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Batch-to-Batch Uniformityとは 意味・読み方・使い方
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「Batch-to-Batch Uniformity」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 15件
To further improve the uniformity of film formation in a batch, even at low dose quantity.例文帳に追加
特に、低いドーズ量においても、バッチ内の成膜均一性を更に向上させることを課題とする。 - 特許庁
To increase uniformity of a film deposition rate when a plurality of wafers is simultaneously subjected to batch treatment using a film deposition system where film deposition is performed by a supercritical process.例文帳に追加
超臨界プロセスによって成膜を行う成膜装置で、複数のウエハを同時にバッチ処理する際の成膜レートの均一性を高める。 - 特許庁
To prevent the generation of internal voids due to non-uniformity of resin flow rate difference in a sealing step using a batch-forming method.例文帳に追加
一括成形工法での封止工程において、樹脂流動速度差による不均一性により内部ボイドが発生することを防止する。 - 特許庁
To form a film of high quality by improving dispersion in film thickness uniformity in a selective growth process in a batch type processing device.例文帳に追加
バッチ式処理装置における選択成長プロセスでの膜厚均一性のばらつきを改善し、高品質な膜を形成する。 - 特許庁
To improve uniformity in surface treatment of each semiconductor wafer, in surface treatment rate, and in treatment between each semiconductor wafers in a batch treatment apparatus used in a wafer process of the semiconductor device and in a batch treatment method using the apparatus.例文帳に追加
半導体装置のウエハプロセスで使用されるバッチ処理装置とそれを用いたバッチ処理方法において、各半導体ウエハの面内処理の均一性を向上し、面内処理レートの均一性を向上し、併せて各半導体ウエハ間の処理の均一性を向上する。 - 特許庁
To enable a heater element to be partially displaced in a vertical thermal processor capable of processing a semiconductor wafer in a batch, and to enhance uniformity of processing atmosphere with suppression of heat dissipation from the end of the heater element.例文帳に追加
例えば半導体ウエハをバッチで熱処理する縦型熱処理装置においてヒータエレメントを部分的に交換できるようにすること、またヒータエレメントの端子部からの放熱を抑えて処理雰囲気の均熱性を高めること。 - 特許庁
To improve uniformity of a dose even when a beam current of an ion beam has periodic variation during batch type ion implantation processing, and to make uniform characteristics of a semiconductor device manufactured using the same.例文帳に追加
バッチ式イオン注入処理において、イオンビームのビーム電流に周期変動が存在する場合にもドーズ量の均一性を向上させ、それを用いて製造される半導体装置の特性を均一化する。 - 特許庁
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「Batch-to-Batch Uniformity」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 15件
To provide a tire using in a tire member a rubber composition obtained from a rubber master batch containing hydrous silicic acid of a specific structure and having excellent uniformity, the tire being excellent in low heat generation property, wear resistance and workability.例文帳に追加
特定構造の含水ケイ酸を含有する均一性に優れたゴムマスターバッチより得られたゴム組成物をタイヤ部材に用いた低発熱性、耐摩耗性、加工性に優れたタイヤタイヤを提供する。 - 特許庁
To enhance the uniformity of various characteristics, including carrier concentration, of an epi-film deposited on the surface of the same substrate and substrates in the same batch when the epi-film is formed on the substrate by a vapor phase thin film epitaxial growth method.例文帳に追加
気相薄膜成長法により基板上にエピ膜を形成する際、同一基板面上、および同一バッチ内の基板面上間において成膜されるエピ膜中のキャリア濃度を始めとする諸特性の均一性を向上させる。 - 特許庁
To provide a wafer treatment apparatus that can form a film thickness not thinner than a constant thickness while securing the in-plane uniformity of an oxide film formed by using a batch-type semiconductor manufacturing device.例文帳に追加
バッチ式半導体製造装置において形成される酸化膜の面内均一性の確保をしつつ、一定厚さ以上の膜厚を形成することのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor wafer etching method and apparatus which can improve the uniformity of planarity of each semiconductor wafer within one batch, and control fluctuation in amount of etching process for the entire surface of each wafer, in order to enhance nanotopography.例文帳に追加
１バッチ内での各半導体ウェーハの平坦度の均一化が図れ、しかも各ウェーハの面全体のエッチング量のバラつきを抑え、ナノトポグラフィーが高まる半導体ウェーハのエッチング方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
When drying, firing and incinerating the treated object using an external heating type rotary kiln, a plurality of corrugated bellows plates is arranged along a circumference of a holding tube inside a continuous, batch, single cylinder or multi-cylinder type core tube, so as to increase the heat transfer area, to increase the stirring effect, and to enhance the quality uniformity of the treated object.例文帳に追加
外熱式ロータリーキルンを用いて、被処理物を乾燥、焼成、焼却する場合で、連続式、バッチ式、単筒式、多筒式の炉芯管内部に波板形状のジャバラ板を保持管の周囲に複数配置し、伝熱面積を増大させ、攪拌効果を増大させると共に、被処理物の品質の均一性を向上させるよう工夫した外熱式ロータリーキルンを提供する。 - 特許庁
To provide particles for a display medium which can improve the dispersion of coloring pigment into a monomer solution by using a pigment master batch of high concentration for coloring the particles for the display medium and can improve the uniformity of colors and to provide an information display apparatus constituted of using the display medium composing the display medium particles and having excellent information display quality.例文帳に追加
表示媒体用粒子の着色用に高濃度の顔料マスターバッチを用いることにより、モノマー溶液中への着色顔料の分散性を良好にして、色の均一性の良好な表示媒体用粒子および、該表示媒体用粒子により構成される表示媒体を用いて構成した情報表示品質に優れた情報表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide particles for image display media which have excellent electrostatic charging uniformity by making dispersion of a charge controlling agent in a monomer solution excellent by using a charge controlling agent master batch of high concentration for charge control over the particles for the image display medium, and an image display device with superior display image quality which uses them.例文帳に追加
画像表示媒体用粒子の帯電制御用に高濃度の荷電制御剤マスターバッチを用いてモノマー溶液中への荷電制御剤の分散性を良好にして、帯電均一性の良好な画像表示媒体用粒子および、それを用いた表示画像品質に優れた画像表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus for avoiding problems that particles emerge and uniformity within the plane of film thickness is deteriorated as a result that a raw material is left, because substitution of gas within a nozzle becomes insufficient during formation of an ALD film through supply of the raw material gas using the porous nozzle in a batch type film forming apparatus using a furnace body.例文帳に追加
炉体を用いたバッチ式成膜装置で、多孔ノズルを用いて原料ガスを供給するＡＬＤ成膜ではノズル内のガス置換が不十分となり原料が残留する結果、パーティクルの発生や膜厚の面内均一性が悪化する問題を回避する半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
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