「"rectangular pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, the signal waveform of each rectangular pattern 1a is measured, the number of the rectangle patterns that can obtain normal waveforms is compared with the minimum number of predetermined required marks, and abnormal measurement results are excluded, thus calculating the amount of deviation in alignment.例文帳に追加

そして、各々の矩形パターン１ａの信号波形を計測し、正常な波形が得られる矩形パターンの数と予め定めた最小必要マーク数とを比較し、異常な計測結果を除外することにより、アライメントの位置ずれ量を算出する。 - 特許庁

The regions 14a and 14b have a long rectangular pattern opening 16 formed substantially at the center, and 39 small opening positional deviation measuring marks 18 disposed in a lattice shape at equal intervals in the lateral an longitudinal directions around the pattern opening 16.例文帳に追加

単位走査領域１４ａ及び１４ｂは、ほぼ中央に形成された縦長の長方形のパターン開口１６と、パターン開口１６の周りに縦横等間隔の格子状に配置された３９個の小開口の位置ずれ測定マーク１８とを備えている。 - 特許庁

When performing toner density detecting processing, a printer controller designates to make length Lp of a rectangular pattern in the Y-axis direction attain Lp<2L by using an interval L between a light spot by detecting light and a light spot by flare light nearest to the light spot.例文帳に追加

プリンタ制御装置は、トナー濃度検出処理を行う際に、矩形パターンのＹ軸方向に関する長さＬｐを、検出用光による光スポットと該光スポットに最も近いフレア光による光スポットとの間隔Ｌを用いて、Ｌｐ＜２Ｌとなるように指示する。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with a growth action force of film boiling bubbles produced instantaneously to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns such that the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.例文帳に追加

基板上において、瞬時に発生させた膜沸騰気泡の成長作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a rectangular pattern in the production of a semiconductor device and ensures low edge roughness of a line pattern and a small dimensional shift in the transfer of a pattern to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物をを提供すること。 - 特許庁

This invention concretely provides the method for forming the semiconductor structure including a plurality of fin FET devices, and provides a method for using a mask getting across it together with a chemical oxide removing (COR) process when a rectangular pattern is formed to demarcate a relatively fine fin.例文帳に追加

具体的には本発明は、複数のフィンＦＥＴデバイスを含む半導体構造を形成する方法であって、長方形のパターンを形成して相対的に細いフィンを画定する際に、これを横切るマスクを、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスとともに使用する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has greatly excellent exposure latitude, can form an excellent rectangular pattern shape, and has less elution to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After the patterns have been read, the range of pattern recording is cut out based on an X-direction end position of a rectangular pattern forming the line 206A of patterns, and nozzles that are not in the state of discharging are detected and specified according to the number of patterns 202 in the range cut out and to the positions of unrecorded patterns 202.例文帳に追加

これらのパターンを読み取った後、パターン列206Aを構成する矩形状パターンにおけるＸ方向端部位置を基準としてパターン記録範囲を切り出し、切り出した範囲内におけるパターン202の数及び未記録のパターン202の位置により、不吐出状態のノズルの検出・特定を行う。 - 特許庁

A geometrical shift at the time of overlapping the images of the rectangular pattern 50 viewed when moving the eyeglass lenses 10 by a first horizontal angle to right and left with a head in a range without moving a sight line from the geometrical center 55 so that the geometrical centers 55 of the images coincide with each other, is obtained as shake indices IDd and IDs.例文帳に追加

視線が幾何学的中心５５から動かない範囲で頭部とともに眼鏡用レンズ１０を第１の水平角度だけ左右に動かしたときに見える矩形模様５０の画像を幾何学的中心５５が一致するように重ね合わせた際の幾何学的なずれをゆれ指標ＩＤｄおよびＩＤｓとして求める。 - 特許庁

A rectangular pattern 50 with a central perpendicular grid line 51 passing through the geometrical center 55 thereof, right and left perpendicular grid lines 52, a central horizontal grid line 53 and top and bottom horizontal grid lines 54 is provided so that the geometrical center 55 coincides with a gaze point through eyeglass lenses 10.例文帳に追加

矩形模様５０であって、その幾何学的中心５５を通る中心の垂直格子線５１および左右の垂直格子線５２と、中心の水平格子線５３および上下の水平格子線５４とを備えた矩形模様５０を、眼鏡用レンズ１０を通して、幾何学的中心５５が注視点に一致するように設ける。 - 特許庁

To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To accurately cut out a character pattern at high speed even from a character image from which character cutout is difficult to reduce wrongly read characters by registering a character rectangular pattern not connected with the other character rectangle as dictionary data, and cutting out a character rectangle matched with the dictionary data without connection with the other character rectangle.例文帳に追加

他の文字矩形と結合しない文字矩形パターンを辞書データとして登録し、該辞書データとマッチングした文字矩形を他の文字矩形と結合させずに文字切出を行うようにして、文字切出の困難な文字画像からでも正確でかつ高速に文字パターンを切り出すことができ、誤読文字を低減させることができるようにする。 - 特許庁

To obtain a polymerizable composition for color filter, which suppresses illuminance dependency upon forming a color pattern even when exposure machines having different illuminance values are used, achieves excellent curability of a formed color pattern, and forms a rectangular pattern with superior resolution, to provide a color filter having high color separation property, and to provide a solid-state imaging device having high resolution.例文帳に追加

着色パターンを形成するに際して、照度の異なる露光機を用いても照度依存性を抑制することができ、形成された着色パターンの硬化性に優れ、解像度の優れた矩形のパターンを得ることができるカラーフィルタ用の重合性組成物を得ることであり、色分離性が良好なカラーフィルタ、および高解像度の固体撮像素子を得る。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a polymerizable composition for a color filter which can suppress illuminance dependence upon forming a colored pattern even when exposure apparatus having different levels of illuminance are used, which exhibits superior curing property of a formed colored pattern, and which can give a rectangular pattern with superior resolution, and to provide a color filter showing good color separation and a solid-state image sensor having high resolution.例文帳に追加

着色パターンを形成するに際して、照度の異なる露光機を用いても照度依存性を抑制することができ、形成された着色パターンの硬化性に優れ、解像度の優れた矩形のパターンを得ることができるカラーフィルタ用の重合性組成物を得ることであり、色分離性が良好なカラーフィルタ、及び高解像度の固体撮像素子を得る。 - 特許庁

The image output device is provided with a pattern acquisition means for acquiring rectangular patterns specified by a parameter, a means for drawing the specified rectangular patterns within a range of a specified graphic so that they are paved like tiles, a means for caching the once specified rectangular patterns and a pattern retrieving means for retrieving whether or not the rectangular pattern corresponding to an optional parameter exists in a cache.例文帳に追加

本発明の画像出力装置は、パラメータにより指定された矩形パターンを取得するパターン取得手段と、指定された図形の範囲内を指定された矩形パターンをタイル状に敷き詰めるように描画する手段と、一度指定された矩形パターンをキャッシュする手段と、任意のパラメータに対応した矩形パターンがキャッシュ内に存在するかを検索するパターン検索手段とを有する。 - 特許庁