「thermal diffusion method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

JOINING STRUCTURE OF THERMAL DIFFUSION MEMBER, COOLING STRUCTURE OF HEATING ELEMENT, AND METHOD FOR JOINING THERMAL DIFFUSION MEMBER例文帳に追加

熱拡散部材の接合構造、発熱体の冷却構造、及び熱拡散部材の接合方法 - 特許庁

THERMAL DIFFUSION FURNACE AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

熱拡散炉及び半導体用基板の製造方法 - 特許庁

EXOTHERMIC MODULE, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND THERMAL DIFFUSION MEMBER例文帳に追加

発熱体モジュール及びその製造方法、熱拡散部材 - 特許庁

THERMAL DIFFUSION MEMBER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加

熱拡散用部材および熱拡散用部材の製造方法 - 特許庁

THERMAL-DIFFUSION EXPANDED CORE FIBER ARRAY, MANUFACTURING METHOD FOR THERMAL-DIFFUSION EXPANDED CORE FIBER ARRAY, OPTICAL ARRAY DEVICE WITH FIBER, AND MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL ARRAY ELEMENT例文帳に追加

コア拡大ファイバアレイ、コア拡大ファイバアレイの作製方法、ファイバ付光アレイデバイス、および、光アレイ素子の作製方法 - 特許庁

METHOD FOR PRINTING IMAGE USING THERMAL DIFFUSION TRANSFER AND IMAGE FORMING BODY例文帳に追加

熱拡散転写を用いた印画方法および画像形成体 - 特許庁

PRINTING METHOD AND IMAGE ORGANIZER USING THERMAL DIFFUSION TRANSFER例文帳に追加

熱拡散転写を用いた印画方法および画像形成体 - 特許庁

THERMAL TRANSFER ACCEPTIVE SHEET OF DYE DIFFUSION TYPE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

染料拡散型熱転写受容シートおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PURIFYING CARBON NANOTUBE BY THERMAL TREATMENT IN DIFFUSION OVEN例文帳に追加

拡散炉における熱処理を用いたカーボンナノチューブの精製方法 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for a rapid thermal cycling including a thermal diffusion plate.例文帳に追加

熱拡散プレートを備える迅速な熱循環のための装置および方法を提供すること。 - 特許庁

MULTILAYER CIRCUIT BOARD HAVING IMPROVED THERMAL DIFFUSION PERFORMANCE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

改善された熱拡散性能を有する多層回路ボード及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRINTING IMAGE USING THERMAL DIFFUSION TRANSFER AND DYE RECEIVING LAYER AND IMAGE FORMING BODY例文帳に追加

熱拡散転写と染料受容層を用いた印画方法および画像形成体 - 特許庁

To provide a joining structure of a thermal diffusion member capable of suppressing heat stress of a joining interface, a cooling structure of a heating element, and a method for joining the thermal diffusion member, while using a thermal diffusion member made of a carbonaceous material.例文帳に追加

炭素系材料からなる熱拡散部材を用いつつ、接合界面の熱応力を抑制することができる熱拡散部材の接合構造、発熱体の冷却構造、及び熱拡散部材の接合方法を提供する。 - 特許庁

In a frame sensor manufacturing method, the impurity is distributed by the ion implanting method or thermal diffusion method.例文帳に追加

又は、その火炎センサの製造方法において、前記不純物をイオン注入法あるいは熱拡散法により分布させる。 - 特許庁

The friction member 79 is a member joined on the thermal spraying layer 78 by the diffusion joining method.例文帳に追加

摩擦部材７９は、溶射層７８上に拡散接合法により接合された部材である。 - 特許庁

SUPER-HIGH TEMPERATURE INCINERATION AND THERMAL DECOMPOSITION FURNACE OF PCB OR THE LIKE FOR DIFFUSION SPIRAL HEATING AIR MIXING METHOD例文帳に追加

拡散型螺旋加熱空気混合方法のＰＣＢ等超高温焼却熱分解炉 - 特許庁

To provide a thermal diffusion sheet which can be used more suitably, in diffusion application of the heat from a heating body, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

発熱体からの熱の拡散用途において、より好適に使用可能な熱拡散シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photodetector of which thermal diffusion time is shortened and variation in diffusion of impurities is suppressed.例文帳に追加

熱拡散時間が短縮化されるとともに、不純物の拡散のばらつきを抑制することができる受光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exothermic module, a method for manufacturing the exothermic module, and a thermal diffusion member, in which thermal stress can be reduced while improving heat dissipation properties.例文帳に追加

放熱性を向上しつつ熱応力を低減することのできる発熱体モジュール及びその製造方法、熱拡散部材を提供する。 - 特許庁

A method for printing the image comprises the first process wherein the image of the latent image with a fluorescent dye is formed by thermal diffusion transfer, and the second process wherein the visible dye is formed on the image of the latent image by the thermal diffusion transfer.例文帳に追加

熱拡散転写により蛍光染料の潜像画像を形成する第１工程と、前記潜像画像上に可視染料を熱拡散転写する第２工程を有する印画方法。 - 特許庁

According to the manufacturing method above, the hard thermal insulation plate prevents thermal diffusion and also deformation of the substrates at the same time.例文帳に追加

上述した本発明によれば、熱圧着の際に、硬質の断熱板によって、熱の拡散とを防止し、同時に基板の変形を防止することができる。 - 特許庁

To provide a thermal diffusion material in which fine carbon fibers are uniformly dispersed in a metal sintered body while each of the fine carbon fibers maintains a fiber shape without being pulverized and with which heat of a thermal body can be effectively dissipated, and to provide a method for producing the thermal diffusion material.例文帳に追加

金属焼結体中に微細炭素繊維が粉砕されずに繊維の形状を維持したまま均一に分散した、発熱体の熱を効果的に放散することができる熱拡散材料およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of forming a diffusion layer which serves as a bit line by thermal diffusion only immediately below a region which serves as a channel region.例文帳に追加

チャネル領域となる領域の直下だけに熱拡散によってビット線となる拡散層を形成することができる半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a high-resolution lenticular image which withstands the thermal diffusion of dyestuffs.例文帳に追加

本発明の目的は、熱的な色素の拡散に耐える高解像度レンチキュラー画像を得るための方法を提供することである。 - 特許庁

The mask 48 has an opening 48a prescribing a region for introducing tin to a semiconductor multilayered film by a thermal diffusion method.例文帳に追加

マスク４８は、熱拡散法を用いて半導体多層膜に錫を導入する領域を規定する開口部４８ａを有する。 - 特許庁

To provide a forming method for the interlayer insulating film which offers the copper ion diffusion prevention capability as well as superior thermal stability and mechanical strength.例文帳に追加

銅イオンの拡散防止機能、熱安定性、及び機械的強度に優れた層間絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

This method for purifying carbon nanotubes 30 comprises purifying the nanotubes 30 with a thermally decomposed acidic gas in a diffusion oven provided with a tube for the thermal treatment.例文帳に追加

熱処理用チューブを具備した拡散炉内で熱分解された酸性ガスを用いてカーボンナノチューブ３０を精製する。 - 特許庁

In the semiconductor device and its manufacturing method by executing thermal treatment with only a PSG film or a BSG film as the thermal diffusion source, a shallow low concentration source/drain diffusion region can be easily formed.例文帳に追加

ＰＳＧ膜もしくはＢＳＧ膜のいずれかのみを熱拡散源として熱処理を行うことにより、容易に浅い低濃度ソース・ドレイン拡散領域を形成することが可能な半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring method of a thermal constant using an optical heating method, for measuring a thermal diffusivity, a Biot number, and a diathermancy coefficient of a material in which a heat transfer is generated by diffusion heat transfer and radiation heat transfer.例文帳に追加

熱移動が拡散伝熱と輻射伝熱により生じる材料の熱拡散率、ビオ数、及び透熱係数を測定する光加熱法を用いた熱定数の測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal diffusion bonding method by which bonding is performed under an ideal condition of a low load and a low temperature and also a bonding time is shortened.例文帳に追加

低荷重、低温度という理想条件で接合を行うことができ、また、接合時間の短縮を達成できる熱拡散接合方法を提供する。 - 特許庁

After an organic film pattern such as photo-resist is formed, the film is carbonized to provide a graphite film which is used as a mask for selective doping by a thermal diffusion method.例文帳に追加

また、フォトレジスト等の有機膜パターンを形成後、その膜を炭化させたグラファイト膜をマスクとして熱拡散法による選択ドーピングをおこなう。 - 特許庁

To suppress thermal diffusion of laser beam and improve processing precision of the negative electrode in the pattering method of the negative electrode using laser beam in an organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子におけるレーザを用いた陰極のパターニング方法において、レーザの熱拡散を抑制し、陰極の加工精度を向上させる。 - 特許庁

A passivation film 11 (film for preventing diffusion of movable ions) is formed on the surface of the device side of a glass substrate 10 by a sputtering method, a CVD method, a dipping method or the like in order to intercept the thermal diffusion of Na ions in the substrate 10 to the surface of the device side of the substrate 10.例文帳に追加

ガラス基板１０のデバイス側表面には、基板１０中のＮａイオンの該デバイス側基板表面への熱拡散を遮断すべく、スパッタ法、ＣＶＤ法、ディップ法等により形成されたパッシベーション膜１１（可動イオン拡散防止膜）が成膜されている。 - 特許庁

The method for printing the image comprises the first process wherein the image with the visible dye is formed by thermal diffusion transfer, the second process wherein a dye receiving layer is transferred on the image, and the third process wherein the image of the latent image with a fluorescent image is formed on the dye receiving layer by the thermal diffusion transfer.例文帳に追加

熱拡散転写により可視染料による画像を形成する第１工程と、前記画像上に、染料受容層を転写する第２工程と、前記染料受容層上に熱拡散転写により蛍光染料の潜像画像を形成する第３工程とを有する、印画方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical diffusion film which has excellent thermal resistance and mechanical strength, these being inherent in a bi-axially stretched film, and also shows excellence in light transmittance and optical diffusion.例文帳に追加

二軸延伸フィルム本来の優れた耐熱性と機械的強度を有し、かつ優れた光線透過率と光拡散性を有する光拡散性フィルムの製造方法及びそれから得られた光拡散性フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate for semiconductor devices excellent in thermal diffusion characteristics and heat dissipation characteristics without generating curvature and deformation, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

反り及び変形が発生せず、熱拡散性及び放熱性が優れた半導体装置用積層基板の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for silicon wafer for suppressing the occurrence of the dispersion of oxidized film thickness or dispersion of sheet resistance on a wafer after a second thermal diffusion process.例文帳に追加

第２の熱拡散工程後の基板に酸化膜厚のばらつきやシート抵抗のばらつきが発生してしまうことを抑制するシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the temperature range of 480°C-560°C, thermal diffusion of zinc is carried out by a closed tube method or an open tube method so that heat treatment may be executed in the nitrogen, inert gas atmosphere or in vacuum at the temperature 400°C-420°C for 10 minutes-30 minutes.例文帳に追加

４８０℃〜５６０℃の温度範囲で閉管法又は開管法で亜鉛を熱拡散し、窒素、不活性ガス雰囲気または真空中で４００℃〜４２０℃、１０分〜３０分の熱処理をすること。 - 特許庁

This method of diffusing antimony, which makes antimony diffuse through a vapor phase into silicon single-crystal wafers, is constituted in such a way that after rinsing the surfaces of the silicon single-crystal wafers with hydrofluoric acid for removing an oxide film, the silicon single-crystal wafers are inserted into a thermal diffusion furnace to conduct the diffusion process of antimony.例文帳に追加

シリコン単結晶ウェーハにアンチモンを気相拡散するアンチモン拡散方法において、シリコン単結晶ウェーハの表面をフッ酸で洗浄して酸化膜を除去した後、熱拡散炉にシリコン単結晶ウェーハを投入し、アンチモンの拡散処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein the amount of flares of redistribution of impurities accompanying transient enhanced diffusion phenomenon (TED) and regular thermal treatment is restrained, when the impurities having different re-diffusion length property are annealed after ion implantation.例文帳に追加

異なる再拡散長特性を有する不純物をイオン注入後アニールするに際し、過渡増速拡散現象（ＴＥＤ）及び通常の熱処理に伴う不純物の再分布の拡がり量を抑制した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a power semiconductor device wherein thermal stress is small, a terminating end length is short since a guard ring diffusion layer is shallow, the variation of the depth of the guard ring diffusion layer is small, the working process difficulty of a fine element structure is low and loss is low, and its manufacturing method.例文帳に追加

熱ストレスが小さく、ガードリング拡散層が浅いため終端長が短く、ガードリング拡散層の深さのばらつきが小さく、微細な素子構造の加工プロセス難度が低く、損失が低い電力用半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming wirings of a semiconductor element which enables prevention of contamination by the aging of wiring materials resulting from ordinary high temperature surface reaction and thermal diffusion by reducing or substantially eliminating chemical reaction with the circumferential atmosphere and/or movement by thermal diffusion of atoms of wiring materials after formation of electronic circuit wirings.例文帳に追加

電気回路配線形成後の配線材料構成原子の周囲雰囲気との化学反応、及び又は、熱拡散による移動を低減又は、事実上阻止し、通常の高温表面反応や熱拡散に起因する配線材料の経時的な劣化を防止することを可能とする半導体素子の配線形成方法を提供する。 - 特許庁

A processing temperature required for this low-temperature solid phase epitaxial growth method is about 450°C-650°C, the thermal diffusion of the impurities into the semiconductor film 9 is suppressed, and an initial steep step profile can be maintained.例文帳に追加

この低温固相エピタキシャル成長法に要する処理温度は４５０℃〜６５０℃程度であり、半導体膜９内への不純物の熱拡散は抑えられ、初期の急峻なステッププロファイルが維持される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing laminated ceramics that prevents organic matter residues and cracks in degreasing by promoting thermal decomposition of organic matters in degreasing and diffusion of the cracked gas without lowering productivity.例文帳に追加

生産性を低下させることなく、脱脂時の有機物の熱分解および分解したガスの拡散を促進し、有機物残渣や脱脂割れの発生を防止できる積層セラミックスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a photoelectric converter comprises the steps of forming the bonding layer by the thermal diffusion in an atmosphere containing an N-type or P-type dopant on a P-type or an N-type silicon substrate in a diffusion furnace, then switching the atmosphere in the furnace to the oxygen atmosphere, and starting annealing to form the protective film on the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

拡散炉内で、Ｐ型またはＮ型シリコン基板に、Ｎ型またはＰ型ドーパントを含む雰囲気で熱拡散によって接合層を形成した後、その炉内の雰囲気を酸素雰囲気に切り換えるとともに、徐冷を開始して、シリコン基板表面に保護膜を形成する。 - 特許庁