「sem image」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the review SEM (defect observation apparatus), the importance degree of images or the like is judged from information such as the classified result of a picked-up defect image, a defect feature amount calculated from the image and the imaging state of the image, and is added to each image as incidental information.例文帳に追加

レビューＳＥＭにおいて、撮像した欠陥画像の分類結果、画像から算出された欠陥特徴量、画像の撮像状態などの情報から画像の重要度等を判定し、各画像に付帯情報として付加する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for separating noise and a pattern included in a SEM image with high precision by using design data and a photographed image of a semiconductor device in semiconductor inspection.例文帳に追加

半導体検査において、設計データと撮影した半導体デバイスの画像を利用して、ＳＥＭ画像に含まれたノイズとパターンを精度よく分離する方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

To increase response speeds of an electric current signal, and improve yield of an ion electric current in a gas amplifying method ion electric current detection type SEM in which a secondary electron image can be obtained even in a low vacuum condition by utilizing an electron avalanche by a residual gas in a sample room.例文帳に追加

試料室内の残留ガスによる電子なだれを利用することで、低真空条件でも二次電子像を取得できるガス増幅式イオン電流検出型SEMにおいて、電流信号の応答速度の高速化およびイオン電流の収量の向上を図る。 - 特許庁

Focus displacement is calculated from Ia and Is, a sample stage 9 is driven in the Z-axis direction by a Z-axis driving part 13 to adjust the focus and thereafter, an SEM image is taken in.例文帳に追加

Ｉ_a及びＩ_sよりフォーカスずれを算出し、Ｚ軸駆動部１３によって試料ステージ９をＺ軸方向に駆動してフォーカスを合わせたのちＳＥＭ像を取り込む。 - 特許庁

To install a micromachining function of an FIB (focused-ion beam) system and a non-destructive and excellent image forming function of an SEM (scanning electron microscope) into a single apparatus suitable for mass production of high-precision nanodevices.例文帳に追加

ＦＩＢシステムのマイクロマシニング機能と、ＳＥＭの非破壊かつ優れた像形成機能とを、高精度なナノデバイスの大量生産に適した１台の装置に組み込む。 - 特許庁

Pattern data corresponding to a portion having a pattern formed thereon and background data corresponding to a background are detected from image data in an imaging area of an SEM(scanning electron microscope) 20.例文帳に追加

撮像領域におけるＳＥＭ２０画像デ−タのうち、パターンが形成された部分に対応するパタ−ンデ−タおよび背景に対応する背景デ−タを検出する。 - 特許庁

The control means specifies a flaw candidate pattern from the SEM image, on the basis of the flaw position data and determines whether the flaw of the flaw candidate pattern is transferred to a wafer.例文帳に追加

制御手段は、欠陥位置情報を基にＳＥＭ画像から欠陥候補パターンを特定し、欠陥候補パターンの欠陥がウエハに転写されるか否かを判定する。 - 特許庁

Besides, the similar domains and an imaging position and an imaging sphere of the SEM enabling the execution of the image restoration processing are decided by using design data.例文帳に追加

また、設計データを用いて前記類似領域および画像復元処理が実行可能となるＳＥＭの撮像位置および撮像範囲を決定することを特徴とする。 - 特許庁

When the surface of the negative electrode 22 (negative electrode active material layer 22B) can be observed by using a SEM and a particle area per each negative electrode active material particle can be calculated by making image-processing of a SEM image, average particle areas of the plurality of negative electrode active material particles included in a designated observation area are 1-60 μm^2.例文帳に追加

ＳＥＭを用いて負極２２（負極活物質層２２Ｂ）の表面を観察し、ＳＥＭ像を画像処理して負極活物質粒子ごとに粒子面積を算出できるようにしたとき、所定の観察エリア内に含まれる複数の負極活物質粒子の平均粒子面積は、１μｍ^2 以上６０μｍ^2 以下である。 - 特許庁

In a method that an image is formed by utilizing a secondary electron amplification by residual gas around a sample in a low vacuum scanning electron microscope(SEM) and an absorption current, the observation with high resolution and good image quality is enabled by an electric field in which an electrode acts with the comparatively reduced number of parts and a design taking scattering of a first electron beam into consideration.例文帳に追加

低真空SEMにおける試料周辺の残留ガス分子による二次電子増幅法と吸収電流を利用して画像を形成する方式に於いて、比較的少ない部品数で電極が作用する電界や１次電子ビームの散乱を考慮した設計によって、低真空における高分解能・良好な像質での観察を可能とする。 - 特許庁

To improve the efficiency of the management (deletion, retrieval and display, etc.) of image data while defect image data gathered every day in a semiconductor mass production line become extensive by the throughput improvement of a review SEM (defect observation apparatus).例文帳に追加

レビューＳＥＭのスループット向上により、半導体量産ラインにおいて日々収集される欠陥画像データが大量になってきており、それらの画像データの管理（削除、検索、表示等）の効率化が望まれている． - 特許庁

To provide a method for evaluating feature values such as the area, width, and height of the whole part or specific part of an SEM image(scanning electron microscope image) to be inspected without generating the fluctuation of evaluation.例文帳に追加

検査対象のＳＥＭ像（電子顕微鏡画像）に基づいて、その全体または特定部分の面積や幅、高さなどの特徴量を評価する評価方法で、評価にバラツキが発生しない方法を提供する。 - 特許庁

The size of the width 25 of an image of a side face of the most upper layer of a pattern which should appear on an SEM image (d) when a wafer 3 is tilted can be calculated from an actual thickness of the most upper layer of the pattern and a tilting angle of the wafer 3.例文帳に追加

ウェーハ３傾斜時のＳＥＭ像（ｄ）に現れるべきパターン最上層側面の像の幅２５の大きさは、パターン最上層の実際の厚さとウェーハ３の傾斜角度から算出可能である。 - 特許庁

When a multi-axial stage 40 of a scanning electron microscope 10 is rotated horizontally, inclined or moved horizontally, an operation of rotating, inclining or horizontally moving an image for specification is performed by means of a mouse 62 while creating an image for specification from an SEM image obtained from a signal of a secondary electron detector 20 and displaying the image on an image display unit 61.例文帳に追加

走査電子顕微鏡１０の多軸ステージ４０を水平回転、傾斜、水平移動させるに際して、二次電子検出器２０の信号から得られるＳＥＭ像から指定用画像を作成して画像表示装置６１に表示しつつ、マウス６２で指定用画像を回転、傾斜、水平移動させる操作を行う。 - 特許庁

To prevent measurement operation from stopping as a pattern image for image recognition fails to be displayed at the center of a device screen causing image recognition error to occur, when measuring the size of a size measurement pattern formed on a semiconductor substrate by using a length measuring SEM.例文帳に追加

半導体基板上に形成された寸法測定パターンの寸法を測長ＳＥＭを用いて測定する際、画像認識しようとするパターン画像が装置画面中央に表示されず、画像認識エラーが発生し、測定動作が停止することを防止する。 - 特許庁

To provide an electron beam device that can prevent damages to the device and can make compatible low aberration, high resolution or high S/N ratio, with easiness of defect classification by obtaining a three-dimensional SEM image.例文帳に追加

デバイス損傷を防止することが可能であり、低収差、高分解能若しくは高Ｓ／Ｎ比と、立体的なＳＥＭ像を得ることによる欠陥分類の容易さと、を両立させる。 - 特許庁

When a sample stage is manually moved, a control device 6 stops the action of the point analysis, and starts the function of a scanning electron microscope to obtain a SEM image.例文帳に追加

手動により試料ステージの移動を行おうとする場合、制御装置６は点分析の動作を停止し、走査電子顕微鏡の機能を起動してこのときのＳＥＭ像を得る。 - 特許庁

To actualize a higher magnification, a higher resolution and a real-time property of an SEM image without influencing electric characteristics of an object to be inspected when measuring electric characteristics of the object to be inspected.例文帳に追加

検査対象の電気特性を測定する場合に、検査対象の電気特性に影響を与えることなく、ＳＥＭ画像の高倍率化、高分解能化及びリアルタイム性を実現する。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope (SEM) capable of shortening a time for length measuring inspection at a deficiency analysis time by a manual work or the like, and its image display method.例文帳に追加

手作業による不具合解析時などにおける測長検査の時間短縮を図ることが可能な走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）およびその画像表示方法を提供する。 - 特許庁

When it is judged that the patterns do not satisfy the predetermined recommendation conditions, the optimal pattern for addressing, the optimal pattern for automatic focusing, and the optimal pattern for auto stigma are selected from the SEM image.例文帳に追加

所定の推奨条件を満たさないと判定されたとき、ＳＥＭ画像上より、最適なアドレッシング用パターン、オートフォーカス用パターン、および、オートスティグマ用パターンを選択する。 - 特許庁

A height measurement function using a laser beam is provided by using a part of components of an optical microscope equipped in the electron beam analyzer, and consequently, the unevenness image of the sample surface can be simultaneously measured in the same visual field as the EPMA analysis image and the SEM observation image.例文帳に追加

レーザーを用いた高さ測定機能を、電子線分析装置が備える光学顕微鏡の構成要素の一部を兼用することによって設け、これによって、試料面の凹凸像をＥＰＭＡ分析像やＳＥＭ観察像と同一視野で同時測定を可能とする。 - 特許庁

To provide an image data analysis device with which image processing conditions (threshold value or the like) enabling desired pattern edges with good reproductivity can be easily obtained by using image data obtained by using a scanning type microscope (CD-SEM) even if the patterns change structures in a height direction.例文帳に追加

高さ方向で構造が変化するようなパターンであっても、走査型顕微鏡（ＣＤ−ＳＥＭ）を用いて取得した画像データを用いて所望のパターンエッジが再現性よく決定できる画像処理条件（閾値等）を、簡便に得ることのできる画像データ解析装置を提供する。 - 特許庁

An observation area of the surface of a sample is scanned by irradiating an electronic beam, an image (SEM image) is acquired based on a detection signal of a secondary electron by a detector 99a arranged at a diagonal upper part of the observation area, and length L of a shadow of a pattern 82 which appears on the image is detected.例文帳に追加

試料表面の観察領域を電子ビームを照射で走査し、観察領域の斜め上方に配置された検出器９９ａによる二次電子の検出信号に基づいて画像（ＳＥＭ画像）を取得し、その画像に現れるパターン８２の影の長さＬを検出する。 - 特許庁

Out of an SEM image SI displayed on a display screen SC, an image of an area AR including a specified position SP which a user specified by contacting a fingertip FG on the display screen SC, which is a sub image SU including a marker MK indicating the specified position SP, is displayed on a part of the display screen SC.例文帳に追加

表示画面ＳＣに表示されたＳＥＭ画像ＳＩのうち、ユーザが指先ＦＧを表示画面ＳＣに接触させて指定した指定位置ＳＰを含む領域ＡＲの画像であって、指定位置ＳＰを示すマーカーＭＫを含むサブ画像ＳＵを表示画面ＳＣの一部に表示する。 - 特許庁

When the user moves the specified position SP while keeping the fingertip FG contacting the display screen SC, an image of the area AR including the specified position SP after the movement out of the SEM image SI, which is a sub image SU including the marker MK indicating the specified position SP after the movement, is displayed.例文帳に追加

ユーザが指先ＦＧを表示画面ＳＣに接触させたまま指示位置ＳＰを移動させると、ＳＥＭ画像ＳＩのうち移動後の指示位置ＳＰを含む領域ＡＲの画像であって、移動後の指示位置ＳＰを示すマーカーＭＫを含むサブ画像ＳＵを表示する。 - 特許庁

To provide an apparatus for preventing an image distortion indicating a width and a dimension of a gap of a circuit formed by an SEM (scanning electron microscope) under the influence of an external electromagnetic radiation emitted from an adjacent manufacturing apparatus.例文帳に追加

隣接する製造装置から放出された外部電磁放射の影響下でＳＥＭにより形成された回路の幅及び間隔の寸法を示す画像の歪みを防止する装置を提供する。 - 特許庁

As an embodiment of attainment of the purpose, provided is a pattern measuring device which adds identification information for discrimination from other pieces to each of pieces constituting a pattern in an image obtained by an SEM and stores the image in a predetermined storage format.例文帳に追加

上記目的を達成するための一態様として、ＳＥＭによって得られる画像内におけるパターンを構成する各片に、他の片と区別するための識別情報を付加し、所定の記憶形式にて記憶するパターン測定装置を提案する。 - 特許庁

To provide an SEM type inspection device improved in image quality and defect detection sensitivity by reducing pixel displacement when a two-dimensional image is formed by displacement of an electron beam irradiation position by deflection circuit noise generated in a constituent element of a beam deflection control circuit.例文帳に追加

ビーム偏向制御回路の構成素子で発生する偏向回路雑音による電子ビーム照射位置のずれによる二次元画像化したときの画素ずれを低減して画質及び欠陥検出感度を向上させたＳＥＭ式検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To automatically image a desired evaluation point (EP) on a sample, and automatically measure a circuit pattern formed at the evaluation points, in the dimension measurement of a circuit pattern using a scanning electron microscope (SEM).例文帳に追加

走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた回路パターンの寸法計測において、試料上の任意の評価ポイント（ＥＰ）を自動で撮像し，評価ポイントに形成された回路パターンを自動で計測することを可能にする。 - 特許庁

A plurality of domains having patterns similar in shapes (similar domains) are extracted from SEM images of low resolutions which are picked up while suppressing the irradiation energy of an electron beam, and an image of one pattern of a high resolution is formed from a plurality of image data on the domains by image restoration processing.例文帳に追加

電子線の照射エネルギーを抑えて撮像した低分解能なＳＥＭ画像から形状が類似するパターンを持つ領域（類似領域）を複数抽出し、複数の前記領域の画像データから画像復元処理により一枚の高分解能な前記パターンの画像を生成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope apparatus which enables to get always a high accuracy SEM image and line width measurement value without giving damage or the like to an object of measurement (observation) even under a high magnification, and a method of a length measurement with the microscope apparatus.例文帳に追加

高倍率下においても測定（観察）対象物にダメージ等を与えず、常に高精度なＳＥＭイメージと線幅測定値とを得ることができる走査型電子顕微鏡装置と該装置による測長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern evaluation method and a pattern evaluation device, capable of matching an objective pattern to a reference pattern with high accuracy in the pattern measurement using an SEM image, even when the pattern of the measurement object includes a relatively large defect.例文帳に追加

ＳＥＭ画像を利用したパターン計測において、計測対象のパターンに比較的大きな欠陥が含まれている場合でも、基準パターンとのマッチングを高精度に実施することができるパターン評価方法及びパターン評価装置。 - 特許庁

To provide a mask inspection device and a mask inspection method which can accurately specify irregularity of a measurement region on a measured object with a shape of a pattern having multiple steps from a SEM image, and determine its structure exactly.例文帳に追加

多段のパターンで形成されている測定対象に対して、ＳＥＭ像から測定対象領域の凹凸を的確に特定し、その構造を正確に判定することのできるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供すること。 - 特許庁

The aluminum oxide sintered compact includes a phase containing a rare-earth element and a fluorine element among grains of aluminum oxide, the phase not being in the form of localized dots but in the form of line segments, when viewed in an SEM image.例文帳に追加

この酸化アルミニウム焼結体は、ＳＥＭ画像を見たときに、酸化アルミニウムの粒子同士の間に希土類元素とフッ素元素とを含む相が局所的に点となって存在するのではなく、線分をなすように存在している。 - 特許庁

To provide a method and device for performing accurate matching, even when there is deformation of some patterns and a magnification error between a template and an SEM image during matching, using the template including a plurality of patterns.例文帳に追加

本発明の目的は、複数のパターンを含むテンプレートを用いたマッチングの際に、一部のパターンの変形や、テンプレートとＳＥＭ画像間に倍率誤差がある場合であっても、高精度なマッチングが可能な方法、及び装置の提供にある。 - 特許庁

The method performs data processing of the SEM image, calculates a parameter showing the height degree of pattern characteristic property in each area of a prescribed reference size and extracts the prescribed number of areas where a pattern is large and the pattern whose characteristic property is high is included.例文帳に追加

ＳＥＭ画像をデータ処理して、パターンの特徴性の高さの度合を示すパラメータを所定の基準サイズの領域毎に算出し、パラメータが大きく、特徴性が高いパターンを含む領域を所定数抽出する。 - 特許庁

The control means is configured to extract the adjacent divided images in a predetermined order from one specified image, detect images in the same pattern formation area included in the overlapping area for each of the two adjacent divided images as a synthetic reference image, then, synthesize the two adjacent divided images based on the synthetic reference image, and then, form an SEM image in the entire observation area.例文帳に追加

制御手段は、指定された一つの分割画像から所定の順序で隣接する分割画像を抽出し、隣接する２つの分割画像毎に重複領域に含まれる同一のパターン形成領域の画像を検出して合成基準画像とし、合成基準画像を基に隣接する２つの分割画像を合成して、観察領域の全体のＳＥＭ画像を形成する。 - 特許庁

In the imaging recipe generating apparatus for SEM observation of a semiconductor pattern using a scanning type electronic microscope, a CPU (CAD image generating unit) 1251 for generating a CAD image by conversion into the image on the basis of the CAD data is constituted with an image quantizing width determining processing unit 12511, a luminosity information assignment processing unit 12512, and a pattern shape conversion processing unit 12513.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡を用いて半導体パターンをＳＥＭ観察するための撮像レシピ作成装置において、ＣＡＤデータを基に画像に変換してＣＡＤ画像を作成するＣＰＵ（ＣＡＤ画像作成部）１２５１を、画像量子化幅決定処理部１２５１１と明度情報付与処理部１２５１２とパターン形状変形処理部１２５１３とで構成する。 - 特許庁

To provide a method of removing blur of a pattern image acquired by an SEM and easily and accurately measuring the three-dimensional shape of a pattern of a sample surface based on information of the height direction of a pattern acquired by another measuring machine such as an AFM.例文帳に追加

ＳＥＭによって得られたパターン画像のボケを除去し、ＡＦＭなどの他の計測機で得られたパターンの高さ方向の情報と合わせ、試料表面のパターンの３次元形状を簡便にかつ精度良く計測する方法を提供する。 - 特許庁

The electrons accumulated by irradiation of electron rays when the observation surface 107 of the body to be observed 105 is observed by SEM is released, and thus a disorder of a cross section image due to charge-up is inhibited.例文帳に追加

被観察体１０５の観察面１０７をＳＥＭ観察する際の電子線の照射により蓄積された電荷を効率的に導電体１０３に逃がすことができるため、チャージアップによる断面像の乱れを抑制することができる。 - 特許庁

The coordinates of one pattern out of the plurality of patterns included in the obtained SEM image are correlates with the position of a stage 22, and the coordinates of other patterns relative to the coordinate of the one pattern are measured by a coordinate measuring means 38.例文帳に追加

取得したＳＥＭ画像に含まれる複数のパターンのうちの一のパターンの座標がステージ位置に対応させられ、この一のパターンの座標に対する他のパターンの相対的な座標が座標計測手段３８により計測される。 - 特許庁

In order to monitor the worked cross section state in FIB working simultaneously with the working, signal detectors 31, 51 are provided for the FIB device 20 and the SEM 40, respectively, and a beam scanning control circuit and an image display control circuit are provided for each of the devices.例文帳に追加

ＦＩＢ加工中の加工断面状態を加工と同時に監視するために、ＦＩＢ装置とＳＥＭにそれぞれ信号検出器３１，５１を設け、それぞれの装置にビーム走査制御回路と像表示制御回路を持たせた。 - 特許庁

In SEM image comparison type inspection equipment, the potential contrast image is compared between a specified pattern being inspected and a reference pattern to generate a comparison image including one of two binarized contrasts, dimensions based on the contrast of the comparison image are measured and characterized dimensions being varied through fabrication of the semiconductor device are analyzed from the measurements.例文帳に追加

ＳＥＭ式画像比較型検査装置において、所定のパターンを有する被検査パターンとおよび参照パターンの電位コントラスト画像を比較することにより、二値化されているコントラストの一方のコントラストのみを含む比較画像を生成し、当該比較画像のコントラストに基づく寸法を測定し、当該測定結果から、前記半導体形成によりばらつきが生じる特性化寸法を解析する。 - 特許庁

A correlative relationship between the dimension CDs at the height of h1 between adjacent resist patterns 102 measured by a length measurement SEM and the dimension CDd at the height of h2 between resist patterns 102 obtained from a cross-sectional image of the resist pattern 102 is preliminarily obtained.例文帳に追加

測長ＳＥＭを用いて測定された隣接するレジストパターン１０２間の高さｈ１での寸法ＣＤｓと、レジストパターン１０２の断面画像から求められたレジストパターン１０２間の高さｈ２での寸法ＣＤｄとの相関関係を予め取得する。 - 特許庁

To obtain a defective image even when a defect is present under an optically transparent film, in the case where the defect is observed by using an SEM based on defect position data outputted from a defect inspection device by an optical means.例文帳に追加

光学的手段による欠陥検査装置により出力された欠陥位置データに基づいてＳＥＭを用いて該欠陥を観察する場合において、該欠陥が光学的に透明な膜の下に存在する場合でも、欠陥画像の取得を行えるようにする。 - 特許庁