proximity gapとは 意味・読み方・使い方

To provide a proximity exposure device and a proximity exposure method that improve exposure precision by making tilt correction so as to make the gap between a workpiece and a mask uniform.例文帳に追加

ワークとマスクとのギャップを均一化するようにチルト補正して、露光精度を向上する近接露光装置及び近接露光方法。 - 特許庁

To provide a proximity exposure apparatus corresponding to a large substrate, preventing decrease in the pattern resolution even when an exposure gap changes in pattern exposure using the proximity exposure apparatus.例文帳に追加

近接露光装置を用いたパターン露光において、露光ギャップが変動しても、パターン解像度を低下させない大型基板対応の近接露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an exposure device and an exposure method which facilitate an adjustment of a predetermined proximity gap when implementing proximity exposure with a large-sized photomask.例文帳に追加

大型のフォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う際に、所定のプロキシミティギャップの調整が容易な露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a proximity exposing device and a proximity exposure method capable of averaging a gap between a mask and a workpiece by comparatively simple calculation and improving exposure accuracy.例文帳に追加

比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。 - 特許庁

The second gap 22 has an outer peripheral side formation surface 22a located in the proximity of the outermost circumferential surface of the rotor core 16, and an inner peripheral side end part Y located in the proximity of the innermost peripheral surface of the rotor core 16.例文帳に追加

第２空隙２２は、ロータコア１６の最外周面寄りに位置する外周側形成面２２ａを有するとともに、ロータコア１６の最内周面寄りに位置する内周側端部Ｙを有する。 - 特許庁

To realize high throughput by correcting the deformation of a photomask to stain high speed control of the proximity gap.例文帳に追加

フォトマスクの変形を補正してプロキシミティギャップ制御の高速化を図ることにより高スループット化を実現する。 - 特許庁

A second gap 22 is formed in the rotor core 16 apart from the both ends of the first permanent magnet 17 in the proximity of the q axis.例文帳に追加

第１永久磁石１７のｑ軸寄りの両端から離れて第２空隙２２がロータコア１６に形成されている。 - 特許庁

To eliminate effect of waviness and thickness irregularity of a photomask on a mask surface and to keep a uniform proximity gap.例文帳に追加

フォトマスクのうねりと、厚みムラによるマスク面への影響を解消して、プロキシミティギャップを均一に保つ。 - 特許庁