基板材の両面を露光するのに１つの光源を切り替えて使用する方式の従来の両面露光装置では、露光時間が長くなると、機械的動作部の露光準備動作が全て完了しても、一方の露光面に対する露光が終了しないうちは他方の露光面に対する露光を開始することができず、これがロスタイムになってしまう。例文帳に追加

To prevent a loss time from being prolonged so much even though an exposure time is prolonged. - 特許庁

良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure unit able to obtain satisfactorily exposure accuracy and also shorten tact time, and an exposure method using the same. - 特許庁

タイム撮影時の無駄な露光を止めるようにした電子カメラを得る。例文帳に追加

To provide an electronic camera for avoiding useless exposure in the case of time photographing. - 特許庁

即ち、露光ヘッド２１はシート３の変形にリアルタイムで追従する。例文帳に追加

That is, the exposure head 21 can follow deformation of a sheet 3 in real time. - 特許庁

ロスタイムを発生させることなく、露光時間の異なった複数露光を行うことができるＣＭＯＳ固体撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide a CMOS solid-state imaging apparatus capable of performing a plurality of exposures having different exposure times without generating any loss time. - 特許庁

ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a polarizing exposure apparatus that reduces cost and tact time required for rubbing by exposure. - 特許庁

タクトタイムを落とさずに基準となる一層目を高精度に露光することができるステップ式近接露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a step-type proximity exposure device capable of exposing a first layer as a reference with high accuracy without lowering the tact time. - 特許庁

最小露光量を極めて小さくできるシャッターユニットを備え、タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an exposure device that has a shutter unit for minimizing the minimum exposure amount and shortens the cycle time. - 特許庁

一連の基板部分の露光中に測定が行われ、リアルタイムで更新される。例文帳に追加

Measurements are taken during exposure of a series of substrate portions and updated in real time. - 特許庁

画角確認用のリアルタイム画像を露光中に表示し得る撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus capable of displaying a real time image for confirming an image angle during exposure. - 特許庁

露光タイミングを分かり易く且つ、レリーズタイムラグのより短いカメラを提供すること。例文帳に追加

To provide a camera with which exposure timing is easily recognized and whose release time lag is made more shorter. - 特許庁

基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板の搬入出時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device and an exposure method by which exposure of a substrate for transferring an image and conveyance of the substrate onto and from a substrate stage are simultaneously carried out to reduce a cycle time, and influences of vibration caused upon conveying the substrate in and out of the stage on the exposure accuracy are eliminated to perform high accuracy exposure and transfer. - 特許庁

このようにすれば、未露光の基板材の受取りや移送と露光及びその事前処理等の動作位相と、片面露光済みの基板材の移送や露光及びその事前処理等の動作位相とをずらせることができるので、光源が１つでも、露光待ちのロスタイムが生じるのを防止できる。例文帳に追加

Thus, such an operation phase as the receiving, the carrying, the exposing and the previous processing of an unexposed substrate material and that of the substrate material, whose one surface is exposed, can be deviated, so that the loss time for exposure waiting can be prevented from occurring even in the case of only one light source. - 特許庁

比較的安価なフィルムマスクを用いて、マスク交換時間（装置ダウンタイム）の短縮と高精度な露光を簡単な構成で実現することができる露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide exposure apparatus and an exposure method which achieve shorting of a mask replacement time (apparatus down time) and highly accurate exposure by simple constitution by using a comparatively inexpensive film mask. - 特許庁

光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置、露光装置及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, an exposure apparatus and an exposure method, the light irradiation apparatus decreasing the time for replacing a light source part and the time for stopping the apparatus. - 特許庁

該露光装置１は、直交方向で隣り合う被露光領域を露光する各マスクと基板との各ギャップの少なくとも一方をリアルタイムに変化させるギャップ変更手段を備える。例文帳に追加

The exposure device 1 includes a gap change means for changing at least one of each gap between each mask which expose the adjacent exposed regions in an orthogonal direction and the substrate, in real time. - 特許庁

タイムアウトになっていないと判定した場合はフレーム画像３１から露光量が最適となるように露光値を再計算して、露光設定値３３を更新する。例文帳に追加

When it is determined that the elapsed time is not reached, the exposure value is recalculated from the frame image 31 so that the exposure quantity may be optimal and the exposure set value 33 is updated. - 特許庁

基板搬送時の振動等により発生する基板の高さのばらつきをリアルタイムで補正することができ、より高精度な露光を実現する近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a proximity scanning exposure apparatus that can correct, in real time, fluctuation in the height of a substrate caused by vibration or the like during transferring the substrate, and achieve exposure with higher accuracy, and to provide an exposure method by the apparatus. - 特許庁

ワークを搬送しながらマスクとワークのＸ，Ｙ，θ方向のズレをリアルタイムで補正することができ、露光精度を向上することができるマスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask, a proximity scan exposure device, and a proximity scan exposure method capable of correcting deviations in X, Y, and θ directions between the mask and a work-piece in real-time, while carrying the work-piece and also improving accuracy in exposure. - 特許庁

基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner capable of performing exposure transfer precisely by performing the exposure transfer of a substrate and loading the substrate to a substrate stage simultaneously, reducing cycle time, and excluding influence to exposure precision by vibration generated when loading the substrate. - 特許庁

基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of reducing a tact time through simultaneous exposure transfer of a substrate and loading of the substrate to a substrate stage, and achieving precise exposure transfer without influence of vibration caused by loading of the substrate on exposure accuracy. - 特許庁

露光装置を用いて形成されたレジストパターンの検査を高速に行い、露光装置のパラメータの補正をリアルタイムで行うことを可能にすると共に、検査結果をもとに露光装置のパラメータ変動を一義的に判別し、露光装置のパラメータ管理を高精度に行うことを可能にする。例文帳に追加

To conduct testing of a resist pattern formed by an aligner to correct parameters of the aligner on a real-time basis, and to unequivocally discriminate a variance of parameters of the aligner on the basis of the test result to control the parameters of the aligner in high accuracy. - 特許庁

そこで、ウェハの周囲のサブフィールドでは、通常の露光時間（ショットタイム）とし、ウェハの中心付近のサブフィールドのショットタイムを、周囲のサブフィールドのショットタイムより短くなるように変化させる。例文帳に追加

In the subfield on the circumference of the wafer, a normal exposure time (shot time) is set and the shot time of a subfield in the central part of the wafer is varied to become shorter than the shot time of a subfield on the circumference. - 特許庁

低コストで、かつ、ファーストコピータイムを長くすることなく、高性能な自動露光処理（ＡＥ処理）を実施可能な画像処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image processor, with which automatic exposing processing (AE processing) of high performance can be executed at a low cost, without prolonging first copy time. - 特許庁

記録用の露光動作の期間に被写体をリアルタイムで表示しつつ、高画質な記録画像を得ることのできる撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus obtaining a recording image with high image quality while displaying an object in real time for a period of recording exposure operations. - 特許庁

露光装置のデジタル制御システムにおいて、高速にデータ通信が可能で、かつ、ハードリアルタイム性が維持される通信技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a communication technology that allows high-speed data communication and maintains hard real time property, in a digital control system of an exposure apparatus. - 特許庁

ライブビュー状態からの静止画撮影のタイムラグを短縮しながら、露光ムラの低減も行うことができる撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus in which exposure non-uniformity can also be reduced while shortening a time lag of still image photographing from a live view state. - 特許庁

ブレが小さいときに露光許可を行うブレ軽減機能付きカメラにおいて、発生するレリーズタイムラグが短くなるようにすること。例文帳に追加

To shorten a release time lag, as for a camera with a shake reducing function allowing the exposure when a shake is small. - 特許庁

露光品質を低下させることなく、基板のステップ移動を早期に開始して、タクトタイムを短縮する。例文帳に追加

To shorten a tact time by starting stepped movements of a substrate in an early stage without lowering exposure quality. - 特許庁

長秒時露光を行なっている場合に、予測される撮影後画像をほぼリアルタイムでディスプレイに表示する。例文帳に追加

To display a photographed image to be predicted on a display almost in real time when performing a long-second exposure. - 特許庁

ミラー枠の上昇時における露光までのタイムラグを短縮し、ミラー枠の反動衝撃や漏光を防止する。例文帳に追加

To prevent light from being leaked from a mirror frame by shortening the time lag until exposure when the mirror frame ascends. - 特許庁

記録用の露光動作の期間に被写体をリアルタイムで表示しつつ、綺麗な記録画像を得ることのできる撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging device capable of obtaining a beautiful recorded image while displaying an image of an object in real time for a period of exposure operations for recording. - 特許庁

これにより、給排紙する処理、露光する処理およびダークタイムを確保する処理が並列に行えるので、出力間隔を短縮できる。例文帳に追加

As a result, the processing of feeding/discharging paper, giving exposure and securing a dark time can be performed in parallel, enabling the output interval to be shortened. - 特許庁

したがって、長秒時露光を行なっている場合に、ほぼリアルタイムで予測画像を確認できるので、予測画像の精度が高い。例文帳に追加

Then, when performing long second period exposure, the accuracy of a predictive image is high because the predictive image can be confirmed almost in real time. - 特許庁

光源の使用時間に拘わらず、光源から発光される光の照度が常に一定照度となるように制御して、露光転写のタクトタイムを安定化させ、生産性を向上させることができる近接露光装置および近接露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a proximity exposure apparatus and a proximity exposure method, which stabilizes the tact time of exposure transfer and improves productivity by controlling the illuminance of light emitting from a light source to be always at constant illuminance regardless of the use time of the light source. - 特許庁

ユーザの負担を軽減し、消費電力を抑え、いつでもすぐに安定した光量の光を用いて基板の露光をすることができ、かつ該基板の露光工程時における光量のリアルタイムな変化を検出することができる露光装置用光源システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a light source for an exposure apparatus which can reduce a user's burden, suppress power consumption, expose a substrate with a beam having a stable quantity of light at any time immediately, and detect changes in the quantity of light in real time during the exposure of the substrate. - 特許庁

マスク費用の低減を図ると共に、基板一枚当たりのタクトタイムの短縮を図り、高精度な露光を効率的に実現することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of efficiently materializing highly precise exposure, while reducing mask fees and shortening the tact time per sheet of substrate. - 特許庁

本発明は、レチクルチャック面のクリーニングを自動的に行い、露光装置のダウンタイムを低減することが可能な露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an exposure device which can reduce a down time of the exposure device by cleaning a reticle chuck surface automatically. - 特許庁

これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマＵＶランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。例文帳に追加

Thereby, an excimer UV lamp used for dry cleaning in a manufacturing line of a color filter can be inexpensively assembled into a polarizing exposure apparatus, and the tact time for rubbing by exposure can be reduced. - 特許庁

ブレの小さいタイミングを検出して露光開始を行うブレ軽減機能付カメラにおいて、露光開始判定を迅速に行うことができ、発生タイムラグを少なくして、使い勝手を良くすること。例文帳に追加

To rapidly make a decision to start exposure, to reduce a time lag and to improve the operability, as for a camera with a shake reducing function, for detecting a timing when the shake is small, thereafter, starting the exposure. - 特許庁

露光装置３が露光前にラミネート日時情報を読み取り、ラミネート後現在までの経過時間が所定のホールドタイム内にあるか否かを判断する。例文帳に追加

The information on the lamination time is read out before the exposure by an exposure device 3 to determine whether or not an elapsed time from the start of lamination up to the present is within a specified hold time. - 特許庁

タイム動作は通常、リモコン装置１０９からの操作信号によって露光を開始し、リモコン装置１０９からの次の操作信号によって露光を終了する。例文帳に追加

The time operation usually starts the exposure with a control signal from a remote control apparatus 109 and completes the exposure with a succeeding control signal from the remote control apparatus 109. - 特許庁

デジタルマイクロミラー装置を用いた露光装置等に対して、デジタルマイクロミラー装置の温度の変化に対処するための印画紙露光量等の調整を、リアルタイムで自動的に行うことができる手段を提供する。例文帳に追加

To provide a means which is capable of automatically regulating the exposure, etc., of photographic paper in real time in order to deal with a change in the temperature of a digital micromirror device for an exposure device, etc., using the digital micromirror device. - 特許庁

マスクの振動を抑制しつつ、基板とマスクの露光時のギャップを維持したまま基板とマスクを相対移動させる、ラピッドモードを実現して、タクトタイムを短縮することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus that achieves a rapid mode to relatively move a substrate and a mask while suppressing vibration in the mask and keeping a gap between the substrate and the mask during exposure and that can reduce the tact time. - 特許庁