「E layer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The elastic modulus E_T of a first rubber layer 16A is larger than the elastic modulus E_B of a second rubber layer 16B.例文帳に追加

第１ゴム層１６Ａの弾性率Ｅ_Ｔは、第２ゴム層１６Ｂの弾性率Ｅ_Ｂよりも大きい。 - 特許庁

A band gap E(15) of the group-III nitride crystal layer 15 is larger than a band gap E(GaN) of the gallium nitride semiconductor layer.例文帳に追加

III族窒化物結晶層１５のバンドギャップＥ（１５）は窒化ガリウム半導体層のバンドギャップＥ（ＧａＮ）より大きい。 - 特許庁

The photosensitive layer may further contain (E) a polymerizable monomer.例文帳に追加

また、この感光層には、（Ｅ）重合性モノマーを含有することができる。 - 特許庁

(e) A metallic wiring layer 107a is formed by burying metal in the groove.例文帳に追加

（ｅ）前記溝に金属を埋め込んで金属配線層１０７ａを形成する。 - 特許庁

A photoconductive layer 5 and lower electrode 6 are successively laminated (e) on the inside surfaces.例文帳に追加

その内面に光導電層５、下部電極６を順次積層する（ｅ）。 - 特許庁

A transparent conductive layer 31 is exposed inside the intervals D, E.例文帳に追加

間隔Ｄ，Ｅ内では透明導電層３１が露出している。 - 特許庁

In (e) process, a light reflection layer 8 is coated on the projection-like array group 7.例文帳に追加

（ｅ）工程：凸状配列群７上に光反射層８を被覆する。 - 特許庁

Further, the composition for resist lower-layer film formation may contain (D) an acid forming agent and (E) a crosslinking agent.例文帳に追加

更に、（Ｄ）酸発生剤、（Ｅ）架橋剤等を含有することができる。 - 特許庁

The electric resistance value of the base layer 3 is specified to be <1.0 E+06 Ω.例文帳に追加

ベース層３の電気抵抗値は１．０Ｅ＋０６Ω未満とする。 - 特許庁

The constrained damping material having a damping layer and a restricted layer features to use a viscoelastic body whose loss modulus (E") is from 2.00 E+09 to 2.00 E+11 for the aforementioned damping layer.例文帳に追加

制振層と拘束層とを有する拘束型制振材において、前記制振層に損失弾性率（Ｅ”）が２．００Ｅ＋０９〜２．００Ｅ＋１１の粘弾性体を用いたことを特徴とする。 - 特許庁

The method may includes one or more mask layer forming procedures, one or more pre-processing measurement procedures, one or more partial-etching (P-E) procedures, one or more final-etching (F-E) procedures and one or more post-processing measurement procedures.例文帳に追加

当該方法は、1つ以上のマスク層生成手順、1つ以上の前処理測定手順、1つ以上の部分エッチング(P-E)手順、1つ以上の最終エッチング(F-E)手順、及び1つ以上の後処理測定手順を有して良い。 - 特許庁

The emitter (E) is equipped with an emitter layer 26 formed on the intrinsic base layer 22.例文帳に追加

エミッタ(Ｅ)は、真性ベース層２２上に設けられたエミッタ層２６を有する。 - 特許庁

(e) The emitter material 7 is removed together with the sacrificial layer 4 from the gate electrode layer 3.例文帳に追加

（ｅ）エミッタ材料７を犠牲層４と共にゲート電極層３上から除去する。 - 特許庁

In this case, an inter-layer material E is interposed between the surface of the winding drum C and the winding front layer part.例文帳に追加

このとき、巻胴部Ｃの表面と巻き取り前層都の層間に層間材Ｅが介装される。 - 特許庁

As a method of anti-oxidation, an insulative E-layer can be formed on the outermost layer, by changing the composition of the layer consecutively above a layer A in Figure (a).例文帳に追加

或いは、酸化防止手段としては、Ａ層から図で更に上方に組成を連続的に変化させ、最外層に絶縁性のＥ層を形成してもよい。 - 特許庁

The near-infrared absorptive adhesive layer includes a (meth)acrylic adhesive resin component (d) and a near-infrared absorptive pigment (e).例文帳に追加

近赤外線吸収性粘着層は、(d)（メタ）アクリル系粘着樹脂組成物と、(e)近赤外線吸収色素とを含む。 - 特許庁

In addition, an electrode layer 4, 4 is arranged so as to cover the end area E, E of the spin valve film 2.例文帳に追加

そして、電極層４・４が、スピンバルブ膜２の端部領域Ｅ・Ｅを覆うように配されている。 - 特許庁

The magnetoresistive effect element is equipped with a magnetic domain control layer 3, 3 in such a manner as to come into contact with the end area E, E of a spin valve film 2.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子は、スピンバルブ膜２の端部領域Ｅ・Ｅに接するように磁区制御層３・３を備えている。 - 特許庁

The binder resin is burnt off by baking the dried film 20a in a high-temperature furnace of around 450°C to be vitrified and made into a low-melting-point glass layer 21 (Fig.(e)).例文帳に追加

略450℃の高温炉内で乾燥膜20aを焼成することによってバインダ樹脂を焼失させてガラス化し、低融点ガラス層21とする（図1(e)）。 - 特許庁

E_CLD2>E_CNT, and E_CW1<E_CW2 are satisfied, where forbidden band width energies of the second cladding layer 114, the contact layer 117, the first contact well layer 116w1, and the second contact well layer 116w3 as E_CLD2, E_CNT, E_CW1, and E_CW2, respectively.例文帳に追加

第２クラッド層１１４、コンタクト層１１７、第１コンタクトウェル層１１６ｗ１及び第２コンタクトウェル層１１６ｗ３の禁制帯幅エネルギーをＥ_CLD2、Ｅ_CNT、Ｅ_CW1及びＥ_CW2としたときに、Ｅ_CLD2＞Ｅ_CNT、かつ、Ｅ_CW1＜Ｅ_CW2である。 - 特許庁

A first layer (lower layer) and a second layer (upper layer) are formed respectively so as to become the relation of A<B<C<D<E<F<G<H<I<J<K and the relation of a<b<c<d< e<f<g<h<i<j<k.例文帳に追加

即ち、第１層（下層）はＡ＜Ｂ＜Ｃ＜Ｄ＜Ｅ＜Ｆ＜Ｇ＜Ｈ＜Ｉ＜Ｊ＜Ｋの関係となるように、第２層（上層）はａ＜ｂ＜ｃ＜ｄ＜ｅ＜ｆ＜ｇ＜ｈ＜ｉ＜ｊ＜ｋの関係となるようにそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The power generating apparatus E is covered with an intermediate layer 6 made of synthetic resin, between the upper layer 2 and the lower layer 3.例文帳に追加

前記発電機器Ｅは、上層２と下層３との間で合成樹脂による中間層６により覆われている。 - 特許庁

A protective layer 6 is deposited on the second surface layer 5 so as to cover the entire second surface layer 5 which is exposed (Fig.1(e)).例文帳に追加

露出した第２の表面層５全体を覆うように保護層６を第２の表面層５上に堆積させる（図１（ｅ））。 - 特許庁

The resin particle (A) preferably includes an outer shell layer (E) 0.01-0.2 μm thick formed of a thermoplastic resin (e) and an inner shell (F) formed of a resin (f) which may be the same as or different from the thermoplastic resin (e).例文帳に追加

樹脂粒子（Ａ）は、好ましくは、厚み０．０１〜０．２μｍであり熱可塑性樹脂（ｅ）からなる外殻層（Ｅ）、及び熱可塑性樹脂（ｅ）と同じであっても異なっていてもよい樹脂（ｆ）からなる内殻（Ｆ）からなるものである。 - 特許庁

Transparent electrode layers 11, 12, 13 are formed on the underside of the transparent substrate 10, on which, organic EL layers 14, 15, 16 and a metal electrode layer 17 are laminated to form plane light-emitting element regions E_R, E_G, E_B.例文帳に追加

透明基板１０の下面に透明電極層１１，１２，１３を形成し、その上に有機ＥＬ層１４，１５，１６、金属電極層１７を積層して、面状の発光素子領域Ｅ_Ｒ，Ｅ_Ｇ，Ｅ_Ｂを形成する。 - 特許庁

An E-type polarizing layer is provided between a pair of O-type polarizing layers orthogonal to each other, and the E-type polarizing layer is disposed so that an absorption axis thereof is orthogonal to the slow axis of a liquid crystal layer.例文帳に追加

互いに直交する１対のＯ型偏光層の間にＥ型偏光層を設け、液晶層の遅相軸とＥ型偏光層の吸収軸が互いに直交するように配置する。 - 特許庁

The partitioning parts E, F and G of the front bag layer 11 in a quilt length direction, the partitioning parts E', F' and G' of the rear bag layer 13 in the same direction and the partitioning parts L and M of the middle bag layer 19 in the same direction are different in a quilt thickness direction.例文帳に追加

表袋層１１の布団長さ方向の仕切り部Ｅ、Ｆ、Ｇ及び裏袋層１３の同方向の仕切り部Ｅ´、Ｆ´、Ｇ´と、中袋層１９の同方向の仕切り部Ｌ、Ｍとが布団厚さ方向で食い違っている。 - 特許庁

Is a reflective liquid crystal display device 10, the relation between the refractive index of a resin layer 12 na, the ordinary ray refractive index of a liquid crystal layer no and the extraordinary ray refractive index of the liquid crystal layer ne is expressed as na = ne > no.例文帳に追加

反射型液晶表示装置１０において、樹脂層１２の屈折率ｎ_a と、液晶層の常光屈折率ｎ_0 と、異常光屈折率ｎ_e との関係は、ｎ_a ＝ｎ_e ＞ｎ_0 である。 - 特許庁

The photoelectron (e-) generated in the photoelectric layer 4 is outputted outside the photoelectric cathode 1.例文帳に追加

光電変換層４にて発生した光電子（ｅ^−）は、光電陰極１の外部に出力される。 - 特許庁

A light emitting portion E includes a light emitting layer 23 provided between a common electrode 22 and pixel electrodes 21.例文帳に追加

発光部Ｅは共通電極２２と画素電極２１との間に挟まれた発光層２３を有する。 - 特許庁

Namely, the semiconductor layer 12 is formed only in the light emission region E and a region near it.例文帳に追加

すなわち、半導体層１２は、発光領域Ｅとその近傍の領域のみによって形成されている。 - 特許庁

When the first layer is in a non-recorded state, transmissivity TE is low and I_topE in 12e is low.例文帳に追加

第１層目が未記録状態では透過率Ｔ_E が低く、１２ｅにおけるＩ_topEは低い。 - 特許庁

(e) The insulation film 103 is formed on each carbon black layer 202 by the inkjet system.例文帳に追加

（ｅ）カーボンブラック層２０２の上にインクジェット方式で絶縁膜１０３を形成する。 - 特許庁

The anchor layer (B) is formed from an olefin resin (E).例文帳に追加

さらに、前記アンカー層（Ｂ）がオレフィン系樹脂（Ｅ）であることを特徴とするものである。 - 特許庁

It further includes, preferably, a process of abrading and smoothing the phosphor layer 50 (a process (e)).例文帳に追加

好ましくは、さらに、蛍光体層５０を研磨して平滑化する工程（工程（ｅ））を含む。 - 特許庁

The method also comprises the step of selectively oxidizing the layer 13 in a water vapor in Fig. (e).例文帳に追加

（ｅ）において、ＡｌＡｓ電流狭窄層１３を水蒸気中にて選択的に酸化する。 - 特許庁

A reflection film 3 is then formed on the rugged surface 2d of the resin layer 2 (a reflection film forming process (e)).例文帳に追加

次に、樹脂層２の凹凸面２ｄ上に反射膜３を形成する（反射膜形成工程(ｅ)）。 - 特許庁

Then, in a fourth process (Fig. 2(e)), the pattern of a conductor layer 13 is formed by printing.例文帳に追加

次に，第四の工程（図２（ｅ））として，印刷により導体層１３のパターン形成するする。 - 特許庁

By peeling off the adhesive tape 25, the organic film layer 13 other than the luminescent pattern is removed (E).例文帳に追加

粘着テープ２５を引き剥がすことにより、発光パターン以外の有機膜層１３を除去する（Ｅ）。 - 特許庁

By peeling off the adhesive tape 15, the organic film layer 13 other than the luminescent pattern is removed (E).例文帳に追加

粘着テープ１５を引き剥がすことにより、発光パターン以外の有機膜層１３を除去する（Ｅ）。 - 特許庁

In the pile hole 17, excavating rod 1 is raised up while forming a soil cement layer (e).例文帳に追加

杭穴１７内に、ソイルセメント層を形成しながら掘削ロッド１を引き上げる（ｅ）。 - 特許庁

The via hole 6v and the surface of the insulating layer 6 are cleaned by organic solvent C ((E)step).例文帳に追加

ビアホール６ｖおよび絶縁層６の表面が有機溶剤Ｃで洗浄される（（Ｅ）工程）。 - 特許庁

A foot protection layer 30 filled with cement milk is formed on the pile hole bottom 31 side (e).例文帳に追加

杭穴底３１側にセメントミルクを充填した根固め層３０を形成する（ｅ）。 - 特許庁

The band gap E(15) of the group-III nitride crystal layer 15 is smaller than 4.8 eV (electronvolt).例文帳に追加

III族窒化物結晶層１５のバンドギャップＥ（１５）は４．８エレクトロンボルトより小さい。 - 特許庁

The electric resistance value of the base layer 3 of the fixing roller is also specified to be <1.0 E+06 Ω.例文帳に追加

定着ローラのベース層の電気抵抗値も１．０Ｅ＋０６Ω未満とする。 - 特許庁