いて、第２層間絶縁膜上に下部電極用シード層とメッキマスク層を順次に形成し、蝕刻により下部電極パッドを露出させるホールを形成する。 - 特許庁

In this case, the lateral width W_1 of the uppermost part of the ridge structure in the second clad layer 109 and lateral width W_0 of the cap layer 110 fulfill the relation of W_1 < W_0.例文帳に追加

ここで、第２クラッド層１０９におけるリッジ構造の最上部の横幅Ｗ_１とキャップ層１１０の横幅Ｗ_０が、Ｗ_１＜Ｗ_０の関係を満たす。 - 特許庁

The mold 10 is composed of an amorphous alloy layer 12 forming a cavity surface and a second layer 14 comprising a sintered body of a powder of the same amorphous alloy.例文帳に追加

金型１０を、キャビティ表面を形成する非晶質合金層１２と、同じ非晶質合金の粉末の焼結体からなる第２層１４とから構成する。 - 特許庁

A micro electromechanical system component area 22 is positioned above substrates 21 and has a metal layer 22a, a through hole layer 22b, an insulation material area 22c, and a second chamber 22d.例文帳に追加

マイクロ電気機械システム部品エリア２２は、基板２１の上方に位置し、かつ金属層２２ａ、スルーホール層２２ｂ、絶縁材エリア２２ｃおよび第二チャンバー２２ｄを有する。 - 特許庁

By pinching an insulating membrane, the scanning lines are formed by a plurality of conductive films of a first scanning line layer 36 and a second scanning line layer 37 in a direction perpendicular to the signal line 8.例文帳に追加

走査線を、絶縁膜を挟んで、信号線８と直角方向に第１走査線層３６と第２走査線層３７の複数の導電膜で形成する。 - 特許庁

A cathode of the organic light-emitting device comprises a first layer 5 of a conductive material and a second layer 4 of a conductive material having a work function of 3.7 ev. at most.例文帳に追加

有機発光デバイスのカソードは、導電性材料の第一層５と、最高で３．７ｅＶの仕事関数を有する導電性材料の第二層４とからなる。 - 特許庁

A first back facing hole 9 formed from a surface toward an inner part is formed at least in the first insulating layer 5 or the second insulating layer 6.例文帳に追加

第１の絶縁層５又は第２の絶縁層６の少なくとも一方に、表面から内方に向かって形成された第１のザグリ穴９が形成されている。 - 特許庁

The first Al_X1In_X2Ga_1-X1-X2N layer 13a and the second Al_Y1In_Y2Ga_1-Y1-Y2N layer 15 are located on a substrate 23.例文帳に追加

第１のＡｌ_Ｘ１Ｉｎ_Ｘ２Ｇａ_１−Ｘ１−Ｘ２Ｎ層１３ａ及び第２のＡｌ_Ｙ１Ｉｎ_Ｙ２Ｇａ_１−Ｙ１−Ｙ２Ｎ層１５は、基板２３上に設けられている。 - 特許庁

Respective channels formed on the upper surface of the circuit board 12 are individually connected to the grounding potential through the first grounding layer 26 or the second grounding layer 28.例文帳に追加

そして、回路基板１２の上面に形成された各チャンネルは、個別に第１接地層２６または第２接地層２８を経由して、接地電位と接続される。 - 特許庁

Additionally, an SiOx layer is formed on the laminated substrate 4 as the second undercoat layer for a transparent conductive film and the transparent conductive film 5 composed of ITO is formed by sputtering.例文帳に追加

さらに、この積層基板４に、透明導電膜の第２のアンダーコート層としてＳｉＯ_Xを形成し、ＩＴＯからなる透明導電膜５をスパッタにて形成する。 - 特許庁

The optical disk 1 has a structure wherein a first substrate 5, a reflection layer 33, a recording layer 9 comprising a gelatinously cured hologram recording material and a second substrate 7 are layered.例文帳に追加

光ディスク１は、第１基板５、反射層３３、ゲル状に硬化したホログラム記録材料を含む記録層９、第２基板７が積層された構造をしている。 - 特許庁

An SOI substrate 1 has a supporting substrate 12, an insulating film 14 (a first insulating film), an insulating film 16 (a second insulating film), and a silicon layer 18 ( a silicon active layer).例文帳に追加

ＳＯＩ基板１は、支持基板１２、絶縁膜１４（第１の絶縁膜）、絶縁膜１６（第２の絶縁膜）、およびシリコン層１８（シリコン活性層）を備えている。 - 特許庁

This assembly has at least two juxtaposed stretch sensors, each stretch sensor having a first layer bearing the variable resistance element and a second support layer.例文帳に追加

このアセンブリは、少なくとも２つの並置されたストレッチ・センサを持ち、しかも、それぞれのストレッチ・センサが、可変抵抗素子を載せた第１の層と第２の支持層とを有している。 - 特許庁

Data is recorded in a track disposed in a guiding groove G on a first recording layer M0, and data is recorded in a track disposed between guiding grooves L on a second recording layer M1.例文帳に追加

第１記録層Ｍ０では案内溝内Ｇに設けられたトラックにデータが記録され、第２記録層Ｍ１では案内溝間Ｌに設けられたトラックにデータが記録される。 - 特許庁

Furthermore, the through hole plating layer 16 is etched using the second resist 32 as a mask thus obtaining a pad wiring portion 22 including the partial cover plating layer 20 and a wiring pattern 24.例文帳に追加

さらに、第２レジスト３２をマスクにしてスルーホールめっき層１６をエッチングすることにより、部分カバーめっき層２０を含むパッド配線部２２と配線パターン２４とを得る。 - 特許庁

Furthermore, the method has (d) a process of reacting the silicon of the second impurity diffused layer 8 with nickel, by annealing to form the silicide layer 11, after the process (c).例文帳に追加

そして、（ｄ）工程（ｃ）の後に、熱処理により第２の不純物拡散層８のシリコンと、ニッケルとを反応させてシリサイド層１１を形成する工程を備える。 - 特許庁

The apparatus 30 for fabricating laminate sheet fabricates the laminate sheet 40 by joining a first resin layer 3 and a second resin layer 4 to both surfaces of a fiber base material 2.例文帳に追加

積層シート製造装置３０は、第１の樹脂層３および第２の樹脂層４を繊維基材２の両面に接合して積層シート４０を製造するものである。 - 特許庁

A resist pattern is formed on a first material layer and an isotropic layer of a second material is deposited on the resist pattern to cover the upper part and side wall of a resist structure.例文帳に追加

第１の材料層上にレジスト・パターンが形成され、レジスト・パターン上に第２の材料の等方層が堆積されてレジスト構造の上部および側壁を覆う。 - 特許庁

Also, the character string written in the layer for retrieval is turned into a first character string group, and the character string in the reverse order is written in the layer for retrieval as a second character string group (128, 130).例文帳に追加

また、検索用レイヤーに書き出した文字列と第１文字列群とし、逆順の文字列を第２文字列群として検索用レイヤーに書き出す（１２８、１３０）。 - 特許庁

Hereby, each concentration of inert gas in the first hollow layer 15 and in the second hollow layer 17 can be measured individually without decomposing the double glazing structure 10.例文帳に追加

これにより、複層ガラス構造体１０を分解することなく、第１の中空層１５、及び第２の中空層１７の不活性ガスの濃度を個別に測定できる。 - 特許庁

Further, the conductive adhesive sheet 1 has a first mold release sheet 4 and a second mold release sheet 5 which nip the conductive adhesive layer 2 and the tacky resin layer 3.例文帳に追加

さらに、導電性接着シート１は、導電性接着剤層２およびタック性樹脂層３を挟持した第１離型シート４および第２離型シート５を有している。 - 特許庁

A light-emitting end surface 48 of the first laser part is covered with an n-GaInP buffer layer 42 of the lowermost layer of an AlGaInP system laminated structure constituting the second laser part.例文帳に追加

第１のレーザ部の出射端面４８は、第２のレーザ部を構成するＡｌＧａＩｎＰ系積層構造の最下層のｎ−ＧａＩｎＰバッファ層５２で覆われている。 - 特許庁

The first layer is in contact with the first electrode and the third layer is in contact with the second electrode.例文帳に追加

第１の層と第２の層と第３の層とは、第２の層を間に挟むように順に積層されており、第１の層は第１の電極に接し、第３の層は第２の電極に接する。 - 特許庁

The optical information recording/reproducing device reproduces information, by using the predetermined area in the second layer corresponding to the position of the first layer of which a defect is registered, as the defective area.例文帳に追加

光情報記録再生は、第１の層の欠陥が登録された位置と対応する第２の層における所定の領域を、欠陥領域として情報を再生する。 - 特許庁

A compound electrode (40) for organic electronic devices (10) consists of a thin first layer (42) of a first electrically conducting material and a second electrically conducting material arranged on the first layer.例文帳に追加

有機電子デバイス（１０）のための複合電極（４０）は、第１導電性材料の薄い第１層（４２）と、該第１層上に配設された第２導電性材料からなる。 - 特許庁

Namely, the p-type current block layer 111 is formed first in the first mode M1 and second mode M2, and then the n-type current blocking layer 112 is grown.例文帳に追加

つまり、第１モードＭ１および第２モードＭ２によりｐ型電流ブロック層１１１を先に成長し、その後に、ｎ型電流ブロック層１１２を成長する。 - 特許庁

On a substrate, the first metal layer 43 and a second metal layer 45 are vapor-deposited sequentially, and moreover a photosensitive film 47 with prescribed width (W1) is formed ((a) in Fig.5).例文帳に追加

基板上に第１金属層４３と第２金属層４５を連続して蒸着し、さらに所定幅（Ｗ１）を持つ感光膜４７を形成する（図５（ａ））。 - 特許庁

On the sidewall of this opening, a conductive spacer 210 is formed, and using the second insulating layer and conductive spacer as a mask, the first insulating layer within the opening is removed.例文帳に追加

この開口部の側壁上に導電性のスペーサ２１０を形成し、第２絶縁層及び導電性のスペーサをマスクとして、開口部内の第１絶縁層を除去する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a first conductive layer included in a stack having a transistor and a second conductive layer over a substrate are electrically connected.例文帳に追加

トランジスタを有する積層体が含む第１の導電層と、基板上の第２の導電層との間の電気的に接続させた半導体装置を提供する。 - 特許庁

The first optical compensation layer and the second optical compensation layer are formed so that the slow axis of each of them and the absorption axis of the polarizer make an angle falling within a specified range.例文帳に追加

第１の光学補償層と第２の光学補償層は、それぞれの遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が特定範囲内となるように形成される。 - 特許庁

The conductive layer is arranged on the second end part of the insulating layer, electrically connected to the grid electrode, and electrically insulated from the field emission unit.例文帳に追加

前記導電層は、前記絶縁層の前記第二端部に配置され、前記グリッド電極に電気的に接続され、且つ前記電界放出ユニットと電気的に絶縁される。 - 特許庁

The feeding coil is wound such that a coil conductor 106a of a first layer and a coil conductor 106b of a second layer do not superimpose each other when viewed from an axial direction (z-axial direction).例文帳に追加

また、軸方向（ｚ軸方向）から見たとき、第１層のコイル導体１０６ａと第２層のコイル導体１０６ｂが重なり合わないように巻回される。 - 特許庁

An insulating layer 17 is preferably formed, after the step of forming the organic layers by applying the organic material and before the step of forming a portion of the organic EL layer or the second electrode.例文帳に追加

有機層を塗布形成した工程後で有機ＥＬ層の一部又は第２電極を形成する工程前に、絶縁層１７を形成することが好ましい。 - 特許庁

The color filter layer 40 includes a first region 44 formed of one colored layer 42, and a second region 46 formed of at least two stacked colored layers 42.例文帳に追加

カラーフィルタ層４０は、１層の着色層４２からなる第１領域４４と、２層又はそれ以上の積層された着色層４２からなる第２領域４６と、を含む。 - 特許庁

Gate electrodes 13 of the select transistors have a first conductive layer and a second conductive layer, which are electrically connected by connection parts 16.例文帳に追加

前記選択トランジスタのゲート電極１３は第１の導電層と第２の導電層を有し、前記第１及び第２の導電層は接続部１６により電気的に接続される。 - 特許庁

Also, a second insulating layer 109 comprising the silicon nitride is formed extended (crossing) from a periphery of the first insulating layer 108 to an upper surface of a base electrode 111.例文帳に追加

また、第１絶縁層１０８の周囲からベース電極１１１の上面にかけて（渡って）窒化シリコンからなる第２絶縁層１０９が形成されている。 - 特許庁

To provide an optical pickup device performing read operation of signals recorded in a first recording layer and a second recording layer provided to an optical disk.例文帳に追加

光ディスクに設けられている第１信号記録層及び第２信号記録層に記録されている信号の読み出し動作を行う光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁

Here, the transparent conductive film includes a layer of particles 20 of a first conductive metal oxide and a second conductive metal oxide 4, 4' existing in this layer.例文帳に追加

ここで、透明導電性膜は、第１の導電性金属酸化物の粒子２０の層、及びこの層中に存在している第２の導電性金属酸化物４、４’を有する。 - 特許庁

The additional capacitor has a first capacity electrode (9b) provided with the same layer as that of the pixel electrode and a second capacity electrode (76), consisting of the same layer as that of the common electrode.例文帳に追加

付加容量は、画素電極と同一層からなる第１容量電極（９ｂ）と、共通電極と同一層からなる第２容量電極（７６）とを有する。 - 特許庁

The anisotropic conductive film 1 is formed by laminating a first resin layer 1A including an oxetane compound and a second resin layer 1B including a cationic initiator in sequence.例文帳に追加

異方性導電フィルム１は、オキセタン化合物を含有する第１の樹脂層１Ａと、カチオン重合開始剤を含む第２の樹脂層１Ｂとが順次積層されてなる。 - 特許庁