cglとは 意味・読み方・使い方

The gate of the memory cell transistor MT0 is connected to a cell control line CGL, the drain is connected to a bit line BL0 which is a data reading line, and the source is connected to the drain of the select transistor ST0.例文帳に追加

メモリセルトランジスタＭＴ０のゲートはセル制御線ＣＧＬと接続され、ドレインはデータ読み出し線であるビット線ＢＬ０と接続され、ソースは選択トランジスタＳＴ０のドレインと接続されている。 - 特許庁

To provide an optical switching element capable of suppressing asymmetry of electrical characteristics in a Dual CGL structure and enhancing display characteristics and driving capability and to provide a device using the optical switching element, an optical writing type display medium and a display device.例文帳に追加

Ｄｕａｌ ＣＧＬ構造における電気特性の非対称性を抑制し、表示特性や駆動能力を向上させることが可能な光スイッチング素子、並びに、それを用いたデバイス、光書き込み型表示媒体、及び表示装置を提供すること。 - 特許庁

A charge generating layer(CGL) 3 and a charge transfer layer(CTL) 4 are formed on the undercoat layer (UCL) 2.例文帳に追加

このような感光体は、ＵＣＬとしての陽極酸化皮膜形成工程で、基体に接続する電極の一基体当たりの導電接点数と一基体当たりの電流値との比が０．４個／Ａ以上となる条件で酸化処理して皮膜を形成し、その上にＣＧＬ，ＣＴＬを順次形成することによって得られる。 - 特許庁

When a display medium 1 is initialized, charges to be accumulated on a CGL in application of negative electrode voltage is reduced by performing positive electrode voltage application+reset light irradiation → negative electrode voltage application+reset light non-irradiation so that the decrease in reflectance during continuous repeated driving is reduced.例文帳に追加

表示媒体１の初期化時において、正極電圧印加＋リセット光照射→負極電圧印加＋リセット光非照射とすることで、負極電圧印加時における上ＣＧＬに蓄積される電荷を抑制し、連続繰り返し駆動時の反射率低下を軽減する。 - 特許庁

To provide an optical switching element having a photoconductive layer of a dual CGL structure, in which the upper charge generation layer has optical sensitivity equal to that of the lower charge generation layer even without adding a charge transport material upon formation of charge generation layer when performing lamination formation by using extrinsic charge generation material as a charge generation material.例文帳に追加

デュアルＣＧＬ構造の光導電層を有し、電荷発生材料としてエクストリンシック系電荷発生材料を用い積層形成した場合に、電荷発生層形成時に電荷輸送材料を添加しなくても、上部電荷発生層が下部電荷発生層と同等の光感度を有する光スイッチング素子および光書き込み型表示媒体を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor with which a dip coating method of an overflow system capable surely forming an excellent photosensitive layer free of coating unevenness on a substrate can be performed in the case a wipe-up treatment of a bottom end and a drying process are not carried out after the dip coating of a charge generation layer (CGL) and the photoreceptor.例文帳に追加

電荷発生層（ＣＧＬ）を浸漬塗布した後に、下端の拭き取り処理および乾燥工程を行わない場合において、基体に塗布ムラのない優れた感光層を確実に形成することができるオーバーフロー方式の浸漬塗布ができる電子写真感光体の製造方法及びその感光体を提供すること。 - 特許庁