l paとは 意味・読み方・使い方

A thick line L is a searched route from a present position PD to a destination PA and a mark M shows a position of the vehicle.例文帳に追加

太線で示すＬは、現在位置ＰＤから目的地ＰＡについて探索された経路であり、Ｍは車両位置を示すマークである。 - 特許庁

Coordinates Pa of an intersection CP3 which is closest to the intersection CP2 out of intersections between a stereoscopic image 300 to be presented and the straight line L are calculated.例文帳に追加

提示すべき立体画像３００と直線Ｌとの交点のうち、交点ＣＰ２に最も近い交点ＣＰ３の座標Ｐａが算出される。 - 特許庁

Then, the difference of density line width is corrected by changing only the line width of the image of the isolated line pattern Pa, without changing the line width of the image of the L/S pattern Pb.例文帳に追加

そして、Ｌ／ＳパターンＰｂの像の線幅を変化させることなく、孤立線パターンＰａの像の線幅のみを変化させて、疎密線幅差を補正する。 - 特許庁

L-the wall thickness (m) of the nozzle, A-the sectional area (m^2) of the molten metal inflow section of the nozzle, and Δp-the gas pressure drop (Pa) at the wall thickness L of the nozzle.例文帳に追加

但しＱ＝（Ｋ×Δｐ×Ａ）Ｌ、Ｋ−カーボンの気体透過度（ｍ^２／ｓ），Ｌ−ノズルの肉厚（ｍ），Ａ−ノズルの溶湯流入部内壁断面積（ｍ^２）， Δｐ−ノズルの肉厚Ｌにおける気体圧力降下（Ｐａ）である。 - 特許庁

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Ｂにおいて、同一のマスクを用いて同一のＬ／Ｓパターンを形成するとともに、当該Ｌ／Ｓパターンのライン幅ＰＢと、露光装置Ａで形成したＬ／Ｓパターンライン幅ＰＡとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Ｂのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁

Then, the workpiece W is machined while the rotary tool T is moved on a tool travel path L in accordance with the machining program to avoid the workpiece W, so that the machining load becomes lower than the first setting value Pa after the machining load exceeds the first setting value Pa (2) (5).例文帳に追加

そして、加工負荷が第一設定値Ｐａを超えた後に加工負荷が第一設定値Ｐａ以下となるように、被加工物Ｗに対して回転工具Ｔを加工プログラムによる工具移動経路Ｌから回避移動させながら被加工物Ｗを加工する（２）（５）。 - 特許庁

The correction data A of each unit circuit U is supplied in a first period Pa and the correction data G of each unit circuit U is supplied in a second period Pb, to a signal line L.例文帳に追加

信号線Ｌには、第１期間Ｐaにて各単位回路Ｕの補正データＡが供給されるとともに第２期間Ｐbにて各単位回路Ｕの補正データＧが供給される。 - 特許庁

The hollow part of a roller 2 having many holes P is turned to a negative pressure by a pump, etching liquid L remaining on a substrate W is sucked from a porous part Pa, and thus the liquid is drained.例文帳に追加

多孔Ｐを有するローラー２の中空部をポンプによって負圧し、基板Ｗ上に残存したエッチング液Ｌを多孔部分Ｐａから吸引することによって液切りを行う。 - 特許庁