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E layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 472



例文

The conductive laminate sheet comprises: layers (I layers) each including a thermoplastic resin (A) and an electric conduction agent (B); and a layer (II layer) including a polystyrene resin (C), a polylactic acid-based resin (D) and an elastomer (E).例文帳に追加

本発明の導電性積層シートは、熱可塑性樹脂(A)及び導電剤(B)を含む層(I層)と、ポリスチレン系樹脂(C)、ポリ乳酸系樹脂(D)、及びエラストマー(E)を含む層(II層)とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A metal portion 5 for filling the inside of the through hole 2 by electroplating with the metal layer 4 as a seed layer is deposited along the thickness direction of the semiconductor substrate 1 (Figure 1(e)).例文帳に追加

金属層4をシード層として電解メッキ法により貫通孔2の内側を埋め込む金属部5を半導体基板1の厚み方向に沿って析出させる(図1(e))。 - 特許庁

A wiring material layer 4a is formed by depositing Cu over the whole surface (e), and the unwanted Cu layer is removed by CMP, RIE, etc., and a Cu wiring 4 is formed (f).例文帳に追加

全面にCuを堆積して配線材料層4aを形成し(e)、CMP、RIE等により不要のCu層を除去してCu配線4を形成する(f)。 - 特許庁

By nano-crystallizing the second polycrystalline silicon layer 4 and forming an insulating film on respective surface of a large number of silicon crystallites of nanometer order, an intense-field drift layer 6 is formed (fig.(e)).例文帳に追加

第2の多結晶シリコン層4をナノ結晶化し、ナノメータオーダの多数のシリコン微結晶それぞれの表面に絶縁膜を形成することによって強電界ドリフト層6を形成する(図1(e))。 - 特許庁

例文

(e) A third group III nitride semiconductor layer 41 emitting light due to the conduction is formed on the second group III nitride semiconductor layer 34, by reducing the temperature of the substrate 31 to a second temperature less than the temperature in the step (d).例文帳に追加

(e)基板31を工程(d)における温度以下の第2の温度にして、第2の3族窒化物半導体層34上に、通電により発光が行われる第3の3族窒化物半導体層41を形成する。 - 特許庁


例文

Expansion particles E expanded at prescribed temperature or above are dispersed and contained in the optional covering layer (intermediate layer 3) on the outer circumference of a core bar 1 in an unexpanded state.例文帳に追加

芯金1の外周の任意の被覆層(中間層3)に、所定の温度以上で膨張する膨張粒体Eが未膨張の状態で分散含有されている。 - 特許庁

The transparent protection film E is provided on only one face of the polarizer P, via an adhesive layer G, and the curing type pressure-sensitive adhesive layer B is provided on the other face of the polarizer P.例文帳に追加

偏光子(P)の片面にのみ透明保護フィルム(E)が接着剤層(G)を介して設けられており、前記偏光子(P)の他の片面には、硬化型粘着剤層(B)が設けられていることを特徴とする粘着型偏光板。 - 特許庁

The first electrodes 11a to g are formed between a first transparent substrate 19 and a resin film 18 (transparent insulating layer) and the second electrodes 12a to e are formed between the resin film 18 and a liquid crystal layer 16.例文帳に追加

第1電極11a〜gは第1透明基板19と樹脂膜18(透明絶縁層)との間に形成され、第2電極12a〜eは樹脂膜18と液晶層16との間に形成される。 - 特許庁

An adhesive layer for joining the lower substrate 22 and an upper substrate enters into a step extending from the surfaces of the lower electrode layers 32, 33 to the surface of the transparent conductive layer 31 located inside the intervals D, E.例文帳に追加

下部基板22と上部基板間を接合するための粘着層は、下部電極層32,33の表面から間隔D,E内に位置する透明導電層31の表面にかけての段差内に入り込んでいる。 - 特許庁

例文

Preferably the inner soft layer 8 has a type E hardness of 45 or less in accordance with JIS K 6253, and preferably the outer hard layer 10 has a type A hardness ranging 30 to 60 in accordance with JIS K 6253.例文帳に追加

内側軟質層8は、JIS K 6253に準拠したタイプE硬度が45以下であることが好ましく、外側硬質層10は、JIS K 6253に準拠したタイプA硬度が30以上60以下であることが好ましい。 - 特許庁

例文

The polycarbonate resin laminate is constituted by forming a cured film layer with a thickness of 1-10 μm comprising a coating composition of (a)-(e) on a primer coating film layer with a thickness of 1-10 μm comprising an acrylic resin.例文帳に追加

アクリル樹脂からなる塗膜厚み1〜10μmのプライマー塗膜層(2)上に下記(イ)〜(ホ)のコーティング組成物からなる塗膜厚み1〜10μmの硬化皮膜層(3)が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The resistance layer 52b of an electrifying roller 52 is divided into a resistance layer R1 of an area facing the electrification area E of a photoreceptor 1, resistance layers R2 and R2 of an area facing the outside F of the electrification area of the photoreceptor 1.例文帳に追加

帯電ローラ52の抵抗層52bを、感光体1の帯電領域Eと対向する領域の抵抗層R1と、感光体1の帯電領域外Fと対向する領域の抵抗層R2・R2とに分ける。 - 特許庁

In particular, the sticking step is conducted by sticking the base layer 104 to the transparent substrate 1000 while pressing the surface of the base layer 104 by moving a pressing region from any one of corners (for example, the corner E) of the transparent substrate 1000.例文帳に追加

特に、貼り付け工程は、透明基板1000のいずれか1つの角(例えば角E)から、押圧領域を移動させながら、下地層104の表面を押圧して貼り付けて行われる。 - 特許庁

A film is formed of the same material as the substrate 110 on the surface of the substrate 110 using the pattern 120a as the mask and a layer 150a and a layer 150b are formed (Fig.2(e)) after removing the pattern 130a (Fig.2(d)).例文帳に追加

パターン130aを剥離した後(図2(d))、パターン120aをマスクとして、基板110の材料と同じ物質を基板110の表面に成膜し、層150a、層150bを形成する(図2(e))。 - 特許庁

In addition, if the side except therefor is formed at a steep slope or at right angles, the layer thickness of a liquid crystal layer 14 can be prevented from becoming unfinished between a thick part E and a thin part F.例文帳に追加

また、それ以外の側面を急な傾斜や直角に形成すれば、液晶層14の層厚が厚い部分Eと薄い部分Fとの間で中途半端になることを抑えることができる。 - 特許庁

Since a non-formation part 44 is provided in a phosphor layer 42 on an inner surface 30, light of a path D or a path E is emitted from the non-formation part 44, and thus, not attenuated by the phosphor layer 42.例文帳に追加

内面30上の蛍光体層42に非形成部分44が設けられていることから、経路Dや経路Eの光は非形成部分44から射出されるので蛍光体層42で減衰させられない。 - 特許庁

Opposing face of the resistor film 2 and the external electrode layer 6 is lacking partially from the insulator film 4 and the lacking portion can serve as a portion for connecting the external electrode layer 6 and the resistor film 2 electrically (i. e. an internal electrode).例文帳に追加

絶縁体膜4は抵抗体膜2と外部電極層6との対向面の一部が欠如され、この欠如部分を外部電極層6と抵抗体膜2が電気的に接続する部分(すなわち内部電極)とすることができる。 - 特許庁

A soil cement column row earth retaining wall A using an H-steel 3 as a core material is created on both sides of a construction site ground B by excavating it in a nonpermeable layer E under the retaining wall beyond a permeable layer D.例文帳に追加

建設地盤Bを挟んで、H形鋼3を芯材とするソイルセメント柱列土留壁Aを、透水層Dを越えてその下の不透水層Eに根入れして造成する。 - 特許庁

An input electrode pattern 7 and an output electrode pattern 8 are formed on the upper face of the insulating layer 18 (Fig. 1 (d)), and in addition, the insulating layer 18 is arranged on the patterns 7 and 8 by covering them (Fig. 1 (e)).例文帳に追加

絶縁層18の上面に入力電極パターン7及び出力電極パターン8を形成し(図1(d))、さらにこれらパターン7,8の上方にこれらを覆って絶縁層18を設ける(図1(e))。 - 特許庁

A soil cement column earth retaining wall A using an H-section 3 as a core by holding a construction ground B between soil cement column strip earth retaining walls is embedded in an impermeable layer E located under a permeable layer D over it to form.例文帳に追加

建設地盤Bを挟んで、H形鋼3を芯材とするソイルセメント柱列土留壁Aを、透水層Dを越えてその下の不透水層Eに根入れして造成する。 - 特許庁

The bamboo blind includes front surface bamboo strip layer X and a rear surface bamboo strip layer Y where cut and thinned bamboo strips 1 having a prescribed wire diameter D are arranged in parallel at an interval E being substantially the same as the wire diameter D.例文帳に追加

所定の線径Dのひご1を、線径Dと略等しい間隔Eをもって平行に配設した表てひご面層Xと裏ひご面層Yとを有する。 - 特許庁

The semiconductor includes a control electrode containing at least a gate dielectric layer SiO on a semiconductor P-channel layer SiGe, wherein the gate dielectric layer SiO has a defect level E_t, which decreases exponentially as function of energy, from the band edges of the adjacent layer (being the semiconductor P-channel layer SiGe, or optionally a capping layer Si) toward the center of the band gap of the layer.例文帳に追加

半導体Pチャネル層SiGeの上の、少なくともゲート誘電体層SiOを含む制御電極とを含む半導体であって、ゲート誘電体層SiOは、隣り合う層(半導体Pチャネル層SiGeまたは任意的にキャップ層Si)のバンドの端部から、この層のバンドギャップの中央に向かって、エネルギの関数として指数関数的に減少する欠陥レベルE_tを有する。 - 特許庁

A decorative panel consists of (A) a transparent gel coat resin cured layer, (B) a design imparting layer, (C) a nonwoven fabric layer, (D) a fiber reinforced resin cured layer, (E) a foam layer and (F) a fiber reinforced resin cured layer having an aluminum foil layer on its rear surface which are formed successively from a surface side.例文帳に追加

本発明は、表面から順に(A)透明ゲルコート樹脂硬化物層、(B)意匠付与層、(C)不織布層、(D)繊維強化樹脂硬化物層、(E)発泡体層、(F)裏面にアルミ箔層を有する繊維強化樹脂硬化物層からなり、裏面がアルミ箔であることを特徴とする化粧パネル及びその製造方法に関する。 - 特許庁

This method for copper metallization of integrated circuit comprises the steps of (A) providing a substrate 1, (B) forming a tantalum layer on the substrate 1, (C) forming a tantalum nitride layer 7 on the tantalum layer 5, (D) forming a titanium nitride layer 9 on the tantalum nitride layer 7, and (E) forming a copper layer 11 on the titanium nitride layer 9.例文帳に追加

本発明の方法は、(A)基板(1)を用意するステップと、(B)前記基板上にタンタル層(7)を形成するステップと、(C)前記タンタル層の上に窒化タンタル層(7)を形成するステップと、(D)前記窒化タンタル層の上に窒化チタン層(9)を形成するステップと、(E)前記窒化チタン層の上に銅層(11)を形成するステップと、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The avalanche photodetector has an emitter light absorption layer 102 between a collector layer C and an emitter layer (top contact layer) E formed on a substrate S wherein two avalanche gain structure layers comprising charge layers 103 and 107, amplification layers 104 and 108 and an electron contact layer 105 are formed between the light absorption layer 102 and the collector layer C.例文帳に追加

アバランシェ光検出器は、基板S上に積層されたコレクター層Cとエミッタ層(トップコンタクト層)E間にエミッタ光吸収層102を備え、光吸収層102とコレクター層C間に電荷層103,107、増幅層104、108及び電子コンタクト層105で構成されたアバランシェ利得構造層が2層設けられている。 - 特許庁

The polyester laminate comprises a polyester layer (C) containing a polyester resin (A) in which 5-80 mol% of all of the diol unit is one with a ring acetal skeleton and at least one layer selected from a resin layer (D) containing a resin other than the polyester resin (A) and a paper layer (E), and at least one surface layer is the polyester layer (C).例文帳に追加

全ジオール単位中の5〜80モル%が環状アセタール骨格を有するジオール単位であるポリエステル樹脂(A)を含むポリエステル層(C)、ならびにポリエステル樹脂(A)以外の樹脂を含む樹脂層(D)および紙層(E)から選ばれた少なくとも一つの層を有するポリエステル積層体であって、少なくとも一方の表層がポリエステル層(C)であるポリエステル積層体。 - 特許庁

The method of forming the polysilicon layer comprises (a) a step of preparing a substrate, (b) a step of forming a barrier layer on the substrate, (c) a step of forming a porous layer on the barrier layer, (d) a step of forming an amorphous silicon layer on the porous layer, and (e) a step of carrying out a laser annealing process.例文帳に追加

ポリシリコン層製造方法は、(a)基板を設けるステップと、(b)基板上にバリア層を形成するステップと、(c)バリア層上に多孔質層を形成するステップと、(d)多孔質層上にアモルファスシリコン層を形成するステップと、(e)レーザアニールプロセスを行うステップと、を備えている。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor includes at least an intermediate layer and a photosensitive layer successively on a conductive support, in which the intermediate layer is formed by using a coating liquid containing an azo compound expressed by general formula (I): A(E)n.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも中間層、感光層、を順に有する電子写真感光体に於いて、該中間層が少なくとも下記一般式(I)で表されるアゾ化合物を含む塗工液を用いて形成された電子写真感光体。 - 特許庁

In the method for producing the laminated structure, the adhesive layer E is held between the layer A and the layer B and is heated/molded.例文帳に追加

また、本発明の積層構造体を製造する方法は、ポリプロピレン樹脂基材層Aと表皮材層Bとの間に、ポリエステル樹脂接着剤Cおよび繊維Dからなる接着層Eを挟み、これを加熱成形することを特徴とするものである。 - 特許庁

The adhesive polarization plate includes the transparent protection film (E) provided on only one surface of the polarizer (P) through an adhesive layer (G) and includes the adhesive layer (B) provided on the other surface of the polarizer (P) through a protection layer (H) having a modulus of elasticity in tension of100 MPa.例文帳に追加

偏光子(P)の片面にのみ透明保護フィルム(E)が接着剤層(G)を介して設けられており、前記偏光子(P)の他の片面には、引張弾性率100MPa以上の保護層(H)を介して粘着剤層(B)が設けられていることを特徴とする粘着型偏光板。 - 特許庁

Since hosts contained in a hole transport layer and a light emitting layer, and a material employed in an electron transport layer have triplet pumping energy higher than that of a light emitting substance, i. e. an organometallic complex, the current efficiency and external quantum efficiency of a light emitting element are enhanced.例文帳に追加

ホール輸送層、発光層に含まれるホスト及び電子輸送層に用いる材料が発光物質である有機金属錯体の三重項励起エネルギーより大きい三重項励起エネルギーを有することで、発光素子の電流効率及び外部量子効率を向上させることができる。 - 特許庁

In the original plate for lithographic printing which has a hydrophilic resin layer on a substrate directly or with a ground layer interlaid, the hydrophilic resin layer comprises (a) a hydrophilic polymer, (b) a crosslinking agent, (c) a hydrophobic polymer, (d) a photothermal conversion material and (e) a water-soluble carbonate.例文帳に追加

支持体上に直接又は下地層を介して親水性樹脂層を有する平版印刷用原版において、該親水性樹脂層が、(a)親水性ポリマー、(b)架橋剤、(c)疎水性ポリマー、(d)光熱変換材および(e)水溶性の炭酸塩を含有することを特徴とする平版印刷用原版。 - 特許庁

On one face of the semiconductor substrate 1, a first metal layer 4a is formed (Figure 1(c)), and with the first metal layer 4a as a seed layer, a first metal portion 5a is deposited by electroplating to the middle in the thickness direction of the semiconductor substrate 1 (Figure 1(d) and (e)).例文帳に追加

半導体基板1の上記一表面側に第1の金属層4aを形成し(図1(c))、第1の金属層4aをシード層として電解メッキ法により第1の金属部5aを半導体基板1の厚み方向の途中まで析出させる(図1(d),(e))。 - 特許庁

The first electrode 52 is formed on the surface of the planarization layer 48 and is connected to a drain electrode of the current source transistor TS via the conduction hole Hb1 which is formed in a side in the planarization layer 48 and the second insulating layer 46, wherein the side is opposite to the light emitting element E side across the current source transistor TS.例文帳に追加

第1電極52は、平坦化層48の面上に形成され、平坦化層48および第2絶縁層46のうち電流源トランジスタTSを挟んで発光素子Eとは反対側に形成された導通孔Hb1を介して電流源トランジスタTSのドレイン電極に接続される。 - 特許庁

Finally, the protective layer 13a is removed from the surface of the liquid crystal layer 12a to which a pattern corresponding to the external shape of the optical element is applied, so that the optical element 20 ((e)) where the liquid crystal layer 12a of specified size is formed on the base material 11 is produced.例文帳に追加

最後に、光学素子の外形に対応するパターンが付与された液晶層12aの表面から保護層13aを除去し、支持基材11上に所定のサイズの液晶層12aが形成された光学素子20(図1(e))を製造する。 - 特許庁

The transfer film as an antireflective transfer film 10 is obtained by depositing a transparent resin layer 4 as a transfer layer 3 or further depositing an adhesive layer 5 on a releasing base film 1 having a specified fine rugged pattern 2A on the release face E.例文帳に追加

反射防止転写フィルム10として、離型面Eに特定の微細凹凸2Aを有する離型性基材フィルム1上に、転写層3として透明樹脂層4、或いは更に接着剤層5を積層した転写フィルムとする。 - 特許庁

After the insulating layer 18 and the gate electrode 20 are formed on the buffer layer 22 (c), (d), by carrying out firing, a minute pore 18a and a pore 20a which became a passage when the buffer layer 22 is dispersed are formed communicating each other (e).例文帳に追加

バッファ層22の上に、絶縁層18およびゲート電極20を形成した後(図6(c)、(d))、焼成することで、バッファ層22が逸散する際の通路となった微細な孔部18aおよび孔部20aが連通して形成される(図6(e))。 - 特許庁

The surface-treated surface is adhered to an unvulcanized rubber layer 6 formed on the side of the inside surface of the tire and composed of the diene type rubber, and the exposed rubber ingredient E and the rubber layer 6 are co-bridged during vulcanization molding of the tire to adhere the air permeation suppressing film F to the rubber layer 6.例文帳に追加

表面処理した面をタイヤ内面側のジエン系ゴムからなる未加硫のゴム層6に貼り合わせ、露出させたゴム成分Eとゴム層6とをタイヤ加硫成形時に共架橋させることで空気透過抑制フィルムFをゴム層6に接着させる。 - 特許庁

The insulating resin film 26 has a first adhesive layer 26a formed by mixing a filler F in the adhesive E, and a second adhesive layer 26b provided on the upper and lower surfaces of the first adhesive layer 26a and substantially comprising only an adhesive.例文帳に追加

絶縁性樹脂膜26は、接着剤EにフィラーFを混入して形成された第1の接着剤層26aと、第1の接着剤層26aの上面および下面の上に設けられた、実質的に接着剤のみからなる第2の接着剤層26bとを有している。 - 特許庁

When the roll for OA equipment is to be recycled, it is heated to the prescribed temperature or above so as to expand the expansion particles E, whereby the intermediate layer 3 is peeled from an elastic layer 2 on its inside together with the surface layer 4 on its outside.例文帳に追加

そして、再生する際には、そのOA機器用ロールを上記所定の温度以上になるよう加熱して、膨張粒体Eを膨張させることにより、中間層3を、その外側の表層4とともに、その内側の弾性層2から剥離する。 - 特許庁

A dye-sensitized solar cell 20 comprises a semiconductor electrode 2 having light transparency and including dye of light sensitization, an electrolyte layer E made of an electrolyte including at least a species of the redox pair, and the counter electrode CE where the semiconductor electrode 2 and the counter electrode CE1 face each other through the electrolyte layer E.例文帳に追加

また、色素増感型太陽電池20は、光増感作用を有する色素を含む光透過性の半導体電極2と、酸化還元対となる化学種を少なくとも含む電解液からなる電解質層Eと、上記対極CE1とを有しており、半導体電極2と対極CEとが電解質Eを介して対向配置された構造を有している。 - 特許庁

The electroluminescent element is characterized by satisfying n_S<n_M<n_E, when it is assumed that the refraction index of the transparent substrate, that of the middle-refraction-index layer, and that of the first electrode layer are n_S, n_M and n_E, respectively.例文帳に追加

本発明は、透明基板上に中間屈折率層、第一電極層、発光層、第二電極層を順次積層したエレクトロルミネッセンス素子であって、前記透明基板の屈折率をn_S、中間屈折率層の屈折率をn_M、第一電極層の屈折率をn_Eとした時、n_S<n_M<n_Eであることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子の提供である。 - 特許庁

The field emission element comprises a cathode electrode C on which numerous CNT emitters E are arranged, an insulation layer I having through holes T through which electrons from the above CNT emitters E pass, and a gate electrode G corresponding to the hole T of the insulation layer I having an elongated gate hole H forming an electric field having different intensity in a first direction and a second direction orthogonal to the CNT emitters E.例文帳に追加

多数のCNTエミッタEがその上面に配列されるカソード電極Cと、前記CNTエミッタEからの電子が通過する貫通孔Tを有する絶縁層Iと、前記絶縁層Iの貫通孔Tに対応するものであって、前記CNTエミッタEに対して第1方向及びこれに直交する第2方向に相異なる強度の電場を形成する細長型のゲートホールHを有するゲート電極Gと、を具備する電界放出素子。 - 特許庁

The oil layer contains vitamin E comprising d-α-tocopherol (natural) and dl-α-tocopherol acetate (synthesized), an olive oil, an olive squalane, γ-orizanol and polysorbate.例文帳に追加

油層は、d−α−トコフェロール(天然)とdl−α−酢酸トコフェロール(合成)とからなるビタミンE、オリーブオイル、オリーブスクワラン、γ−オリザノール、ポリソルベートを含有してなる。 - 特許庁

This two-layer type enamel remover comprises (A) ethyl acetate and/or butyl acetate, (B) acetone, (C) water, (D) a polyhydric alcohol, and (E) an electrolyte.例文帳に追加

(A)酢酸エチル及び/又は酢酸ブチル、(B)アセトン、(C)水、(D)多価アルコール及び(E)電解質とを含有する二層型エナメルリムーバーを提供するものである。 - 特許庁

The aliphatic polyester reflective film has a layer A consisting of a resin composition A containing an aliphatic polyester resin, a particulate filler and a liquid additive (e. g. paraffin process oil or a plasticizer).例文帳に追加

脂肪族ポリエステル系樹脂、微粒状充填剤及び液状添加剤(例えばパラフィン系プロセスオイルや可塑剤)とを含有する樹脂組成物AからなるA層を備えた脂肪族ポリエステル系樹脂反射フィルムを提案する。 - 特許庁

The finish coating layer is formed by a finish coating material component produced by mixing (a) tetraalkoxysilane compound, (b) catalyst, (c) water, (d) solvent, and (e) polymer containing fourth class cation base.例文帳に追加

該上塗層は、(a)テトラアルコキシシラン化合物、(b)触媒、(c)水、(d)溶剤、及び(e)第4級カチオン塩基含有重合体を混合して得られる上塗材組成物によって形成させる。 - 特許庁

An outermost surface of a p-type semiconductor multilayer film reflecting mirror 7 consists of a GaAs layer that grows after doped with Zn by 1.0 E 10 cm^-3 with the use of, for example, DMZn (dimethyl zinc) as a dopant.例文帳に追加

p型半導体多層膜反射鏡7の最表面は、例えばDMZn(ジメチル亜鉛)をドーパントとして用い、Znを1.0E19cm^-3ドープして成長したGaAs層からなっている。 - 特許庁

Then, with the wafer W being turned, pure water E is supplied onto the wafer W to remove the upper layer portion of the resist pattern size shrinking agent off the wafer W.例文帳に追加

その後ウェハWを回転させた状態でウェハWに純水Eを供給して、レジストパターン寸法縮小剤の上層部分をウェハW上から除去する。 - 特許庁

例文

(e) A mold having an aspherical surface-shaped recess 28 can be formed by etching the base board for forming the sacrifice layer again for a predetermined time by liquid phase etching.例文帳に追加

(e)この犠牲層を形成した基板を再度液相エッチングにより予め定めた時間だけエッチングすることにより、非球面状凹部28をもつ成形型が形成できる。 - 特許庁

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