「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(223ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, in a ridge forming process, the second p-type clad layer 6 is removed partially by a first etching process through dry etching and a second etching process through wet etching.例文帳に追加

また、リッジ形成工程において、第２のｐ型クラッド層６を、ドライエッチングによる第１のエッチング工程と、ウェットエッチングによる第２のエッチング工程とにより、部分的に除去する。 - 特許庁

Accordingly, since a side surface 420 of the second electrode 40 is covered with the piezoelectric layer 30, electric field concentration in the vicinity of the side surface 420 of the second electrode 40 can be relaxed.例文帳に追加

これによれば、第２電極４０の側面４２０が圧電体層３０で覆われているため、第２電極４０の側面４２０付近の電界集中を緩和することができる。 - 特許庁

The first adhesive layer 4 is coated with a second resin 50 (refer to fig. 2(c)), and a substrate body 2 as a sub-assembly formed previously is mounted on the second resin 50 (refer to fig. 2(d)).例文帳に追加

第１の接着層４に第２の樹脂５０を塗布し〔図２（ｃ）参照〕、その第２の樹脂５０の上に、予め形成されたサブアセンブリとしての基板本体２を載せる〔図２（ｄ）参照〕。 - 特許庁

The laminated circuit board is arranged between the first wiring board and the second wiring board and has an adhesive layer for electrically bonding the first land and the second land with a conductive material.例文帳に追加

さらに、積層回路基板は、第１配線基板と第２配線基板との間に配置され、第１ランドと第２ランドを導電性材料にて電気的に接合する接着層を有する。 - 特許庁

There is provided a semiconductor device having a capacitance element and a second transistor provided over a first transistor, an offset region being provided in a semiconductor layer of the second transistor.例文帳に追加

第１のトランジスタ上に設けられた第２のトランジスタと容量素子とを有し、第２のトランジスタの半導体層にはオフセット領域が設けられた半導体装置を提供する。 - 特許庁

The wiring layer insulating film 9 has a wiring groove 11 for first wiring and a wiring groove 12 for second wiring formed, the wiring groove 12 for second wiring being wider than the wiring groove 11 for first wiring.例文帳に追加

配線層絶縁膜９には、第１配線用配線溝１１と、第１配線用配線溝１１よりも広幅の第２配線用配線溝１２と、が形成されている。 - 特許庁

The point control NT box includes a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal layer sealed between the first substrate and the second substrate.例文帳に追加

本発明は、第一基板と、前記第一基板と対向する第二基板と、前記第一基板と第二基板との間にシールされている液晶層と、を含む点制御式ＴＮ箱を提供する。 - 特許庁

Etching is performed to a first region above the metal pattern 18 of the insulating layer 30 and to a second region above at least the second portion 28 of the semiconductor pattern 16.例文帳に追加

絶縁層３０の、金属パターン１８の上方の第１領域と、半導体パターン１６の少なくとも第２部分２８の上方の第２領域と、に対してエッチングを行う。 - 特許庁

In the early stage of the second etching process, the initial groove mask 54 covers a portion of the upper surface of the bottom formation layer 42 in a region where the second portion is scheduled to be formed.例文帳に追加

第２のエッチング工程の当初は、第２の部分が形成される予定の領域における底部形成層４２の上面の一部が初期溝マスク５４によって覆われている。 - 特許庁

A connection part 12 is formed under the second impurity diffusion layer in the element forming film, and electrically connects a body region of the first element with a body region of the second element.例文帳に追加

接続部１２は、素子形成膜における第２の不純物拡散層の下方に形成され、第１の素子のボディ領域と第２の素子のボディ領域とを電気的に接続する。 - 特許庁

In a first process, the first substrate 103 and second substrate 100 are stuck and bonded together so that the functional region 106 and second isolation layer 115 come into contact with each other.例文帳に追加

第１の工程では、第１の基板１０３と第２の基板１００とを、機能性領域１０６と第２の分離層１１５とが接触する様に貼り合わせて接合する。 - 特許庁

Since the active region of the second element is formed by avoiding the border surface between the support substrate and the second semiconductor layer, the leak current is suppressed, thereby enhancing the characteristic of the device.例文帳に追加

上記第２の素子の活性領域を、上記支持基板と第２の半導体層との界面を避けて形成できるので、リーク電流を抑制でき、デバイスの特性を向上できる。 - 特許庁

An insulation layer 26 interposed between the first bimetal element and the second bimetal element 24 electrically and thermally insulates the first bimetal element from the second bimetal element 24.例文帳に追加

第１のバイメタル要素と第２のバイメタル要素２４との間に介在する絶縁層２６は、第１のバイメタル要素と第２のバイメタル要素２４とを電気的および熱的に絶縁する。 - 特許庁

Next, the first resist and the second resist are developed to remove the first soluble portion 3b and the second soluble portion 6b, thereby giving an electroforming mold 101 having an electroconductive layer on the basal part of respective steps.例文帳に追加

次に第１のレジスト及び第２のレジストを現像し、第１の可溶部３ｂと第２の可溶部６ｂを除去し、各段の底部に導電層を有する電鋳型１０１を得る。 - 特許庁

A second contact surface S2 between the second dielectric layer 102 and the first internal electrode 21 has such surface property that reflects the rough surface property of the first internal electrode 21.例文帳に追加

第２の誘電体層１０２と第１の内部電極２１との間の第２の接触面Ｓ２は、第１の内部電極２１の凹凸の表面性を反映した表面性を持つ。 - 特許庁

It is possible that a second gas barrier resin film is laminated on the surface of the above moisture absorption resin film and an adhesive layer is provided on the surface of this second gas barrier resin film.例文帳に追加

上記吸湿性樹脂フィルムの表面に第２のガスバリヤ性樹脂フィルムを積層し、この第２のガスバリヤ性樹脂フィルムの表面に接着剤層を有せしめてもよい。 - 特許庁

Also, the outer surface of the first sheet body 21 is covered with a second soil layer 32, and the outer surface is covered with a second sheet body 24 which is the sheet for the storage warehouse having an explosion suppressing function.例文帳に追加

又、第１シート体２１の外面が第２土層３２で覆われており、その外面が爆発抑制機能を有する貯蔵倉庫用シートである第２シート体２４で覆われている。 - 特許庁

A second transparent electrode 15 with a diameter shorter than that of the first transparent electrode 14 is formed on a surface of the second transparent substrate 12 on the side opposite to a surface facing the liquid crystal layer 13.例文帳に追加

第２の透明基板１２の液晶層１３と対向する側と反対側の表面には、第１の透明電極１４よりも小さい径の第２の透明電極１５を形成する。 - 特許庁

The liquid crystal display device is provided with a pair of first and second electrode substrates G1, G2 and a liquid crystal layer LQ held between the first and the second electrode substrates G1, G2.例文帳に追加

液晶表示装置は一対の第１および第２電極基板Ｇ１，Ｇ２と、第１および第２電極基板Ｇ１，Ｇ２間に挟持される液晶層ＬＱとを備える。 - 特許庁

A liquid crystal device includes: a liquid crystal display panel in which a liquid crystal layer is retained between first and second substrates; and first and second frames holding the liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶装置は、第１の基板及び第２の基板の間に液晶層を保持する液晶表示パネルと、液晶表示パネルを挟持する第１及び第２のフレームとを備える。 - 特許庁

The second conductive layer 17 is not in contact with first/second side surfaces 10c, 10d while including a first contact portion 17b1 in contact with a first main surface 10a.例文帳に追加

第２の導電層１７は、第１の主面１０ａに接触している第１の接触部１７ｂ１を有する一方、第１及び第２の側面１０ｃ、１０ｄには接触していない。 - 特許庁

A second light shielding layer and a terminal part are provided in the second area outside the end part of the effective screen, and a connecting member 40 connected to the terminal part is provided inside the contour of the front substrate 20.例文帳に追加

有効画面端部から第２領域には、第２遮光層および端子部を設け、端子部に接続された接続部材４０を前面基板２０の外形よりも内側に収める。 - 特許庁

When the connection pipe is the second pipe 3, the material layer 5 including the water-soluble resin is provided on an outer peripheral surface of the elastic member 4 of the second pipe 3.例文帳に追加

本発明に係る接続用管が第２の管３である場合には、第２の管３の弾性部材５の外周面に、水溶性樹脂を含む材料層５が設けられている。 - 特許庁

This conveying device 60 includes a first roll 88 and second roll 92, arm members 84 and 85 for supporting the second roll 92, and a retract cam 98 formed with an urethane resin layer 98A.例文帳に追加

搬送装置６０は、第１ロール８８及び第２ロール９２と、第２ロールを支持するアーム部材８４、８５と、ウレタン樹脂層９８Ａが形成されたリトラクトカム９８とを有している。 - 特許庁

An auxiliary second electrode 28 conducting to the second electrode 18 is provided on the organic flattened layer 10 above the power source wiring 103 in parallel with the power source wiring 103.例文帳に追加

有機平坦化層１０上には、電源配線１０３の上方に、電源配線１０３に並行して第２電極１８に導通する補助第２電極２８が設けられている。 - 特許庁

The liquid crystal display panel 1 includes, first and second substrates 11, 12 opposed to each other to have a liquid crystal 15 inbetwteen, and a reflecting layer 121 formed on the second substrate 12.例文帳に追加

液晶表示パネル１は、相互に対向して液晶１５を挟持する第１基板１１および第２基板１２と、第２基板１２上に形成された反射層１２１とを有する。 - 特許庁

Each laminated wiring pattern includes a first wiring pattern 30, a second wiring pattern 40 and an insulating layer 50 held between the first and second wiring patterns 30 and 40, and prints one printing dot on a recording medium.例文帳に追加

各積層配線パターンは、第１配線パターン３０、第２配線パターン４０、および、これらに挟まれた絶縁層５０を備えていて、記録媒体に１画点を印画する。 - 特許庁

A common mode filter 100 includes first and second ceramic base members 11a and 11b and a functional layer 12 interposed between the first ceramic base member 11a and the second ceramic base member 11b.例文帳に追加

コモンモードフィルタ１００は、第１及び第２のセラミック基体１１ａ、１１ｂと、第１のセラミック基体１１ａと第２のセラミック基体１１ｂに挟まれた機能層１２とを備えている。 - 特許庁

A control cut-off device is equipped with first and second levers 10 and 20 rotatably supported on a substrate 4 a cut-off bar 30 provided to the second layer and a switch 50.例文帳に追加

基板４に回転自在に支持された第１のレバー１０及び第２のレバー２０と、第２のレバーに設けられた遮断棒３０と、スイッチ５０とを備えた操作遮断装置２。 - 特許庁

A first electrode 33 electrically connected to the interconnect layer is formed on the first surface side, and a second electrode 43 electrically connected to the contact plug is formed on the second surface side.例文帳に追加

第１の面側に配線層と電気的に接続された、第１の電極３３を形成し、第２の面側に、コンタクトプラグと電気的に接続された、第２の電極４３を形成する。 - 特許庁

The metal layer is reacted with the first semiconductor material, and the second semiconductor material containing germanium to respectively constitute a first metal material, and a second metal material containing germanium.例文帳に追加

金属層は、第１半導体材料と、ゲルマニウムを含む第２半導体材料と、反応して、それぞれ、第１金属系材料と、ゲルマニウムを含有する第２金属系材料と、を形成する。 - 特許庁

In this semiconductor integrated circuit device, p+ type first and second diffusion regions 34 and 32 are formed on the front of a second epitaxial layer 23 so as to be partially superimposed.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路装置では、第２のエピタキシャル層２３表面にＰ＋型の第１および第２の拡散領域３４、３２を一部重畳するように形成する。 - 特許庁

A recess 9a present in tungsten 9 imbedded in a second via 8 results in a recess 10a in a third metal layer 10 formed on the second via 8.例文帳に追加

第２のビア８に埋め込まれたタングステン９には凹部９ａがあるので、このビア８上に形成された第３の金属層１０にはこの凹部９ａを反映して凹部１０ａが形成される。 - 特許庁

First and second cholesteric liquid crystals layers have the same spiral twist direction and at least one of the first and second cholesteric liquid crystal layer contains a gelling agent.例文帳に追加

第１及び第２のコレステリック液晶層は螺旋ねじれ方向が同一であり、第１及び第２のコレステリック液晶層のうち少なくとも一方の層はゲル化剤を含有すること。 - 特許庁

Then, after an ultraviolet ray curing acrylic resin is applied to the second reflection film 15, ultraviolet rays are applied, thus forming a second protection film 16 and a printed layer 17 called as a label.例文帳に追加

次に、第２反射膜１５上に紫外線硬化アクリル樹脂を塗布した後に、紫外線を照射することにより第２保護膜１６及びレーベルと呼ばれる印刷層１７が形成される。 - 特許庁

Thereafter, a second interlaminar insulating film 60 is formed and, after a VIA opening 61 is formed, a power supply wiring 63 and an earth electrode wiring 64 are formed as a second metal wiring layer.例文帳に追加

その後、第２の層間絶縁膜６０を成膜し、ＶＩＡ開口６１を形成後、第２の金属配線層として、電源配線６３および接地電極配線６４を形成する。 - 特許庁

When forming at least one of the first wiring and the second wiring, a connecting portion that covers a part of the lower electrode layer outside the memory cell array is formed on the first wiring and the second wiring.例文帳に追加

第１配線及び第２配線の少なくとも一方の形成に際しては、これら配線にメモリセルアレイ外において下部電極層の一部を覆う接続部を形成する。 - 特許庁

The first substrate and a second substrate which becomes a deposition substrate are arranged to face each other, and laser beams are radiated to heat the light absorbing layer, and a deposition is conducted on the second substrate.例文帳に追加

この第１の基板と被成膜基板となる第２の基板とを対向して配置し、光吸収層にレーザ光の照射を行って加熱し、第２の基板に成膜を行う。 - 特許庁

The pixel structure mainly includes a first substrate, a second substrate being parallel with the first substrate, a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate, a reflecting structure, and a light angle control mechanism.例文帳に追加

画素構造は、主に第１基板、第１基板に平行して設ける第２基板、第１基板と第２基板に挟んで設ける液晶層、反射構造と、光角制御機構を含める。 - 特許庁

During an etching process when forming a contact hole CH on a third insulating film 513, a second insulating film 512 is so formed that the second insulating film 512 functions as an etching stopper layer.例文帳に追加

第３の絶縁膜５１３にコンタクトホールＣＨを形成する際のエッチング処理にて、第２の絶縁膜５１２が、エッチングストッパー層として機能するように、第２の絶縁膜５１２を形成する。 - 特許庁

The filter layer 420 is designed so as to absorb at least partially the first radiation, and to emit only one second radiation or a combined radiation of the first and second radiations.例文帳に追加

フィルタ層（４２０）は、第１の放射光を少なくとも部分的に吸収し、且つ１つの第２の放射光又は第１及び第２の合成放射光を放出するように設計される。 - 特許庁

Also, a ZrB target is sputtered with an Ar gas, and a common second metal cap layer 37 principally containing ZrBx (x=0.5-4.0) is laminated on a hard mask 32 and a second wiring 34.例文帳に追加

また、ＺｒＢターゲットをＡｒガスでスパッタし、ハードマスク３２と、第２配線３４と、にＺｒＢｘ（ｘ＝０．５〜４．０）を主成分にした共通する第２メタルキャップ層３７を積層した。 - 特許庁

A multi-chip module (MCM) is provided with a first integrated circuit 310, a second integrated circuit 320, and a bridge layer 330, in at least one upper side of the second integrated circuit 320.例文帳に追加

マルチチップモジュール（ＭＣＭ）は、第１集積回路３１０および第２集積回路３２０と、第２集積回路３２０の少なくとも一部の上側の架橋層３３０とを備えている。 - 特許庁

The liquid crystal display element is provided with a first polarizing plate 1, a first retardation plate 2, an STN type liquid crystal cell 3, a compensation layer 4, a second retardation plate 5 and a second polarizing plate 6.例文帳に追加

液晶表示素子は、第１偏光板１と、第１位相差板２と、ＳＴＮ型の液晶セル３と、補償層４と、第２位相差板５と、第２偏光板６とを備える。 - 特許庁

Each region has one each filter layer 2, 20, and a first end cap 6 connected to a first end part of the filter, and a second end cap 10 connected to a second end part of the filter.例文帳に追加

各領域は１つのフィルター層２，２０、並びに該フィルターの第１端部に結合した第１端キャップ６、及び該フィルターの第２端部に結合した第２端キャップ１０を有する。 - 特許庁