「wavefront」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wavefront aberration correction mirror of a structure which reduces distortion, can realize lower electric power and can enhance the efficiency of a piezoelectric element and an optical pickup.例文帳に追加

ゆがみが少なく、低電力化を実現でき、圧電素子の効率を高められる構造の波面収差補正ミラーおよび光ピックアップを提供する。 - 特許庁

To obtain a grid configuration in which, transmitted light flux does not cause wavefront degradation associated with a phase level difference, by forming a sub wavelength grid only in a designated area.例文帳に追加

サブ波長格子を所定領域にのみ形成して、透過光束は位相段差に伴う波面劣化が生じない格子構成を実現する。 - 特許庁

A hologram 16 used for shaping the wavefront of laser rays is formed on the surface of the sapphire substrate 1 from which laser rays are projected.例文帳に追加

そして、前記サファイア基板１のレーザー光が出射することになる面には、当該レーザー光の波面を整形するためのホログラム１６が形成されている。 - 特許庁

To effectively correct the deterioration of the wavefront aberration in a diagonal incidence type optical scanner suitable for low cost, low power consumption and miniaturization.例文帳に追加

低コスト、低消費電力、小型化に適した、斜入射方式の光走査装置における波面収差の劣化を有効に補正できるようにする。 - 特許庁

The absorption wave-making device is used, which comprises a wave-making board 9, drive sections 4-8, a detection section 15, a wavefront variation detection section 11, and a control section 14.例文帳に追加

造波体９と駆動部４〜８と検出部１５と波面変動検出部１１と制御部１４とを備える吸収造波装置を用いる。 - 特許庁

The second wavefront division elements are also configured so that a group of beams obliquely incident into an optical axis center of the incident face may be emitted in parallel to the optical axis.例文帳に追加

第２波面分割要素も、入射面の光軸中心に斜め入射した光線群が光軸と平行に射出されるように構成されている。 - 特許庁

To provide an optical subassembly in which an optical module equipped with a ball lens is used, while a wavefront aberration is suppressed and an excellent optical characteristic is obtained.例文帳に追加

ボールレンズが取付けられた光モジュールを用いたものであって、波面収差を抑えて良好な光学特性が得られる光サブアセンブリを提供する。 - 特許庁

To provide a wavefront aberration measuring device that can surely prevent hydrocarbon components in the device from contamination caused by their adherence to pinholes.例文帳に追加

装置内の炭化水素成分がピンホールにコンタミネーションとなって付着するのを確実に防止できるような波面収差測定装置を提供する。 - 特許庁

Image detection apparatuses 95_1, 95_2 disposed in accordance with the plurality of wavefront dividing optical system 94_1, 94_2 detect the plurality of optical images.例文帳に追加

そして、複数の波面分割光学系９４_1，９４_2それぞれに応じて配置された像検出装置９５_1，９５_2が、複数の光の像を検出する。 - 特許庁

To provide an aberration measuring apparatus which enables performing wavefront aberration measurement of the measured body with ease and high precision, without requiring complicated operations.例文帳に追加

煩雑な操作を必要とせずに、被測定体の波面収差測定を容易且つ高精度に行うことができる収差測定装置を提供する。 - 特許庁

To form a diffraction element in which the deviation from an ideal curved face to eliminate the intrinsic wavefront aberration can be minimized.例文帳に追加

本発明は、本来の波面収差を無くすような理想的な曲面からのずれを最小にするような回折素子を形成することを目的とする。 - 特許庁

Each of the filters has at least one unit region having an external shape and a transmissivity distribution corresponding to a unit wavefront division surface of the optical integrator.例文帳に追加

各フィルタは、オプティカルインテグレータの単位波面分割面に対応する外形形状および透過率分布を有する単位領域を少なくとも１つ有する。 - 特許庁

To suppress the occurrences of a spherical aberration caused by a gap and wavefront distortion caused by evanescent coupling while a device provided with an SIL assay operates.例文帳に追加

ＳＩＬアッセイを備える装置の動作時に、ギャップに起因する球面収差、及びエバネッセントカップリングに起因する波面の歪みが発生することを抑制する。 - 特許庁

The first wavefront division elements are configured so that a group of beams obliquely incident into an optical axis center of the incident face may be emitted in parallel to the optical axis.例文帳に追加

第１波面分割要素は、入射面の光軸中心に斜め入射した光線群は光軸と平行に射出されるように構成されている。 - 特許庁

The first wavefront division elements are configured so that a group of beams obliquely incident into the optical axis center of the incident face may be emitted in parallel to the optical axis.例文帳に追加

第１波面分割要素は、入射面の光軸中心に斜め入射した光線群が光軸と平行に射出されるように構成されている。 - 特許庁

To provide an optical element position adjusting apparatus capable of suitably maintaining wavefront aberration of an optical element; to provide an optical system; an exposure apparatus; and a method for manufacturing a device.例文帳に追加

光学素子の波面収差を好適に維持できる光学素子位置調整装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scan type optical microscope using a wavefront converting element which less deteriorates in imaging performance even when a position in the direction of an optical axis where light is condensed on an object is changed.例文帳に追加

物体に集光する光軸方向の位置を変更しても結像性能の劣化が少ない波面変換素子を用いた走査型光学顕微鏡。 - 特許庁

To provide a wavefront aberration correction apparatus which achieves a correction of keeping a residual aberration as small as possible with excellent responsiveness over a short period of time and obtains a sharp image in case of imaging or observing with a high magnification even when a deformable mirror having a large number of electrodes for applying a voltage is used in correcting a wavefront aberration.例文帳に追加

波面収差を補正する際、電圧を印加する電極数が多い可変形状ミラーを用いたとしても、応答良く短時間にて残収差を小さく抑える補正を達成し、高倍率としてもきわめて鮮明な画像を得ることができる波面収差補正装置を提供すること。 - 特許庁

In a measurement method, a wavefront of light from the optical system to be inspected is measured by using a measuring device including a reflection member having a reflection surface for reflecting the light from the optical system to be inspected, a holding part for holding the reflection member, and a measuring optical system including a reference surface or a wavefront conversion element.例文帳に追加

被検光学系からの光を反射する反射面を有する反射部材と、前記反射部材を保持する保持部と、参照面又は波面変換素子を含む測定光学系とを有する測定装置を用いて、前記被検光学系からの光の波面を測定する測定方法を提供する。 - 特許庁

The system may be an optical or task-based optical imaging system including optics (102), such as a phase mask, for imaging a wavefront (55') of the system to an intermediate image and modifying phase of the wavefront such that an optical transfer function of the system is substantially invariant to focus-related aberrations from the medium.例文帳に追加

系は、その波面（５５’）を中間像へと結像し、系の光学伝達関数が媒質からの焦点関係の収差に対して実質的に不変となるように波面の位相を変更するための、位相マスクなどの光学素子（１０２）を含む光学的あるいはタスクベースの光学的結像系とすることができる。 - 特許庁

The refractive lens part is designed so that, in a range of the second numeric aperture, RMS wavefront aberration becomes minimum with respect to an intermediate substrate thickness between the two optical disks, and, in a region outside the second numeric aperture, the RMS wavefront aberration becomes less than 0.05 λ with respect to a substrate thickness of the optical disk 36.例文帳に追加

屈折レンズ部は、第２の開口数の範囲では、２つの光ディスクの中間の基板厚に対してＲＭＳ波面収差量が極小となるように設計され、第２の開口数の外側の領域では、光ディスク３６の基板厚に対してＲＭＳ波面収差が０．０５λ以下である。 - 特許庁

Thus, optical paths are easily separated even when the incident angle in the subscanning direction is small, and the increase in the diameter of a beam spot due to the deterioration of a wavefront aberration is suppressed.例文帳に追加

これにより、副走査方向の入射角を小さくしても光路分離が容易になり、波面収差の劣化によるビームスポット太りの発生を抑えることができる。 - 特許庁

To provide an interference measuring device capable of measuring with high accuracy the refractive index homogeneity or the transmission wavefront aberrations of a measuring object, an exposure device and a device-manufacturing method.例文帳に追加

被測定物の屈折率均質性または透過波面の収差を高精度に測定する干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus and an image processing method, capable of achieving a depth expansion system which does not require use of an optical wavefront modulation element and is not dependent on an optical system.例文帳に追加

光波面変調素子を用いる必要がなく、光学系に依存しない深度拡張システムを実現可能な撮像装置および画像処理方法を提供する。 - 特許庁

Calculated adjustments are searched as the result of least square fitting 157 for minimizing the root mean square value of wavefront aberration in a pupil area determined in 155.例文帳に追加

次に１５５で決定した瞳エリア内の波面収差の二乗平均平方根値を最小化する最小二乗フィッティングの結果、計算されたアジャストメントが求められる１５７。 - 特許庁

The optometrical apparatus measures the wavefront aberration of the eye 100 to be measured from outputs of the first and second photodetecting parts 21-1 and 21-2 with a short interval.例文帳に追加

眼科測定装置は、第１及び第２の受光部２１−１、２１−２からの出力に基づき、被測定眼１００の波面収差を短い間隔で測定する。 - 特許庁

The second wavefront division elements are configured so that a group of beams obliquely incident into the optical axis center of the incident face may be emitted obliquely to the optical axis.例文帳に追加

第２波面分割要素は、入射面の光軸中心に斜め入射した光線群が光軸に対して斜めに射出されるように構成されている。 - 特許庁

To provide an optical scanning device, wherein the whole apparatus is miniaturized and the deterioration of optical characteristic such as wavefront aberration is reduced, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

装置全体の小型化をはかり、波面収差劣化などの光学特性劣化を低減することができる光走査装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To highly accurately measure the wavefront information of an optical system to be expected by suppressing an influence of unwanted diffracted light based on an interference fringe obtained using a two-dimensional diffraction grating.例文帳に追加

２次元の回折格子を用いて得られる干渉縞に基づいて、不要な回折光の影響を抑制して、被検光学系の波面情報を高精度に計測する。 - 特許庁

A filter unit 3 applies a filter, which is simulated by ignoring heterogeneous waves of the wavefront closer to the sound source than the microphone array, to the frequency domain signal after the window function.例文帳に追加

フィルタ部３が、マイクアレーよりも音源に近い位置での波面を不均質波を無視することにより模擬したフィルタを窓関数後周波数領域信号に適用する。 - 特許庁

To provide a wavefront measuring apparatus capable of acquiring interference fringes having satisfactory contrast over the whole surface of an object to be inspected and performing highly accurate measurements.例文帳に追加

被検物の全面にわたって、良好なコントラストの干渉縞を得ることができ、高精度な測定を行うことができる波面測定装置を提供すること - 特許庁

The diffractive part is capable of compensating a passing wavefront at least partly for chromatic aberration introduced by at least one of the optical parts of the eye.例文帳に追加

前記回折部分は、眼の少なくとも１つの光学部分によって誘発された色収差について、通過波面を少なくとも部分的に補償することができる。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT DEVICE, OPTICAL PROJECTION SYSTEM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, PROJECTION ALIGNER, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MICRO DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

波面収差測定装置、投影光学系の製造方法、投影光学系、投影露光装置の製造方法、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、及びマイクロデバイス - 特許庁

The optical sensor 27 is used for detecting wavefront distortion information to be fed back to the device 29, and it is also used as a sensor for reading hologram recording information.例文帳に追加

光センサ２７は、デバイス２９にフィードバックさせる波面歪情報を検出するために用いられるものであるが、ホログラム記録情報の読取用のセンサとしても用いられる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal lens which excels in mass productivity and attains proper imaging performance, such that wavefront aberration is small as a variable focus lens.例文帳に追加

量産性に優れ、可変焦点レンズとして波面収差の小さい良好な結像性能を得ることが可能となる液晶レンズの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The obtained wavefront of the plus first-order diffracted light or minus first-order diffracted light is subtracted to find out the variation of pitch over the entire surface of the diffraction grating.例文帳に追加

得られた＋１次回折光または−１次回折光の波面を減算処理することで、回折格子全面にわたるピッチばらつきを求めることができる。 - 特許庁

To make low cost, low power consumption and downsizing compatible with optical characteristics such as wavefront aberration and scan line bow as an optical scanning device adaptable to four or more faces to be scanned.例文帳に追加

４以上の被走査面に対応する光走査装置として、低コスト、低消費電力、小型化と、波面収差，走査線曲がりなどの光学特性を両立する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wavefront shaping element for rapid imaging by electromagnetic waves, an electromagnetic wave imaging device provided with the same and an electromagnetic imaging method.例文帳に追加

電磁波によるイメージングを高速に行うための電磁波波面整形素子及びそれを備えた電磁波イメージング装置、並びに電磁波イメージング方法を提供する。 - 特許庁

This optical integrator of wave front splitting type has a large number of micro lenses which are arranged two-dimensionally, wavefront-splits an incident luminous flux and forms a large number of light sources.例文帳に追加

二次元的に配列された多数の微小レンズを有し、入射光束を波面分割して多数の光源を形成する波面分割型のオプティカルインテグレータ。 - 特許庁

To provide an apparatus that determines whether measurement of wavefront aberration in the near-infrared region is sufficient or not and carries out measurement in the visible region when measurement in the near-infrared region is insufficient.例文帳に追加

波面収差の測定を近赤外域での測定で充分か否かを判定し、不充分な場合に可視域での測定を行なえる装置を提供する。 - 特許庁

A control current I_ctrl flowing in the current coil 22 is regulated to control thereby the polarized wavefront of the linear polarized light incident into the first sensor fiber 11.例文帳に追加

そして、電流コイル２２に流す制御電流Ｉ_ｃｔｒｌを調整することによって、第１センサファイバ１１へ入射される直線偏光の偏波面を制御する。 - 特許庁

To provide a speckle reduction method and a system for EUV interferometry by which a wavefront quality measurement in an optical lithography tool is improved to be made even during wafer fabrication and exposure, without forcing the tool during measurement to be off-line.例文帳に追加

光リソグラフィツールにおける波面品質測定が、測定中のツールのオフラインを強いることなくウエハ作製／露光中でも可能となるように改善を行うこと。 - 特許庁

To provide a speckle reduction method and a system for EUV interferometry by which a wavefront quality measurement in an optical lithography tool is improved to be made even during wafer fabrication and exposure, without forcing the tool during measurement to be off-line.例文帳に追加

光リソグラフィツールにおける波面品質測定が、測定中のツールのオフラインを強いることなくウエハ作製/露光中でも可能となるように改善を行うこと。 - 特許庁

The shape of the optical surface is analyzed based on an interference fringe pattern resulting from interference between the shaped wavefront mapped by the optical surface and the second beam of radiation.例文帳に追加

光学表面の形状は、光学表面によってマッピングされた成形波面と第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される。 - 特許庁

To precisely control a polarized wavefront of light propagated through a sensor fiber in an optical fiber current sensor and a current measuring method using the optical fiber current sensor.例文帳に追加

光ファイバ電流センサおよび該光ファイバ電流センサを用いた電流測定方法において、センサファイバを伝搬する光の偏波面を精度良く制御する。 - 特許庁