「"予備室"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

真空予備室のベント方法および基板処理装置例文帳に追加

VENT DEVICE FOR VACUUM PRELIMINARY CHAMBER AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE - 特許庁

更に、加熱室１０の入口側には第三予備室８０が設けられ、冷却室３０の出口側には第四予備室９０が設けられる。例文帳に追加

A 3rd preparatory chamber 80 is placed at the inlet side of the heating chamber 10 and a 4th preparatory chamber 90 is placed at the outlet side of the cooling chamber 30. - 特許庁

基板１は搬送トレー２上に載置された状態で、第１の真空予備室４、処理室５および第２の真空予備室１３に搬送される。例文帳に追加

A substrate 1 placed on a transfer tray 2 is transferred to a first vacuum standby chamber 4, a processing chamber 5, and a second vacuum standby chamber 13. - 特許庁

我々はすべての本をひとまとめにして予備室に入れた。例文帳に追加

We gathered all the books together and put them in the spare room. - Tatoeba例文

我々はすべての本をひとまとめにして予備室に入れた。例文帳に追加

We lumped all the books together and put them in the spare room.  - Tanaka Corpus

真空搬送室Ｔ２を中心にして一軸上に成膜室Ｒ、基板予備室Ｌ／Ｈを配置する。例文帳に追加

With a vacuum conveyance chamber T2 as a center, a film-forming chamber R and substrate preliminary chambers L/H are arranged coaxially. - 特許庁

容器内残量物減少の予知方法と、該予知手段を備える予備室付き容器例文帳に追加

METHOD FOR PREDICTING REDUCTION IN REMAINDER IN CONTAINER, AND CONTAINER HAVING SPARE CHAMBER WITH PREDICTING MEANS - 特許庁

組立室２及び予備室３の内部に膨縮自在なエアバッグ装置６が配置されている。例文帳に追加

Inside an assembly room 2 and a spare room 3 a freely shrinkable airbag device 6 is arranged. - 特許庁

真空槽１０が、シールド１３によって、反応室１１と予備室１２とに分けられている。例文帳に追加

In the device, the vacuum chamber 10 is divided by a shield 13 into a reaction chamber 11 and a spare room 12. - 特許庁

予備室２の上部空間に空気を吹き込む空気吹き込みノズル４と、コークス冷却用の循環ガスの一部を予備室の上部空間に吹き込む循環ガス吹き込みノズル１９とを設ける。例文帳に追加

An air blowing nozzle 4 for introducing air to an upper space of a preliminary chamber 2 and a circulation gas blowing nozzle 19 for introducing a part of a circulation gas for cooling coke are disposed. - 特許庁

予備室２１の外壁面２１ｂに結露しない温度で冷却する冷媒管２９を巻き付けて、ウェハＷからの輻射エネルギーにより予備室壁面が温度上昇するのを防止する。例文帳に追加

With an outside wall surface 21b of the preliminary chamber 21 wound with a refrigerant tube 29 for such cooling as no condensation follows, the wall surface of the preliminary chamber is prevented from rising in temperature due to the radiation energy from the wafer W. - 特許庁

スクリーン印刷室１は、真空排気装置６，７、窒素ガス供給装置２３夫々を接続してある入口側予備室２を搬入側に、出口側予備室３を搬出側に連結して構成する。例文帳に追加

The screen printing room 1 has a structure connected on an intake side with an intake supplementary room connected with vacuum supplying units 6, 7 and the nitrogen gas supplying unit 23, and on an outlet side with an outlet supplementary room. - 特許庁

第一予備室６０及び第二予備室７０内には、静電気力を用いた非接触吸引浮上方式の移載装置６５、７５が配置され、これらを用いて、高温のガラス基板１及び成形基板２の移載が行われる。例文帳に追加

Non-contact suction floating transfer devices 65, 75 using electrostatic force are placed in the 1st preparatory chamber 60 and the 2nd preparatory chamber 70 and the hot glass substrate 1 and the forming substrate 2 are transferred by using the transfer devices. - 特許庁

これにより、高圧蒸気などに晒された排出予備室１７は、この微量流入した第２薬液滴１２ａの水分が気化し、排出予備室１７内に行き渡る。例文帳に追加

The water content of the small amount of second liquid medicine droplet 12a flowing in the delivery spare chamber 17, which is exposed to a high pressure steam, is evaporated and spreads inside the delivery spare chamber 17. - 特許庁

炭素素材の連続式製造装置１０は、それぞれ一つずつの予備室１１、予備加熱室１２、加熱分解室１３と、３つの組成分離室１４１、１４２、１４３と、２つの冷却室１５１、１５２と、１つの冷却予備室１６とからなる。例文帳に追加

This continuous carbon raw material production device 10 comprises a preliminary chamber 11, a preliminarily heating chamber 12, a thermally decomposing chamber 13, three component-separating chambers 141, 142, 143, two cooling chambers 151, 152, and a cooling preliminary chamber 16. - 特許庁

乾燥室１２の搬入口１４側には搬送ローラ３２を有する真空予備室２１が隣接し，搬出口１６側には搬送ローラ３３を有する真空予備室２２が隣接している。例文帳に追加

A vacuum additional chamber 21 having a carrying roller 32 is formed adjacent to a carry-in opening 14 side of the drying chamber 12, and a vacuum additional chamber 22 having a carrying roller 33 is formed adjacent to a carry-out opening 16 side thereof. - 特許庁

蒸着室を挟んで両側に予備室を配置して、両予備室を用いてマスク交換を行い、マスクとＥＬ基板間の位置合わせには、ボールプランジャとコンタクトホールとからなる位置合わせ手段を用いる。例文帳に追加

In positioning between the mask and an EL board, a positioning means constructed of a ball plunger and a contact hole is used. - 特許庁

リリーフ弁を用いなくてもベント時の真空予備室の加圧を確実に防止することができ、しかも基板へのパーティクル付着を防止することができる真空予備室のベント方法および基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vent method and a substrate processing device for a vacuum preliminary chamber capable of certainly preventing a pressure application of a vacuum preliminary chamber at the time of venting even if a relief valve is not used and a particle deposition to the substrate. - 特許庁

加熱室１０と成形室２０は、第一予備室６０を介して接続され、成形室２０と冷却室３０は、第二予備室７０を介して接続される。例文帳に追加

The heating chamber 10 is connected to the forming chamber 20 via a 1st preparatory chamber 60 and the forming chamber 20 is connected to the cooling chamber 30 via a 2nd preparatory chamber 70. - 特許庁

基板搬送装置２０は、密閉容器なるロボット室６と、密閉容器なる予備室４とからなり、ロボット室６と予備室４とはゲートバルブ２で繋がっている。例文帳に追加

A substrate transfer device 20 is composed of a robot chamber 6 as a closed vessel and a preparatory chamber as a closed vessel, and the robot chamber 6 and the preparatory chamber 4 are connected together with a gate valve 2. - 特許庁

そして、火炎の半燃焼帯が燃焼予備室の中に、燃焼帯が溶解炉本体の中に収まるようにした。例文帳に追加

A half-combustion zone of flame falls in the combustion spare chamber, and the combustion zone falls in the melting furnace main body. - 特許庁

処理室２４にはゲートバルブ２６が、各真空予備室２８ａ、２８ｂにはゲートバルブ３０が、それぞれ設けられている。例文帳に追加

A gate valve 26 is provided in the processing chamber 24, and gate valves 30 are respectively provided in the vacuum spare rooms 28a, 28b. - 特許庁

この真空処理装置は、固定された処理室２４と、移動可能な二つの真空予備室２８ａ、２８ｂとを備えている。例文帳に追加

The apparatus is equipped with a fixed processing chamber 24 and two movable vacuum spare rooms 28a, 28b. - 特許庁

更に、処理室２４とそれに接近している真空予備室２８ａ、２８ｂとの間で基板２を搬送する基板搬送機構が設けられている。例文帳に追加

Further, there is provided a substrate conveyance mechanism which conveys a substrate 2 between the processing chamber 24 and the vacuum spare rooms 28a, 28b approaching the processing chamber 24. - 特許庁

成形素材９は、下型３１の上に置かれた状態で予備室６から成形室５内に運び込まれ、予熱用ストッカ２上に置かれる。例文帳に追加

A molding material 9 placed on a lower mold 31 is conveyed from a preliminary chamber 6 to the chamber 5 and is placed on the stocker 2. - 特許庁

ロボット室６内には、予備室４から搬送されるマスク７を載置するステージ１２を有する移動可能な真空ロボット５が設けられる。例文帳に追加

A movable vacuum robot 5 provided with a stage 12 on which a mask 7 transferred from the preparatory chamber 4 is placed is installed inside the robot chamber 6. - 特許庁

そして、排出予備室１７内を薬液収納室と同等の無菌性保証水準とすることができる。例文帳に追加

The inside of the delivery spare chamber 17 can become an abacterial assurance level similar to the chemical liquid storage chamber. - 特許庁

また予備室２の上部空間に、投下中のコークスに空気を吹き込む空気吹き込みノズル４を設ける。例文帳に追加

An air blowing nozzle 4 for introducing air to the coke being thrown down is disposed at the upper space of the preliminary chamber. - 特許庁

多段の真空予備室を有するロードロック装置において、隔壁の変形に起因するパーティクルの発生を防止する。例文帳に追加

To prevent particles resulting from deformation of a barrier plate from being produced, in a load lock device having multistage vacuum spare chambers. - 特許庁

処理室と真空予備室の間の開閉ゲートのリークを確認できるリークチェック方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a leak checking method whereby a closing gate between a processing chamber and a preliminary vacuum chamber can be checked for leaks. - 特許庁

装入が終了し装入口の蓋を閉じた後に受けたコークスを開閉装置１７が予備室下部に投下する。例文帳に追加

After charging is completed and the lid of the loading slot is closed, the coke is thrown to the bottom part of the preliminary chamber by the opening and closing apparatus 17. - 特許庁

基板予備室Ｌ／Ｈに２段構成の処理前基板収納スロットＨと処理済み基板収納スロットＬとを設ける。例文帳に追加

In the substrate preliminary chambers L/H, a slot H for accommodating substrates to be treated with a two-stage configuration, and a slot L for accommodating treated substrates are provided. - 特許庁

熱処理室１１の下部に直結して、ボート３１を高速搬出して処理済のウェハＷを冷却する予備室２１を設ける。例文帳に追加

A preliminary chamber 21 where a boat 31 is quickly carried out for cooling a processed wafer W is directly coupled to the lower part of a thermal process chamber 11. - 特許庁

また、チャンバ装置７は、主室８０及び予備室８１のそれぞれが給気装置と排気装置とを備える。例文帳に追加

In the chamber device 7, each of the main chamber 80 and the preliminary chamber 81 is provided with an air supplying device and an air exhausting device. - 特許庁

装入口から予備室の上部空間に装入されたコークスを開閉装置１７がいったん受ける。例文帳に追加

Coke charged from the loading slot to the upper space of the preliminary chamber is once received by the opening and closing apparatus 17. - 特許庁

そして、ベント弁１２の開とほぼ同時にこの３位置切換弁４８を中央位置に切り換えて、真空予備室のベントを行う。例文帳に追加

The three position directional control valve 48 is changed to a center position at approximately the same time of an opening of a vent valve to carry out an vent of the vacuum preliminary chamber. - 特許庁

冷却用ストッカ３上で成形品１０が所定の温度まで冷却された後、成形品１０及び下型３１は予備室６に運び出される。例文帳に追加

After the molding 10 is cooled to a specified temperature on the stocker 3, the molding 10 and the mold 31 are carried to the chamber 6. - 特許庁

予備室４、ロボット室６内での異物のマスク７への付着を抑制する基板搬送装置と方法の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a substrate transfer device and a method, where foreign objects can be restrained from adhering to a mask in a preparatory chamber and a robot chamber. - 特許庁

ロードロック装置５は、隔壁４７によって隔てられた上下２段の真空予備室２７ａ，２７ｂを有している。例文帳に追加

This load lock device 5 has two stage upper and lower vacuum spare chambers 27a, 27b separated by a barrier plate 47. - 特許庁

この発明の低温倉庫１は、室温を外気温度よりも低い温度に設定した保管室２と、予備室３と荷捌き場４とを具え、予備室３は、その室内雰囲気中の湿度の制御が可能な湿度制御手段１２を有することを特徴とする。例文帳に追加

The low-temperature warehouse 1 comprises a storage chamber 2 in which the room temperature is set to be lower than the outside air temperature, and a spare chamber 3 and a cargo-handling place 4, and the spare chamber 3 has a humidity control means 12 capable of controlling the humidity in the atmosphere of the spare chamber. - 特許庁

このイオン注入装置は、注入室１０と大気側との間でウエハ４を出し入れするための真空予備室２０と、真空予備室２０内のウエハ４の表面の電位を非接触で測定する表面電位測定器８０とを備えている。例文帳に追加

The ion implanting device is equipped with a vacuum preliminary chamber 20 to transfer a wafer 4 between the implantation chamber 10 and the atmospheric side and surface potential measuring devices 80 to measure surface potentials of a wafer 4 in the vacuum preliminary chamber 20 without touching it. - 特許庁

予備室２の上部空間に、装入口１５から装入された赤熱コークスをいったん受け、且つ装入が終了して装入口１５の蓋を閉めた後に、いったん受けたコークスを予備室の下部に投下させることが可能な開閉装置１７を設ける。例文帳に追加

An opening and closing apparatus 17 which receives once red-hot coke charged from a loading slot 15 and can throw the once received coke to the lower part of the preliminary chamber after termination of charging and closing the lid of the loading slot 15 is disposed at an upper space of the preliminary chamber 2. - 特許庁

ウエハが搬入搬出される負圧移載室と、負圧移載室に隣接する処理ユニットおよび予備室と、負圧移載室と処理ユニットおよび予備室との間に設置されたゲート弁４０とを具備するクラスタ装置において、ゲート弁４０に状態検出装置６０を設ける。例文帳に追加

In a cluster device including a negative pressure transfer chamber which a wafer is carried into and out of, a processing unit and an auxiliary chamber adjacent to the negative pressure transfer chamber, and a gate valve 40 installed between the negative pressure transfer chamber and the processing unit as well as the auxiliary chamber, the gate valve 40 is provided with a status detector 60. - 特許庁

基板８を処理する処理室１と、該処理室に気密に連設された予備室２と、該予備室に連通すると共に排気手段１３に連通され、少なくとも一部が気密に隔離可能な排気路１５と、該排気路の隔離可能な部分１８に接続された酸素濃度測定手段１４とを具備した。例文帳に追加

The substrate treating equipment comprises a chamber 1 for treating a substrate 8, a spare chamber 2 connected airtightly to the treating chamber, an exhaust path 15 interconnected with the spare chamber and an exhaust means 13 and at least a portion of which can be isolated airtightly, and an oxygen concentration measuring means 14 connected to the isolable portion 18 of the exhaust path. - 特許庁

チャンバ装置７は、ワーク処理を周囲の雰囲気と隔絶した雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容する主室８０と、主室８０に隣接する予備室８１と、主室出入り口１５１を開閉する主室扉１５２と、外部出入り口を開閉する予備室扉１６２とを備える。例文帳に追加

The chamber device 7 comprises a main chamber 80 housing a work processing device in which the work processing needs to be carried out in the atmosphere isolated from the surrounding atmosphere, a preliminary chamber 81 adjacent to the main chamber 80, a main chamber door 152 for opening and closing a main chamber doorway 151, and a preliminary chamber door 162 for opening and closing a doorway to the outside. - 特許庁