「sem image」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

REMOVING IMAGE NOISE IN FIB / SEM COMPOSITE DEVICE例文帳に追加

ＦＩＢ／ＳＥＭ複合装置の画像ノイズ除去 - 特許庁

WHITE BAND REGION EXTRACTION PROCESSING METHOD OF SEM IMAGE AND FEATURE QUANTITY CALCULATION METHOD OF SEM IMAGE例文帳に追加

ＳＥＭ画像の白帯領域抽出処理方法およびＳＥＭ画像における特徴量算出方法 - 特許庁

This reference image preparing method uses a pattern recognizing device 1 and acquires an SEM image representing a pattern on a wafer 41 by a SEM 10.例文帳に追加

パターン認識装置１を用い、ＳＥＭ１０によりウェーハ４１上のパターンを表すＳＥＭ画像を取得する。 - 特許庁

Furthermore, the SEM image corresponding to a detected position is registered again as a template, and the matching process is carried out.例文帳に追加

さらに検出された位置に対応したSEM画像をテンプレートとして再登録しなおしマッチング処理を行う。 - 特許庁

Template matching is performed between the synthetic image with the interlayer deviation and the SEM image.例文帳に追加

この層間ズレ付き合成画像とＳＥＭ画像の間でテンプレート・マッチングを行う。 - 特許庁

To acquire an SEM image of a high resolution while suppressing damage to a sample caused by electron beam irradiation accompanied by SEM imaging, regarding the acquisition of an image of a semiconductor pattern using SEM.例文帳に追加

ＳＥＭを用いた半導体パターンの画像の取得に関して、ＳＥＭの撮像に伴う電子線照射による試料へのダメージを抑えつつ、高分解能なＳＥＭ画像を取得することである。 - 特許庁

For the front side, normal scanning image (SEM image) is displayed, while for the back side, horizontally flipped SEM image is displayed, and both sides are fine processed by FIB device.例文帳に追加

表面の場合は、通常の走査像（ＳＥＭ像）を、裏面の場合は、左右反転したＳＥＭ像を表示し、そしていずれの場合も、その後ＦＩＢ装置で微細加工する。 - 特許庁

IMPROVEMENT OF SEM IMAGE USING NARROW-BAND DETECTION METHOD AND COLOR ASSIGNMENT METHOD例文帳に追加

狭帯域検出法とカラ—アサインメント法を用いたＳＥＭ画像の改良 - 特許庁

A SEM 8 is arranged inside of the chamber 3, and this SEM 8 scans the wafer 2 with the electron beam, and observes a secondary electronic image emitted from a surface of the wafer 2, and generates an image (SEM image) of the surface of the wafer 2.例文帳に追加

チャンバー３内にはＳＥＭ８が配設され、このＳＥＭ８は、ウェハ２上に電子ビームを走査させ、その時にウェハ２の表面から放出される２次電子像を観察し、ウェハ２表面の画像（ＳＥＭ画像）を生成する。 - 特許庁

METHOD OF GENERATING FALSE SEM IMAGE DATA AND METHOD OF EXAMINING DEFECT OF PHOTOMASK例文帳に追加

擬似ＳＥＭ画像データの生成方法およびフォトマスクの欠陥検査方法 - 特許庁

To provide an SEM and its measuring method capable of quantitatively expressing quality of a sample image and improving measurement accuracy.例文帳に追加

サンプル画像の良否を定量的に表すことができ、測定精度を向上することができるSEM及びその測定方法を提供する。 - 特許庁

The control part determines the field of vision of the SEM image, on the basis of a flaw position and specifies the flaw candidate pattern from the image data of the pattern displayed on the SEM image within the field of vision.例文帳に追加

制御手段は、欠陥位置を基にＳＥＭ画像の視野を決定し、視野内のＳＥＭ画像に表示されているパターンの画像情報から欠陥候補パターンを特定する。 - 特許庁

In the pattern inspection method, a SEM image in a prescribed area of the substrate surface is obtained, and thereafter the pattern density (coarseness and minuteness) in the SEM image is judged.例文帳に追加

本発明のパターン検査方法では、まず、基板表面の所定領域のＳＥＭ画像を取得した後、そのＳＥＭ画像内のパターン密度（疎密）の判定を行なう。 - 特許庁

When a desired image is selected and designated from among the SEM images, the electronic optical system or the like is set to the simulated conditions and such an SEM image can be actually observed.例文帳に追加

該ＳＥＭ像の中から所望の像を選択し指定すると、電子光学系等がシミュレーションした条件に設定されてそのようなＳＥＭ像が実観察できる。 - 特許庁

An operator can easily judge the direction and the deviation of this SEM image from the initial SEM image.例文帳に追加

オペレータは両ＳＥＭ像の格子グリッドを参照することによって、今回のＳＥＭ像が初期ＳＥＭ像からどの方向にどれだけずれているかを容易に判断できる。 - 特許庁

In the event of image recognition error, it is made possible to directly compare an SEM image of a low magnification with a registered image to perform position detection by lowering the magnification of the registered image itself to the same magnification in parallel with the magnification of an SEM screen, with the registered image registered in the length measuring SEM and corresponding to an image going to be registered.例文帳に追加

このように画像認識エラー時に、ＳＥＭ画面の倍率と同時に、検出しようとする画像に対応する、測長ＳＥＭ内に登録された登録画像そのものの倍率も下げて同倍率にすることによって、低倍率のＳＥＭ画像と登録画像とで直接比較位置検出できるようにする。 - 特許庁

The variation of shape is compensated using information of the edge in every direction and a smoothing method in the case a matching process between design data and a SEM image is carried out.例文帳に追加

また、設計データとSEM画像のマッチング処理を行う場合に方向別のエッジ情報とその平滑化により形状変化分を補う。 - 特許庁

Thereafter, when a domain instruction information for instructing display of an enlarged SEM image is inputted in the enlarged CAD image, the designated domain is irradiated with a prescribed electron beam, and the enlarged SEM image of the domain is acquired, and the enlarged SEM image is displayed on a display device 15.例文帳に追加

その後、その拡大ＣＡＤ画像の中で、拡大ＳＥＭ画像の表示を指示する領域記指定情報が入力されたときには、指定された領域に所定の電子ビームを照射し、その領域の拡大ＳＥＭ画像を取得し、その拡大ＳＥＭ画像を表示装置１５に表示する。 - 特許庁

The charged particle beam device includes means for obtaining a plurality of SEM images in which the focus is changed in accordance with a depth of focus, means for determining the SEM image having the maximum image sharpness in a partial region including a dimension measurement region from among the obtained SEM images, and means for measuring the dimension of a predetermined region in the SEM image having the maximum image sharpness.例文帳に追加

焦点深度に対応してフォーカスを変化させた複数のＳＥＭ像を取得する手段と、取得したＳＥＭ像から寸法測定領域を含む部分領域の画像鮮鋭度が最大となるＳＥＭ像を決定する手段と、画像鮮鋭度が最大のＳＥＭ像から所定領域の寸法を測定する手段を備えた。 - 特許庁

The SEM image data is binarized by using the threshold to perform defect detection.例文帳に追加

そして、このしきい値を用いてＳＥＭ画像デ−タを二値化処理し、欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a global matching method capable of improving global matching rate between GDS image and SEM image.例文帳に追加

ＧＤＳイメージとＳＥＭイメージとの間のグローバルマッチング率を向上させるグローバルマッチング方法を提供する。 - 特許庁

To simultaneously provide an unevenness image of a sample surface in the same visual field for an EPMA analysis image or an SEM observation image in an electron beam analyzer.例文帳に追加

電子線分析装置において、試料面の凹凸像をＥＰＭＡ分析像やＳＥＭ観察像と同一視野で同時に得る。 - 特許庁

This SEM 1 is equipped with a CAD image storage part 17 for storing data of a CAD image generated based on CAD data of a sample 105, for showing its surface shape, in addition to an SEM image acquisition part 11.例文帳に追加

ＳＥＭ１は、ＳＥＭ画像取得部１１のほかに、試料１０５のＣＡＤデータに基づき生成され、その表面形状を表わしたＣＡＤ画像のデータを記憶するＣＡＤ画像記憶部１７を備える。 - 特許庁

Based on this judgment result, the SEM image is divided into a plurality of image areas corresponding to the pattern density.例文帳に追加

次に、この判定結果に基づいて、そのＳＥＭ画像をパターン密度に応じた複数の画像領域に分割する。 - 特許庁

Only a defect image part is extracted by a difference processing of an absorption current image of inspection wiring and a reference wiring pattern image, and it is overlapped with an SEM image.例文帳に追加

検査配線の吸収電流像と、基準配線パターン像との差分処理で欠陥像部分のみを抽出し、さらにこれをＳＥＭ像に重畳する。 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, DISCHARGE ELECTRON DETECTED VALUE ESTIMATION METHOD, SEM IMAGE SIMULATION METHOD, AND ITS PROGRAM例文帳に追加

走査電子顕微鏡、放出電子検出値推定方法、ＳＥＭ像シミュレーション方法、及びそのプログラム - 特許庁

To enable to obtain an SEM image at high speed without being affected by a scanning direction of charged particle beams.例文帳に追加

荷電ビームの走査方向の影響を受けることなく高速でのＳＥＭ画像取得を可能にする。 - 特許庁

Configurations like this facilitate management of the SEM image based upon the identification information since the identification information is added to each piece of the SEM image originally having no characteristic identification information.例文帳に追加

このような構成によれば、本来固有の識別情報を持たないＳＥＭ画像上の各片に、識別情報を付加することになるので、当該識別情報に基づくＳＥＭ画像の管理が可能となる。 - 特許庁

An SEM scanning of the region provides defect information (determining whether open or short, positions of the defect electrode) of the electrode patterns based on an SEM image light-dark arrangement state of the respective extension wirings.例文帳に追加

この領域をＳＥＭ走査して、各延伸配線のＳＥＭ像明暗配列状態から、電極パターンの欠陥情報（オープン・ショートの判定、欠陥電極の位置など）を得る。 - 特許庁

A SEM image with low magnification is acquired for an area including a measurement point set on the semiconductor pattern.例文帳に追加

半導体パターン上に設定された測定点を含む領域について低倍率のＳＥＭ画像を取得する。 - 特許庁

Thereafter, a predetermined number of scannings are performed, and SEM images at these time are obtained as images to be compared with the reference image.例文帳に追加

その後、所定回数の走査を行ったら、そのときのＳＥＭ像を得、それを比較対象像とする。 - 特許庁

To enhance efficiency for reviewing a defect to review the large number of defects in a short time, in the defect review for a semiconductor device capable of detecting the defect in a low magnification of SEM (Scanning Electron Microscope) image and capable of observing the defect in a high magnification of SEM image.例文帳に追加

低倍率のＳＥＭ像で欠陥を検出し、高倍率のＳＥＭ画像で欠陥を観察する半導体デバイスの欠陥レビューにおいて、欠陥レビューの効率をあげて短時間に多数に欠陥をレビューできるようにする。 - 特許庁

To provide an SEM capable of measuring and adjusting a dynamic range of brightness intensity of a display image, and provide an image signal processing method.例文帳に追加

表示画像の明るさ強度のダイナミックレンジを計測し、調整することが可能なＳＥＭおよび画像信号処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system with an FIB tube and a SEM tube, wherein influence of a secondary electron excited by an FIB does not come out as noise in a SEM image, when performing SEM observation of FIB processing on a real time basis.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＦＩＢ鏡筒とＳＥＭ鏡筒を備えたシステムにおいて、ＦＩＢ加工をリアルタイムでＳＥＭ観察する際に、ＦＩＢによる励起二次電子の影響がＳＥＭ画像中でノイズとして出ないようなシステムを提供することにある。 - 特許庁

A scanning method is optimized on the basis of the extracted time constant, and distortion appearing in an SEM image and magnification fluctuation are suppressed.例文帳に追加

抽出した時定数を基に走査方法を最適化し、ＳＥＭ像に現れる歪みや倍率変動を抑制する。 - 特許庁

When X-ray mapping is conducted, a SEM image in a scanning area on a sample 4 is stored as a reference image in a first scanning.例文帳に追加

Ｘ線マッピングを行うに際して、最初の１回目の走査時に、試料４上の走査領域のＳＥＭ像を基準像として記憶しておく。 - 特許庁

To provide a mask inspection device and an image generation method capable of generating a wide visual field, high-accurate SEM image easily and at high speed.例文帳に追加

広視野かつ高精細なＳＥＭ画像を容易かつ高速に生成することの可能なマスク検査装置及び画像生成方法を提供すること。 - 特許庁

The SEM image of a semiconductor device constituted of two or more layers is obtained, and the peak position of the pattern is extracted as a peak point from the obtained image.例文帳に追加

２層以上から構成された半導体デバイスのＳＥＭ画像を取得し、この取得画像からパターンのピーク位置をピーク点として抽出する。 - 特許庁

As a deflector 13 carries out deflective scanning with an electron beam 12, an image obtaining means 35 obtains a SEM image consisting of a plurality of patterns formed on a sample M.例文帳に追加

偏向器１３により電子線１２を偏向走査することで、試料Ｍに形成された複数のパターンのＳＥＭ画像が画像取得手段３５により取得される。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus that efficiently and highly accurately detects a defective pattern included in an image such as an SEM image by using a reference pattern.例文帳に追加

ＳＥＭ画像等の画像中に含まれる欠陥パターンを基準パターンを利用して効率的かつ高精度に検出することを可能にするパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a complex electron capable of obtaining accurate correspon dence between the SEM/STEM image and TEM image.例文帳に追加

本発明は複合電子顕微鏡に関し、ＳＥＭ／ＳＴＥＭ像とＴＥＭ像との対応を正確にとることができる複合電子顕微鏡を提供することを目的としている - 特許庁

To provide an SEM type visual inspection device capable of setting flexibly the scanning method and its image signal processing method.例文帳に追加

走査方法をフレキシブルに設定することが可能なＳＥＭ式外観検査装置およびその画像信号処理方法を提供する。 - 特許庁

To easily and visually judge the direction and the quantity of deviation by a SEM image obtained at the time point and two SEM images of the first SEM image used in determining a point of analysis when the positional relationship of the electron beam to the point of analysis of a sample is returned to the initial condition by manually moving a sample stage by an operator during the point analysis.例文帳に追加

点分析を行っている場合において、オペレータが手動により試料ステージを移動させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初の状態に戻そうとする際、その時点で得たＳＥＭ像と、分析点を定める際に用いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥＭ像とから、目視により、どの方向にどれだけずれているかを容易に判断できるようにする。 - 特許庁

A coordinate difference information for each of defect inspection devices 41 and 42 is stored beforehand in an image observation SEM storage device 45, and the difference information is used to calibrate a defect position coordinate outputted from the devices 41 and 42 for a coordinate value as a coordinate value for the image observation SEM.例文帳に追加

像観察ＳＥＭの記憶装置４５に、予め欠陥検査装置４１，４２毎の座標誤差情報を記憶しておき、その誤差情報を用いて欠陥検出装置４１，４２から出力された欠陥位置座標を像観察ＳＥＭ用の座標値に校正する。 - 特許庁

A plurality of SEM image is acquired in a short time before and during acquisition of a characteristic X-ray image, and a shift amount and direction are calculated as two-dimensional vectors Va, Vb, Vc, Vd in every of small areas Ba, Bb, Bc, Bd divided into a plurality, as to the plurality of SEM images.例文帳に追加

特性Ｘ線画像の取得前及び取得中に短時間でＳＥＭ画像を取得し、その複数のＳＥＭ画像について複数に分割した小領域Ｂａ、Ｂｂ、Ｂｃ、Ｂｄ毎にずれの量及び方向を２次元ベクトルＶａ、Ｖｂ、Ｖｃ、Ｖｄとして算出する。 - 特許庁