increase footprintとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor device having an N-type MOS transistor for ESD protection that has a shallow trench separation structure with a sufficient ESD protection function without an increase in the number of steps and a substantial increase in footprint thereof.例文帳に追加

工程の増加や占有面積の大きな増加なく、十分なＥＳＤ保護機能を持たせたシャロートレンチ分離構造を有するＥＳＤ保護用のＮ型のＭＯＳトランジスタを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of minimizing increase in footprint by limiting increase in size of a device in a substrate treatment device where a plurality of treatment chambers for treating substrates are connected to a vacuum transfer chamber.例文帳に追加

真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置において、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制する技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a pump unit in which pump speed can be varied, while avoiding footprint increase and cost increase, and making it hard for the vibration of the motor and transmission device to be transmitted to the pump.例文帳に追加

設置面積の増大やコスト高になることが極力回避されるように、また、原動機や変速装置の振動がポンプに伝わり難いようにしながらポンプの変速が可能となるポンプ装置を実現させて提供する。 - 特許庁

To provide a film forming device to form a film at high throughput and easily deliver a substrate while minimizing the increase in footprint.例文帳に追加

フットプリントの増大を最小限にしつつ、高いスループットで成膜が可能であるとともに、基板の簡易な受け渡しを可能にする成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide substrate treating equipment which can enhance throughput in adhesion processing while suppressing increase in footprint, and can achieve simplification in equipment configuration and cost reduction.例文帳に追加

アドヒージョン処理においてスループットを向上すると共にフットプリントの増大を抑制し、装置構成の簡易化、低コスト化を実現することのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, since the supply line does not require heat insulation, increase in scale of the devices or the peripheral facilities can be prevented, and the footprint can be reduced while reducing the cost of the devices or the peripheral facilities.例文帳に追加

また、供給ラインの断熱が不要となるため、装置や周辺設備の大規模化を防止することができ、プットプリントの低減を図ることができるとともに、装置や周辺設備のコストも抑制することができる。 - 特許庁

To provide a substrate-storing structure capable of being downsized compared to conventional techniques and is capable of suppressing increase in footprint, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

従来に比べて基板収容機構の小型化を図ることができ、フットプリントの増大を抑制することのできる基板収容機構及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus which has enhanced an exhaust conductance of a shielded space structured by a deposition shield plate and has effectively reduced a residual gas while minimizing the complexity of a drive mechanism and the increase of the footprint.例文帳に追加

駆動機構の複雑化やフットプリントの増加を最小限に抑えつつ、防着板によって構成されたシールド空間の排気コンダクタンスを向上し、残留ガスを効果的に減少させた成膜装置を提供する。 - 特許庁