「wavefront」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The wavefront conversions are performed a plurality of times at a prescribed position of the light spot and the image of the preparation is obtained in accordance with the wavefront conversions.例文帳に追加

光スポットの所定の位置において、波面変換を複数回行い波面変換に併せて試料の画像を得る。 - 特許庁

A new wavefront is generated by the superposition of all of the secondary waves. 例文帳に追加

新しい波面は、すべての二次波の重ね合わせによって作られる。 - 科学技術論文動詞集

Blurred spots and/or double spots represent diffraction zones of the wavefront.例文帳に追加

ぼやけたスポット及び／又は２重スポットが波面の回折ゾーンを表わす。 - 特許庁

Concretely, a wavefront after passing through each area is reversed in irregulality.例文帳に追加

具体的には、各領域を通過した後の波面は、凹凸状態が逆転する。 - 特許庁

WAVEFRONT MEASURING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR EXPOSURE APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加

波面測定装置及びそれを搭載した半導体露光装置 - 特許庁

RETICLE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING INSTRUMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ALIGNER例文帳に追加

レチクル、波面収差測定機、及び半導体露光装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION CORRECTION MIRROR, AND OPTICAL PICKUP例文帳に追加

波面収差補正ミラーの製造方法および光ピックアップ - 特許庁

SPATIAL LIGHT MODULATOR AS SOURCE MODULE TO DUV WAVEFRONT SENSOR例文帳に追加

ＤＵＶ波面センサに対するソースモジュールとしての空間光変調器 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

波面収差の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

OPTIMIZED IMAGE PROCESSING FOR WAVEFRONT CODED IMAGING SYSTEMS例文帳に追加

波面符号化イメージングシステムの最適化された画像処理 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION COMPENSATION ELEMENT, OPTICAL PICKUP, AND OPTICAL DISK APPARATUS例文帳に追加

波面収差補正素子、光ピックアップ及び光ディスク装置 - 特許庁

WAVEFRONT CONTROL ELEMENT, LIQUID CRYSTAL LENS, AND ABERRATION COMPENSATION ELEMENT例文帳に追加

波面制御素子及び液晶レンズ並びに収差補正素子 - 特許庁

The first wavefront 103 is a substantially spherical wavefront, the reflector having a shape corrects each amplitude taper of the first wavefront 103, and a substantially uniform amplitude component is given to the reflection wavefront 107, when the wave enters the active array amplifier 108.例文帳に追加

最初の波面１０３は、実質的に球面波面であり、形状を有する反射器は上記最初の波面１０３のあらゆる振幅テーパーを補正して、上記反射波面１０７に、上記アクティブアレイアンプ１０８に入射するときに実質的に均一な振幅成分を与える。 - 特許庁

To perform wavefront correction even when a position of a subject eye shifts corresponding thereto.例文帳に追加

被検眼の位置がシフトしても、それに対応して波面補正を行う。 - 特許庁

TRANSPARENT WAVEFRONT MEASURING APPARATUS, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

透過波面計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

INTRAOCULAR DISTANCE MEASURING APPARATUS BY MULTIPLE WAVEFRONT OPTICAL COHERENCE例文帳に追加

多重波面光コヒーレンスによる眼球内距離測定装置 - 特許庁

To capture a favorable fundus image with corrected wavefront aberration.例文帳に追加

波面収差が補正された状態の良好な眼底画像を撮影する。 - 特許庁

To compensate large wavefront aberration by facilitating manufacture.例文帳に追加

製造容易にして、大きな波面収差を補正できるようにする。 - 特許庁

The inspection apparatus is for measuring wavefront aberration of an optical system to be inspected (PL).例文帳に追加

被検光学系（ＰＬ）の波面収差を測定するための検査装置である。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

波面収差測定装置、露光装置及び波面収差測定方法 - 特許庁

To securely correct wavefront aberrations caused by an interchangeable optical element.例文帳に追加

可換光学素子に起因して発生する波面収差を確実に補正できること。 - 特許庁

To provide a beam distribution apparatus capable of independent wavefront correction for each distributed beam.例文帳に追加

分配されたビーム毎に波面補正可能なビーム分配装置の提供。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, ALIGNER AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

波面収差測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

Reading light (26) is generated by imparting the wavefront distortion to a plane wave.例文帳に追加

平面波に波面歪みを与えて読出し光（２６）を生成する。 - 特許庁

The optical element is adapted to induce a predetermined aberration in a wavefront.例文帳に追加

その光学素子は波面に所定の収差を生じさせることに適用される。 - 特許庁

To provide a wavefront aberration measuring apparatus and a wavefront aberration measuring method which can measure the wavefront aberration of an optical system under test with high precision by checking the state of the interference fringes of photographed image data before performing image processing for calculating the wavefront aberration of the optical system under test.例文帳に追加

被検光学系の波面収差の算出のための画像処理を実施する前に、撮像した画像データの干渉縞の状態をチェックすることによって、高精度に被検光学系の波面収差を測定することができる波面収差測定装置及び方法を提供する。 - 特許庁

SYSTEM, DEVICE, AND METHOD FOR OPTICAL WAVEFRONT CONTROL例文帳に追加

光波面制御システム、光波面制御装置および光波面制御方法 - 特許庁

A phase correction element is used to adjust a wavefront of the laser beam.例文帳に追加

位相補正素子を用いてレーザ光の波面を調整する。 - 特許庁

To smoothly photograph an eyeground image in the condition that a wavefront aberration is rectified.例文帳に追加

波面収差が補正された状態の眼底画像をスムーズに撮影する。 - 特許庁

To efficiently manufacture a projection optical system having wavefront aberration corrected.例文帳に追加

波面収差が補正された投影光学系を効率よく製造する。 - 特許庁

An optical wavefront modulation element 10a is inserted into the optical system 10.例文帳に追加

光学系１０は、光波面変調素子１０ａが挿入される。 - 特許庁

To provide an apparatus for measuring refractive power of an eye using a wavefront aberration method.例文帳に追加

波面収差法を用いた眼屈折力測定装置を提供する。 - 特許庁

The unit for uniformization includes a wavefront dividing device (1a) for wavefront-dividing a light flux incident from the laser source into a plurality of light fluxes, and relay optical system (1b) for superimposing the plurality of light fluxes, which are wavefront-divided by the wavefront dividing device, at the light intake of the exposure apparatus body.例文帳に追加

均一化ユニットは、レーザ光源から入射した光束を複数の光束に波面分割する波面分割素子（１ａ）と、波面分割素子により波面分割された複数の光束を露光装置本体の光取入口において重畳させるリレー光学系（１ｂ）とを備えている。 - 特許庁

In a loop processing including detection of wavefront distortion of light by the wavefront detector 60, phase pattern adjustment by the controller 70 based on this detection result, and the presentation of the phase pattern by the wavefront modulator 30, the compensation phase pattern for compensating wavefront aberration is feedback-controlled.例文帳に追加

波面検出部６０による光の波面歪みの検出と、この検出結果に基づく制御部７０による位相パターンの調整と、波面変調部３０による位相パターンの呈示と、を含むループ処理において、波面収差補償を行う為の補償用位相パターンはフィードバック制御される。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, METHOD OF CALIBRATING THE SAME, AND ALIGNER例文帳に追加

波面収差計測装置、該装置の校正方法、及び露光装置 - 特許庁

ADAPTIVE WAVEFRONT TYPE ADJUSTING SYSTEM AND METHOD FOR OPHTHALMOLOGIC OPERATION例文帳に追加

眼科手術用の適応型波面式調節システムおよび方法 - 特許庁

The wavefront conversion device 10 has MEMS elements 12 and a moving part 13.例文帳に追加

波面変換装置１０は、ＭＥＭＳ素子１２と、移動部１３とを備える。 - 特許庁

ADAPTIVE WAVEFRONT MODULATION SYSTEM FOR REFRACTIVE LASER SURGERY AND METHOD ADAPTED THERETO例文帳に追加

レーザ式屈折手術用の適応型波面式調節システムおよび方法 - 特許庁

To provide a measurement apparatus capable of measuring wavefront aberrations correctly and efficiently.例文帳に追加

波面収差を正確かつ効率的に測定しうる測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing wavefront aberration in a lithography process.例文帳に追加

リグラフィプロセスにおいて、波面収差を低減する方法を提供する。 - 特許庁

In the wavefront aberration inspection apparatus, a position in the horizontal direction of the optical pickup is adjusted to minimize the tilt component of a phase wavefront of light emitted from the optical pickup detected by the wavefront aberration detection means, to measure the wavefront aberration of the light emitted from the optical pickup.例文帳に追加

波面収差検出手段により検出された、光ピックアップ出射光の位相波面のチルト成分を最小とするように、光ピックアップの水平方向の位置調整を行い、光ピックアップ出射光の波面収差を測定する、波面収差検査装置。 - 特許庁

The amount of distortion in the wavefront curvature caused by nonlinearlity of a liquid crystal is preliminarily calculated in real time by deriving secondary differential of the phase wavefront curvature so as to suppress distortion in the phase wavefront curvature.例文帳に追加

位相波面曲率歪みを抑制するために、位相波面曲率の２次微分の導出により、液晶の非線形性によって生ずる波面曲率歪の量を事前にリアルタイムで算出する。 - 特許庁

The reproduction light reflected by the mirror 28 is projected to a wavefront control device 29, and distortion of wavefront of the reproduction light is corrected based on distortion information of the reproduction light wavefront.例文帳に追加

ミラー２８から反射された再生光は波面制御デバイス２９に照射され、再生光波面の歪情報に基づいて、再生光の波面の歪が補正される。 - 特許庁

To provide a technique for converting the wavefront curvature of light at high speed for a wavefront curvature modulator modulating the wavefront curvature of light by using electrooptical effect.例文帳に追加

電気光学効果を利用して光の波面曲率を変調する波面曲率変調器において、光の波面曲率を高速で変調する技術を提供する。 - 特許庁

A wavefront measuring part 10 projects the luminous flux for measuring the wavefront to the eyeground of the eye to be examined and receives the reflected luminous flux from the eyeground of the eye to be examined through the wavefront correction element 71.例文帳に追加

波面測定部１０は、波面測定のための光束を被検眼眼底に投影し、被検眼眼底からの反射光束を波面補正素子７１を介して受光する。 - 特許庁