「"6次"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

次いで、開口部６内にＮｉ層８を形成する。例文帳に追加

After that, an Ni layer 8 is formed inside the opening 6. - 特許庁

次に、ガス放出管６から気体を入れる。例文帳に追加

The gas is filled thereafter through the discharge pipe 6. - 特許庁

次に、管１をダイス６により縮径加工する。例文帳に追加

The diameter of the tube 1 is then reduced with a die 6. - 特許庁

次いで、開口部６内にＮｉ層８を形成する。例文帳に追加

Then, a Ni layer 8 is formed in the opening 6. - 特許庁

(6) 次の期限の不遵守の場合は，原状回復は排除される。例文帳に追加

(6) Restitution in integrum shall be excluded in the event of failing to comply with the following time limits: - 特許庁

次に、強電界ドリフト層６上に表面電極７を形成する。例文帳に追加

Then, a surface electrode 7 is formed on the strong field drift layer 6. - 特許庁

次に、第１金属層６上に第２金属層１０（Ni）を形成する。例文帳に追加

Next, a second metal layer 10 (Ni) is formed on the first metal layer 6. - 特許庁

次に、第２次アニール工程でシリサイド層を安定させる（ステップ６）。例文帳に追加

Next, the silicide layer is stabilized by a secondary annealing process (step 6). - 特許庁

次に、保護テープ６の表面にレジスト膜８を形成する。例文帳に追加

Then, a resist film 8 is formed on the protective tape 6. - 特許庁

次に、第２ｐクラッド層６の表面に粗面Ｒを形成する。例文帳に追加

Next, a rough surface R is formed on the surface of the second p-clad layer 6. - 特許庁

次に、フィールド酸化膜６に貫通孔１５を形成する。例文帳に追加

Subsequently, a through hole 15 is formed in the field oxide film 6. - 特許庁

次に、ポリシリコン膜３の側面をサイドキャップ膜６で被覆する。例文帳に追加

Then, the side surface of a polysilicon film 3 is coated with a side cap film 6. - 特許庁

次に、これらをワード線６の平面形状にパターニングする。例文帳に追加

These films are patterned into planar shapes of word lines 6. - 特許庁

独立型企業は、3次から6次取引企業よりもさらに規模が小さい。例文帳に追加

Independent enterprises are even smaller than third level to sixth level transaction enterprises. - 経済産業省

神聖ローマの皇帝で、第6次十字軍を指揮して、エルサレムの王についた（1194年−1250年）例文帳に追加

the Holy Roman Emperor who led the Sixth Crusade and crowned himself king of Jerusalem (1194-1250)  - 日本語WordNet

次の学年に進級できない生徒がいます，また全員が６歳で学校を始めるわけではないのです。例文帳に追加

Some students fail to advance to the next grade and not everyone starts school at age 6.  - 浜島書店 Catch a Wave

次に、第１の窒化ガリウム層６の表面にｐ型の第２の窒化ガリウム層８を形成する。例文帳に追加

A p-type second nitride gallium layer 8 is formed on the surface of the first nitride gallium layer 6. - 特許庁

次に、光検出半導体素子２およびアンダーフィル３４を樹脂６によって封止する。例文帳に追加

Next, the photodetection semiconductor element 2 and the underfil 34 are sealed by resin 6. - 特許庁

次に、細線２を除去して、２つの電極５および６間に間隙部７を形成する。例文帳に追加

Then, the thin wire 2 is removed, and a gap 7 is formed between the electrodes 5 and 6. - 特許庁

次に無電解めっき浴を用いて、絶縁層５，６全体に下地めっき層を形成する。例文帳に追加

Next, using an electroless plating bath solution, a lower plated layer is formed on the insulation layers 5, 6. - 特許庁

次に、光学マスク６を介して紫外線７を透明基板５上に照射する。例文帳に追加

The transparent substrate 5 is then irradiated thereon with the UV rays 7 via the optical mask 6. - 特許庁

次にエネルギー発生素子基板１を上空で位置決めし基準プレート６の上に乗せる。例文帳に追加

The energy generating element substrate 1 is positioned above the reference plate 6 and then placed on the reference plate 6. - 特許庁

次いで、基板１上に、溝部６を塞ぎながらＹ方向に延在する成形体２ｂを形成する。例文帳に追加

Next, the molded bodies 2b extending in a Y direction are formed on the substrate 1 while clogging up the grooves 6. - 特許庁

次に、ベース拡散層６上における絶縁膜８に、エミッタ形成用コンタクトホール９を設ける。例文帳に追加

An emitter forming contact hole 9 is formed in the insulating film 8, on a base diffused layer 6. - 特許庁

次に、圧力ポンプ８を作動させ、噴射パイプ６内部に約５気圧の噴射圧を発生させる。例文帳に追加

Subsequently, a pressurizing pump 8 is operated to generate a jetting pressure of about 5 atm in the interior of a jetting pipe 6. - 特許庁

次に、分離酸化膜６間の基板１上にシリコン酸化膜７を形成する。例文帳に追加

Next, a silicon oxide 7 is formed on the substrate 1 between the separation oxide films 6. - 特許庁

次に、形成されたポリマーシート６の表面に液状の接触媒質３を塗布する。例文帳に追加

Then, the liquid contact medium 3 is applied on a surface of the formed polymer sheet 6. - 特許庁

次に、太陽電池セル６を覆うようにＥＶＡ樹脂からなる裏面側シート８が載置される。例文帳に追加

Then, a backside sheet 8 made of EVA resin is placed to cover the solar cells 6. - 特許庁

次いで、エッチングストップ層６上に接するように、ｐ型クラッド層７を形成する。例文帳に追加

Subsequently, a p-type clad layer 7 is formed on the etching stop layer 6 so as to contact the etching stop layer 6. - 特許庁

次に、保護樹脂膜６を除去し、ビアホール７内及び密着材６上に配線を形成する。例文帳に追加

Next, the protecting resin film 6 is removed and wiring is formed within the via hole 7 and on the close contact material 6. - 特許庁

次に、インストール用ソフトをカード発行会社６のデータベースに格納する。例文帳に追加

Next, the software for installation is stored in a data base of a card issuing company 6. - 特許庁

次いで、光導波路素子アセンブリ５を基準盤６に接着層６を介して固定する。例文帳に追加

Then the optical waveguide element assembly 5 is fixed to a reference board 6 across an adhesive layer 6. - 特許庁

次に、ｎ^＋型埋込み層６の孔Ｈ１に露出する面７に、不規則な凹凸２２を形成する。例文帳に追加

An irregular part 22 is then formed on a surface 7 exposed to the hole H1 of an n^+ embedded layer 6. - 特許庁

次に、工程５において再調合した触媒インクを再分散する（工程６）。例文帳に追加

After that, the catalyst ink re-prepared in the process 5 is dispersed again (process 6). - 特許庁

次いで、これらの被覆電線５、６上から蓋部１に固定したホルダ４を押し当てる。例文帳に追加

Then, the holder 4 fixed to a lid 2 is depressed on these covered wires 5, 6. - 特許庁

次に、絶縁膜６に形成された配線溝８および接続孔１４に金属を埋め込む。例文帳に追加

Then, a metal is embedded in the wiring groove 8 and the connection opening 14 which are formed in the insulating film 6. - 特許庁

次に、原盤６の凹凸パターンの上にスピンコート法などにより有機層７を形成する。例文帳に追加

An organic layer 7 is formed by a spin coat method on the projecting and recessing pattern of the master 6. - 特許庁

第２の条件式は6次拡大体Fq^6の元がT2r(Fq)の元であるという第２の性質に基づく。例文帳に追加

The second conditional expression is based on a second property that the elements of the sixth degree extension field Fq^6 are the elements of T2r(Fq). - 特許庁

次に、情報の入力が完了すると、それらの情報をコメント文生成部６へ伝える。例文帳に追加

When the information input is completed, the information is sent to a comment sentence generation part 6. - 特許庁

次いで、箸先部４に、第２塗布材を塗布して、第２塗布層６を形成する。例文帳に追加

Then, the tip part 4 is coated with a second coating material to form a second coating layer 6. - 特許庁

次に、突起部６の先端の露出領域上に細線部７をエピタキシャル成長させる。例文帳に追加

Then a thin wire part 7 is epitaxially grown on the exposed region of the point of the projection part 6. - 特許庁

次にサッシ枠６との間の目地１１にガスケット１６を押込み装着する。例文帳に追加

Subsequently, the gasket 16 is mounted by being pushed into the joint 11 between external facing material and the sash frame 6. - 特許庁

一方、6次企業までに含まれない独立型企業は、約6万社存在する。例文帳に追加

At the same time, there are approximately 60,000 independent enterprises, which are not included among the first level to sixth level transaction enterprises. - 経済産業省

2次取引企業、3～6次取引企業数も、B社を起点とするグループの方が多い。例文帳に追加

Furthermore, the group originating from company B has a higher number of second level transaction enterprises and third level to sixth level transaction enterprises. - 経済産業省

6次産業化の強みを活かして復興支援に取り組む農業生産法人例文帳に追加

An agricultural production corporation supporting recovery with the strengths of becoming a sixth sector company  - 経済産業省