| 例文 |
solution processing methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 515件
To provide a microchannel chip, and an apparatus and method for processing a microchannel chip, wherein the reaction is treated in a properly sealed condition, the sealing condition is maintained after reaction, and is not unlocked carelessly, and a space around an opening is secured even in a series of steps from introduction of a solution to reaction treatment.例文帳に追加
確実に封止された状態で反応が処理され、反応後には封止状態を維持して、不用意に開放されることのなく、また、溶液導入から反応処理までの一連の工程においても、開口周辺のスペースを確保することのできるマイクロ流路チップ、及びそのマイクロ流路チップ処理装置及びマイクロ流路チップ処理方法を提供することである。 - 特許庁
The method for manufacturing the electrode foil for the aluminum electrolytic capacitor that forms an anodized film on the surface of an etched aluminum foil, wherein anodization is performed at a predetermined voltage or less in phosphoric acid with which boric acid of 0.1 to 3.0 wt.% is mixed or an aqueous solution of its salt after hydration processing is performed on the etched foil before anodization is performed at a predetermined voltage.例文帳に追加
エッチングされたアルミニウム箔表面に陽極酸化皮膜を形成するアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、所定電圧で陽極酸化を行う前に、エッチング箔に水和処理を施した後、０．１〜３．０ｗｔ％のホウ酸を混合したリン酸またはその塩の水溶液中にて、所定電圧未満で陽極酸化を行うことを特徴とする。 - 特許庁
A method of manufacturing a semiconductor device includes: a step of forming a source electrode 20, a gate electrode 24, and a drain electrode 22 on a nitride semiconductor layer 19, respectively; a step of forming a silicon nitride film 26 on the nitride semiconductor layer; and a step of processing an upper surface of the silicon nitride film between the gate electrode and the drain electrode using a solution containing a hydrofluoric acid.例文帳に追加
窒化物半導体層１９上に、ソース電極２０、ゲート電極２４およびドレイン電極２２をそれぞれ形成する工程と、前記窒化物半導体層上に窒化シリコン膜２６を形成する工程と、前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間の前記窒化シリコン膜の上面をフッ酸を含む溶液を用い処理する工程と、を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
To provide a processing method of water in which incineration ash containing dioxins is dispersed capable of outstandingly reducing an amount of the dioxins in water by adding a humin solution, i.e., a natural compound into water in which the burned ash containing the dioxins is dispersed to efficiently aggregate and precipitate the burned ash and separating the thus precipitated incineration ash from water.例文帳に追加
本発明は、ダイオキシン類を含む焼却灰が分散した水中に天然化合物であるフミン質溶液を添加して上記焼却灰を効率良く凝集沈殿させ、この沈殿した焼却灰を水中から分離することによって水中のダイオキシン類の量を大幅に低減することができるダイオキシン類を含む焼却灰が分散した水の処理方法を提供する。 - 特許庁
The method requires one additional processing step to solve the problem during a plating step, without changing the current manufacturing step of the water supply equipment, nickel-plating step or chromium-plating step at all, and further without devising plating conditions to prevent the inner surface from being nickel-plated or masking a target to be plated to prevent a plating solution from infiltrating inside.例文帳に追加
現状の給水器具製造工程やニッケルめっき工程やクロムめっき工程を全く変更することなく、また、ニッケルめっきが内面につきまわらないようにめっき条件を工夫したり、めっき液が内面に入らないように被めっき物にマスキングしたりするなどの手間が必要なく、めっき工程中に１つの処理工程が増えるのみで本課題が解決できる。 - 特許庁
The processing method of semiconductor silicon wafer comprises a polishing process for polishing the surface of semiconductor wafer to the mirror-surface, an evaluation process for evaluating the flatness of a semiconductor wafer polished in the polishing process, an etching process for etching semiconductor wafer determined as defective in the flatness in the evaluation process using an alkali solution, and a re-polishing process for re-polishing the semiconductor wafer which etched in the etching process.例文帳に追加
半導体ウェーハの表面を鏡面研磨する研磨工程と、この研磨工程において研磨された半導体ウェーハの平坦度を評価する評価工程と、この評価工程により平坦度が不良と判定された半導体ウェーハをアルカリ溶液でエッチングするエッチング工程と、このエッチング工程によりエッチングされた半導体ウェーハを再研磨する再研磨工程とを有する半導体ウェーハの加工方法。 - 特許庁
In the processing method for the silver halide photosensitive material having a silver halide emulsion layer containing a silver halide emulsion having ≥95% average silver chloride content on the base, a color developing solution contains ≥55 mol% developing agent of formula (1) based on the amount of all developing agents and contains at least one nitrogen-containing heterocyclic compound as a starter.例文帳に追加
支持体上に平均塩化銀含有率が９５％以上のハロゲン化銀乳剤を含むハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀感光材料の処理方法において、発色現像液が下記一般式（１）で表される現像主薬を全現像主薬の５５モル％以上含有し、かつスターターに含窒素複素環化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするハロゲン化銀感光材料の処理方法。 - 特許庁
To provide a resin for heat imprint with low resin modulus of elasticity at fluidization and sufficient fine pattern transferring property excellent in thermal deterioration resistance in order to suppress generation of a particulate substance in fine processing by heat imprint, a resin solution for heat imprint using the resin, an injection molded body for heat imprint using the resin, a thin film for heat imprint using the resin, and its manufacturing method.例文帳に追加
熱インプリントによる微細加工において、パーティクル状物の発生を抑制するために、耐熱劣化性に優れ、かつ流動化時の樹脂弾性率が低く微細パターン転写性の良好な熱インプリント用樹脂、当該樹脂を用いた熱インプリント用樹脂溶液、当該樹脂を用いた熱インプリント用射出成型体、当該樹脂を用いた熱インプリント用薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a plastic waste disposal process which can efficiently recover active components from the plastic wastes and can effectively inhibit decomposition of useful components and generation of harmful substances through two-stage heat-treating method employing a low heating temperature, a short processing time and an alkaline solution with a low concentration, even when high concentrations of chlorine and additives are present in the plastic wastes.例文帳に追加
二段加熱処理法により、塩素及び添加剤が高濃度で含有されるプラスチック廃棄物であっても、プラスチック廃棄物から有効成分を効率良く回収することができ、加熱温度を低く、処理時間を短く、アルカリ溶液の濃度を低くすることができ、さらに有用成分の分解及び有害物質の発生を効果的に抑制することのできるプラスチック廃棄物の処理方法を提供すること。 - 特許庁
The method for manufacturing the substrate for the lithographic printing plate comprising a surface-roughening processing in which an aluminum alloy sheet is electrolytically surface-roughened by using AC in an acidic solution and an anodizing treatment process characterized by using an AC wave shape with a time of 1.5-6 msec from 0 to the peak in the electrolitically surface-roughening process is provided.例文帳に追加
酸性溶液中で交流電流を使用してアルミニウム合金板を電解粗面化処理する粗面化処理工程および陽極酸化処理工程を含む平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記電解粗面化処理において、０からピークまでに達する時間が１．５〜６ｍｓｅｃの交流電流波形を使用することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。 - 特許庁
The method for processing the lithographic printing plate material is characterized in that, after the lithographic printing plate material comprising at least two image layers each containing an alkali-soluble resin layered on an aluminum substrate is imagewisely exposed to IR rays, the plate material is developed with a developer solution containing at least one kind of amine compounds having three carboxyl groups or ethylenediamine compounds having four carboxyl groups.例文帳に追加
アルミニウム支持体上に、それぞれアルカリ可溶性樹脂を含有する少なくとも２層以上の画像層を積層してなる平版印刷版材料を、赤外光にて画像露光後、３個のカルボキシル基含有アミン化合物または４個のカルボキシル基含有エチレンジアミン化合物の少なくとも一種を含有する現像液で現像処理することを特徴とする平版印刷版材料の処理方法。 - 特許庁
In the processing method for a black-and-white silver halide photographic sensitive material, the sensitive material having a silver halide emulsion layer containing a specified hydrazine compound is processed after exposure with a developing solution not substantially containing a dihydroxybenzene compound and containing a compound of formula (1) and further containing at least one sulfo substituted organic compound selected from aliphatic sulfo compounds and hydroxy-free aromatic sulfo compounds and a preservative.例文帳に追加
特定のヒドラジン化合物を含むハロゲン化銀乳剤層を有する感光材料を、露光後、ジヒドロキシベンゼン化合物を実質的に含まず、下記一般式（１）の化合物を含み、更に、脂肪族スルホ化合物およびヒドロキシ基が無い芳香族スルホ化合物から選ばれる少なくとも１種のスルホ置換有機化合物、および保恒剤を含む現像液で処理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and capable of easily forming a patterned thin film excellent in various characteristics such as insulating property, flatness, heat and solvent resistances, a photosensitive resin composition capable of easily forming a patterned thin film excellent in low dielectric property as well as in the above various characteristics and a processing method for each of the compositions.例文帳に追加
アルカリ性水溶液で現像でき、高感度であり、しかも、絶縁性、平坦性、耐熱性、耐溶剤性等の諸特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物、更には、上記諸特性と同時に低誘電特性の優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁
In the processing method, a silver halide photosensitive material having a silver halide emulsion layer containing flat platy silver halide grains spectrally sensitized with at least one of sensitizing dyes of formulae (I) and (II) on at least one side of the base is processed with a developing solution containing at least one compound of formula (A).例文帳に追加
支持体の少なくとも一方の側に平板状ハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤層を有し、該平板状ハロゲン化銀粒子が一般式（Ｉ）、一般式（II）で表される増感色素「化１」の少なくとも１種により分光増感されているハロゲン化銀写真感光材料を、一般式（Ａ）「化２」で表される化合物の少なくとも１種を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁
In the plate making method in which a planographic printing plate with at least a silver halide emulsion layer on an aluminum base is exposed and developed and the silver halide emulsion layer is removed to disclose a silver image on the aluminum base, a processing solution for removing the silver halide emulsion layer contains a proteolytic enzyme and at least one selected from saccharides, glycerol and polyglycerols.例文帳に追加
アルミニウム支持体上に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する平版印刷版を露光し、現像処理した後、前記ハロゲン化銀乳剤層を除去して前記アルミニウム支持体上に銀画像を露出せしめる製版方法において、前記ハロゲン化銀乳剤層を除去するための処理液が、タンパク質分解酵素と、糖類、グリセリン及びポリグリセロールの中から選ばれる少なくとも１種とを含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁
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