MATCHERとは 意味・読み方・使い方

A portion of the RF power is branched to and absorbed by an RF power branch absorption unit 44 halfway on the feed rod 32 or behind a matcher in the matching unit 30 to reduce variation in apparent load impedance viewed from the matcher.例文帳に追加

給電棒３２の途中で、あるいはマッチングユニット３０内の整合器の後段で、ＲＦパワー分岐吸収部４４にＲＦパワーの一部を分岐させ吸収させることより、整合器から見える見掛け上の負荷インピーダンスの変動を低減させる。 - 特許庁

The portable equipment is provided with an image receiver 5 which is detachably mounted on the main body 1 thereof, and the image receiver 5 is provided with an antenna 7, an antenna matcher 11, and a tuner 12 in order from an input side, a noise canceling signal from a noise canceling means 17 is supplied to between the antenna matcher 11 and the tuner 12.例文帳に追加

そしてこの目的を達成するために本発明は、携帯機器の本体１に着脱自在に装着する画像受信器５を設けるとともに、この画像受信器５は、入力側から順にアンテナ７、アンテナ整合器１１、チューナ１２を設け、前記アンテナ整合器１１とチューナ１２との間に、ノイズキャンセル手段１７からのノイズキャンセル信号を供給する構成とした。 - 特許庁

A resistor 35 with a short-circuit switch is inserted and connected halfway on the power supply rod 32 or behind a matcher in the matching unit 30 and then a value of load resistance viewed from the matcher is a value of plasma resistance plus a value of the resistor, so that RF power can be supplied to plasma in a stable region where the power transmission efficiency is high.例文帳に追加

給電棒３２の途中で、あるいはマッチングユニット３０内の整合器の後段で、短絡スイッチ付き抵抗器３５が挿入接続されることにより、整合器から見た負荷抵抗の値はプラズマ抵抗の値に抵抗器の値を加え合わせたものになり、それによってパワー伝送効率の高い安定領域でプラズマにＲＦパワーを供給することができる。 - 特許庁

To provide an impedance matcher capable of supplying power in such a manner that the output power becomes an equiamplitude and an equiphase to a plurality of loads, and a plasma film-forming apparatus.例文帳に追加

複数負荷に対して出力電力が同振幅かつ同位相となる電力供給が可能なインピーダンス整合器及びプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can improve the plasma density in a relatively easy manner without using any high frequency power source circuit which is expensive and requires a space for a matcher.例文帳に追加

高価でマッチャなどのスペースを要する高周波電源回路を用いなくても、比較的容易にプラズマ密度向上を図り得るようにする。 - 特許庁

One embodiment of the invention includes receiving a first layout pattern containing a new layout of an integrated circuit pattern, a pattern matcher 110 processes the layout pattern and designates certain patterns of the integrated circuit pattern that meet design waiver information.例文帳に追加

集積回路パターンの新規のレイアウトを含む最初のレイアウトパターンを受け取り、パターン適合手段110は、レイアウトパターンを処理し、そして、デザイン適用除外情報に適合する集積回路パターンの特定のパターンを指定する。 - 特許庁

To improve stability and reproducibility of a plasma process by stably and smoothly performing a matching operation of a matcher even when RF power fed to plasma is varied over a wide range (in particular, when a lower power range is selected) or when impedance of the plasma varies large.例文帳に追加

プラズマに投入するＲＦパワーを広範囲に変えても（特に低パワー領域を選択したときでも）、あるいはプラズマのインピーダンスが大きく変動しても、整合器のマッチング動作を安定かつスムースに行い、プラズマプロセスの安定性・再現性を向上させる。 - 特許庁

The localization platform 200 includes a resource manager 206, a layout engine 208, a translation memory matcher 210, a download manager 212, a translation memory data service 214, a mechanical translation system 216, a filter 218, a certificate system 220, and a plurality of different data stores.例文帳に追加

ローカライゼーションプラットフォーム２００は、リソースマネージャ２０６、レイアウトエンジン２０８、翻訳メモリマッチャー２１０、ダウンロードマネージャ２１２、翻訳メモリデータサービス２１４、機械翻訳システム２１６、フィルタ２１８、証明書システム２２０および異なる複数のデータストアを含む。 - 特許庁