preprocess orとは 意味・読み方・使い方

The polarizer pasting step D can be carried out, prior to or after the annealing step C1, but humidifying step is carried out, when it is arranged in preprocess.例文帳に追加

偏光板の貼付工程Ｄをアニール工程Ｃ１の前工程または後工程に配置することができ、前工程に配置したときは加湿処理を施す。 - 特許庁

To provide a method for fixing a metal on the surface of silicone rubber, in which a preprocess of electroless plating on the surface of the silicone rubber is simplified or electroconductivity is imparted to the surface of the silicone rubber by direct electroplating without performing electroless plating.例文帳に追加

シリコーンゴムの表面への無電解めっきの前工程を簡便とし、あるいは、無電解めっきを介さずに直接電解めっきによりシリコーンゴムの表面への導電性付与を可能とするためのシリコーンゴム表面への金属の固定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process management device and process management method for adaptively and most suitably managing the main process of a process on the basis of the measurement data in the preprocess or after-process of the process when the main process has any relation with the preprocessor after- process.例文帳に追加

プロセスの本工程と前工程又は後工程との間に何らかの関連性がある場合に、前工程又は後工程での計測データに基づいて適応的に本工程を最適に管理する工程管理装置及び工程管理方法を提供する。 - 特許庁

The method may include, as a preprocess of the classifying process, a material to be processed preparing process of preparing the material to be processed such that the content of calcium oxide in the fine fraction obtained in the classifying process becomes 15 mass% or less.例文帳に追加

本発明の方法は、分級工程の前工程として、分級工程で得られる細粒分中の酸化カルシウムの含有率が１５質量％以下となるように、被処理物を調製する被処理物調製工程を含むことができる。 - 特許庁

To provide a substrate cover to protect from soldering, which is freely attachable and detachable and can repeatedly be used enabling flow soldering so that parts, such as a mounted component arranged on a substrate in a preprocess and a land where solder should not be applied, can be protected or shielded from molten solder even when those parts are present on a soldering surface of a substrate.例文帳に追加

基板の半田付け面に、前工程で基板に配設されている実装部品等や、あるいは半田を付着させるべきでないランド等の部分がある場合にも、これらを溶融半田から保護あるいは遮蔽しながら、フロー半田付けを行うことができるとともに、着脱自在で繰り返し使用することができる半田遮蔽用基板カバーを提供する。 - 特許庁

When the antireflection film of silicon nitride films is formed with the surface-wave plasma, an H_2 gas (hydrogen gas) or NH_3 gas (ammonia gas) is used for a preprocess of a film forming process and a plasma process is carried out at a low frequency to promote H_2 passivation, thereby forming the antireflection film with high H_2 passivation effect.例文帳に追加

表面波プラズマによる窒化シリコン膜の反射防止膜の成膜において、成膜処理の前処理としてＨ_２ガス（水素ガス）又はＮＨ_３ガス（アンモニアガス）を用い、低周波数でプラズマ処理を行うことで、Ｈ_２パッシベーションを促進し、Ｈ_２パッシベーション効果の高い反射防止膜を形成する。 - 特許庁