| 例文 (102件) |
vacuum evaporation depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 102件
ACCOMMODATION CONTAINER OF EVAPORATION MATERIAL FOR VACUUM DEPOSITION例文帳に追加
真空蒸着用蒸発材料収容容器 - 特許庁
EVAPORATION SOURCE AND VACUUM VAPOR-DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
蒸発源および真空蒸着装置 - 特許庁
Moreover, oblique evaporation is performed by vacuum vapor deposition as the PVD method.例文帳に追加
また、ＰＶＤ法として真空蒸着法で斜方蒸着する。 - 特許庁
EVAPORATION SOURCE FOR VACUUM DEPOSITION, AND PHOSPHOR SHEET PRODUCTION DEVICE例文帳に追加
真空蒸着用蒸発源及び蛍光体シート製造装置 - 特許庁
VACUUM ARC EVAPORATION SOURCE, AND FILM DEPOSITION SYSTEM USING IT例文帳に追加
真空アーク蒸発源およびそれを用いた膜形成装置 - 特許庁
In the vacuum deposition method, the film is formed on the surface of the substrate by vacuum deposition using a plurality of evaporation sources within a vacuum vessel.例文帳に追加
本発明の真空蒸着方法は、真空容器内で複数の蒸発源を用いて蒸着により基板の表面に膜を形成するものである。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition apparatus which, even for vapor deposition materials having different evaporation quantities and evaporation temperatures, exhibits satisfactory control performance of the heating temperature of the vapor deposition materials, and consequently can highly accurately control the vapor quantity of the vapor deposition materials.例文帳に追加
蒸発量、蒸発温度が異なる蒸着材料であっても、蒸着材料の加熱温度の制御性が良く、蒸着材料の蒸気量を高精度に制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition system capable of removing air and impurities in a vapor deposition material packed into a crucible in order to obtain a good-quality vapor deposition film in vacuum deposition and supplying the degassed vapor deposition material into the crucible disposed in an evaporation chamber in the state of maintaining the vacuum of the evaporation chamber of a vacuum deposition system and a method for supplying the vapor deposition material.例文帳に追加
真空蒸着において良質な蒸着膜を得るために、坩堝に充填する蒸着材料中の空気や不純物を除去するとともに、真空蒸発装置の蒸発室の真空を維持した状態で、脱気された蒸着材料を蒸発室内に備えられた坩堝に供給可能な真空蒸着装置、並びに蒸着材料供給方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
In a vacuum deposition system 50 equipped with a vacuum chamber 1, the evaporation source 2 having an evaporation material holding container 2a, etc., and a hopper type evaporation material feeding material 10, the evaporation material is fed into the evaporation material holding container 2a, etc., by using a metering cup 21.例文帳に追加
真空チャンバ１と、蒸発材料保持容器２ａ等を備える蒸発源２と、ホッパ式蒸発材料供給手段１０を備える真空成膜装置５０において、蒸発材料保持容器２ａ等に蒸発材料を供給するにあたり、計量カップ２１を用いて行う。 - 特許庁
This thin film deposition apparatus comprises a vacuum tank 2, and an evaporation unit 3 comprising a plurality of host evaporation sources 30 and dopant evaporation sources 31 which are disposed in the vacuum tank 2 at a predetermined pitch P.例文帳に追加
本発明の薄膜形成装置は、真空槽２と、真空槽２内において所定のピッチＰで配設された複数のホスト蒸発源３０及びドーパント蒸発源３１から構成される蒸発部３とを備えている。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition device which can exchange an evaporation source without breaking vacuum also when an evaporation material disappears from an evaporation source.例文帳に追加
蒸発源から蒸発材料が無くなった場合も、真空を破らずに蒸発源の交換を可能にすることが出来る真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The vacuum vapor deposition apparatus (vapor deposition apparatus) 1 has a vacuum chamber 2 in which a substrate holding wall 3, four evaporation devices 5a, 5b, 5c and 5d, a vapor chamber 6, and four crucible installation chambers (evaporation device installation sections) 12a, 12b, 12c and 12d are incorporated.例文帳に追加
真空蒸着装置（蒸着装置）１は真空室２を有し、真空室２内に、基板保持壁３と、４台の蒸発装置５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと蒸気チャンバー６及び４個の坩堝設置室（蒸発装置設置部）１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄを内蔵している。 - 特許庁
Regarding the vacuum deposition system, a plurality of evaporation sources 2 and the body 3 to be vapor-deposited are arranged in a vacuum chamber 1, materials vaporized from the respective evaporation sources 2 are made to reach the surface of the body 3 to be vapor-deposited, and are subjected to vapor deposition.例文帳に追加
真空チャンバー１内に複数の蒸発源２と被蒸着体３とを配置し、各蒸発源２から気化した物質を被蒸着体３の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置に関する。 - 特許庁
Vapor deposition on a substrate is performed by evaporating evaporation particles 7 from a vapor deposition source 3 arranged opposite to the substrate 5 in a vacuum chamber 1.例文帳に追加
真空チャンバー１内で、基板５に対向して配置した蒸着源３から蒸発粒子７を蒸発させて、前記基板上に蒸着を行う。 - 特許庁
To achieve a vacuum vapor-deposition device capable of deteriorating deposition precision by accumulation of a deposit in the vicinity of a nozzle of an evaporation source.例文帳に追加
蒸発源のノズル付近に蒸着物が堆積し、蒸着精度が低下することを防止することが出来る真空蒸着装置を実現する。 - 特許庁
As for the evaporation source container 1 for a vacuum deposition system where a sublimable vapor deposition material is stored and heated by a heating means so that the sublimable vapor deposition material is evaporated and is vacuum-deposited, the evaporation source container is provided with diaphragms 2 for dividing and storing the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加
昇華性蒸着材料を収容して加熱手段で加熱することにより該昇華性蒸着材料を蒸発させ、真空蒸着する真空蒸着装置における蒸発源容器１であって、前記蒸発源容器に昇華性蒸着材料を仕切って収容するための仕切り板２を設ける。 - 特許庁
In a vacuum deposition device in which an element substrate is arranged on a vapor deposition mask, and evaporation sources 41, 42 are arranged at a lower part of the vapor deposition mask, a sheet shutter 60 is arranged to cover the evaporation source 41, 42, and vacuum deposition is carried out to the element substrate through an opening 61 of the sheet shutter 60.例文帳に追加
蒸着マスクの上に素子基板が配置され、蒸着マスクの下方に蒸発源４１、４２が配置された真空蒸着装置において、蒸発源４１、４２を覆って、シートシャッター６０を配置し、シートシャッター６０の開口部６１を通して素子基板に真空蒸着する。 - 特許庁
After the inside of the vacuum chamber has been made into the reduced pressure state, evaporation of the deposition material from the vapor deposition source is started and a vapor deposition film composed of the deposition material is formed on the member to be subjected to vapor deposition.例文帳に追加
真空槽内が減圧状態にされた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられ、蒸着材料からなる蒸着膜が被蒸着物に形成される。 - 特許庁
To provide a unit of raw materials for vacuum vapor deposition, which can stably preserve an organic compound, inhibit the raw materials from causing bumping during a vacuum vapor deposition process, and stably form a thin film; an evaporation source for vacuum vapor deposition; and a vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加
有機化合物を安定して保存できると共に、真空蒸着時に突沸現象の発生を抑えることができ、安定して薄膜を形成することができる真空蒸着用原料ユニット、真空蒸着用蒸発源および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The vacuum arc vapor deposition apparatus has an arc power source 30 to supply the arc current I_A of triangular waveform to a vacuum arc evaporation source 12 as the arc power source for the vacuum arc evaporation source 12.例文帳に追加
この真空アーク蒸着装置は、真空アーク蒸発源１２用のアーク電源として、真空アーク蒸発源１２に三角波状のアーク電流Ｉ_Ａ を供給するアーク電源３０を備えている。 - 特許庁
To provide a vacuum vapor deposition apparatus and a method capable of enhancing the continuous vapor deposition capacity, with respect to a vacuum vapor deposition apparatus using an electron beam evaporation source.例文帳に追加
電子ビーム蒸発源を用いた真空蒸着装置において、連続蒸着処理能力の増大を可能とした真空蒸着装置および方法を提供する。 - 特許庁
The thin film deposition apparatus comprises a vacuum tank 2 and an evaporation unit 3 for an organic material, and a shutter 7 for controlling the film deposition is provided between a substrate 5 and the evaporation unit 3.例文帳に追加
本発明の薄膜形成装置は、真空槽２と、有機材料用の蒸発部３を有し、基板５と蒸発部３との間に成膜制御用シャッター７が設けられている。 - 特許庁
To provide an inexpensive vacuum deposition system where, even in the case there are many evaporation sources, the quantity of a film deposition material to be evaporated in each evaporation source can be controlled.例文帳に追加
安価で、かつ、多数の蒸発源を有する場合であっても、個々の蒸発源における成膜材料の蒸発量を生後できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
An evaporation source 3 housing a vapor deposition material 2 and an object 4 for vapor deposition are disposed within a vacuum chamber 1, and a cylindrical body 5 heated to the temperature at which the vapor deposition material 2 is vaporized is arranged between the evaporation source 3 and the object 4 for vapor deposition.例文帳に追加
真空蒸着装置は真空チャンバ１内に蒸着材料２を収容する蒸発源３と被蒸着体４とが、蒸発源３と被蒸着体４との間には蒸着材料２が気化される温度に加熱された筒状体５が配置される。 - 特許庁
A vacuum vapor deposition apparatus has an electron gun 14 to generate electron beams to shock the evaporation material in the recessed part at the vapor deposition position to evaporate the evaporation material, and an electron gun 21 to generate electron beams to preliminarily heat the evaporation material in the recessed parts at the preliminary heating position.例文帳に追加
蒸着位置に来た凹部の蒸発材料を衝撃して蒸発材料を蒸発させるための電子ビームを発生する電子銃１４と、予備加熱位置に来ている凹部の蒸発材料を予備加熱するための電子ビームを発生する電子銃２１が設けられている。 - 特許庁
To provide a resistance heating filament which does not generate fluctuation of an amount of evaporation caused by formation of oxide even when repeated vacuum deposition is conducted.例文帳に追加
繰り返し真空蒸着を行なっても、酸化物の形成に起因する蒸発量の変動の生じない抵抗加熱フィラメントを提供する。 - 特許庁
The film-forming apparatus 1 evaporates a vapor deposition material within a vacuum chamber 10 and deposits the material by evaporation to a substrate WA.例文帳に追加
真空チャンバ１０内で蒸着材料を蒸発させ基板ＷＡに対して蒸着させる成膜装置１である。 - 特許庁
To provide a vacuum evaporation system and method for controlling a vapor deposition rate without using a quartz oscillator.例文帳に追加
この発明は、水晶振動子を用いることなく蒸着速度を制御する真空蒸着装置及び方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide an evaporation source for vacuum vapor deposition, which can form a film with a film thickness exceeding several hundred micrometers, can highly uniformly and quickly melt a large amount of a film-forming material, and can prevent a defect due to bumping and the like, and to provide a vacuum vapor-deposition apparatus using the evaporation source.例文帳に追加
数百μｍを超える厚膜の成膜が可能であり、かつ、多量の成膜材料を高い均一性で迅速に溶融でき、しかも、突沸に起因する欠陥等も防止できる真空蒸着用の蒸発源、および、この蒸発源を利用する真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The vacuum vapor deposition apparatus with an electron beam evaporation source mounted thereon comprises a deposition-preventive cover to cover a predetermined member in the apparatus, and a drive source for moving the deposition-preventive cover.例文帳に追加
電子ビーム蒸発源を搭載した真空蒸着装置において、装置内の所定の部材を被装する防着カバー、及び防着カバーを移動させる駆動源を備える構成とした。 - 特許庁
The vacuum deposition apparatus comprises the vacuum chamber 1; a rod-shaped evaporation source 2 which is installed so as to freely elevate toward the inside and outside of the vacuum chamber 1; and the workpiece support means 3 for supporting workpieces W which are arranged so as to surround the evaporation source 2 when the evaporation source 2 comes down into the vacuum chamber 1.例文帳に追加
本発明に係る真空蒸着装置は、真空チャンバ１と、該真空チャンバ１の内外に昇降自在に設けられたロッド状の蒸発源２と、前記真空チャンバ１内に降下した前記蒸発源２に対して該蒸発源２を取り囲むように配置されるワークＷを支持するワーク支持手段３を備える。 - 特許庁
The vacuum vapor-deposition apparatus 1 comprises: an evaporation section 4, a crucible-exchanging section 5, and a discal turret disc 14 which is rotatably arranged in between the evaporation section 4 and the crucible-exchanging section 5.例文帳に追加
真空蒸着装置１は、蒸発部４と、坩堝交換部５と、これらの蒸発部４と坩堝交換部５との間に回転可能に配設された円盤状のターレットディスク１４とから構成される。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition apparatus having a driving mechanism for an evaporation source, which reduces particles to be formed in a chamber, and copes with the arrangement of a plurality of evaporation sources.例文帳に追加
チャンバ内におけるパーティクルの発生を低減でき、蒸発源の複数配置にも対応することができる蒸発源駆動機構を備えた真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition system where sufficient degassing can be performed, the perfect stop of the feed in the vapor of an evaporation material can be performed, and the evaporation material can be controlled to a desired vapor flow rate at high precision.例文帳に追加
十分な脱ガスができ、蒸発材料の蒸気の供給の完全停止を行うことができ、蒸発材料を所望の蒸気流量に高精度で制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The vacuum deposition apparatus uses two or more evaporation sources, and further, correspondingly to the two or more evaporation sources, to a substrate held by a substrate holder, has hot walls in which at least the lower edge parts are located at the outside of the evaporation source.例文帳に追加
複数の蒸発源を用いると共に、この蒸発源の２以上に対応して、基板ホルダに保持された基板に対して、少なくとも下端部が前記蒸発源よりも外側に位置するホットウォールを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
To enable the evaporation of a magnetic evaporation material of high melting point by an electron beam heating method, to eliminate troubles in evaporation or defects in a film caused by the magnetic field, and to enable formation and doping of a thin film through the vacuum deposition using the magnetic material of high melting point.例文帳に追加
電子線加熱法により磁性体高融点蒸発材料の蒸発を可能とすると共に、磁場による蒸発の障害や膜の欠陥を無くし、磁性体高融点材料を使用した真空蒸着による薄膜の形成やドーピングを可能とする。 - 特許庁
The thin film deposition system is provided with a vacuum vessel 2, an evaporation source 4 generating an evaporation material 6, and a plurality of substrate holders 34 each holding a substrate 10 having a hollow part 12 to a direction in which the hollow part orients toward the evaporation source 4.例文帳に追加
この薄膜形成装置は、真空容器２と、蒸発物質６を発生させる蒸発源４と、中空部１２を有する基体１０をその中空部が蒸発源４に向く方向にそれぞれ保持する複数の基体保持具３４とを備えている。 - 特許庁
To provide an evaporation source container in a vacuum deposition system with which a sublimable vapor deposition material solidified by the heating can stably be heated and evaporated by a resistance heating vapor deposition method without bursting the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加
真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により昇華性蒸着材料を蒸発源により加熱するに際し、加熱により固形化する昇華性蒸着材料を破裂させることなく、安定良く加熱、蒸発させることが可能となる蒸発源容器を提供する。 - 特許庁
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