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「スピンナ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > スピンナの意味・解説 > スピンナに関連した英語例文

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スピンナを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 93



例文

スピンナ装置例文帳に追加

SPINNER DEVICE - 特許庁

スピンナ−装置例文帳に追加

SPINNER DEVICE - 特許庁

スピンナー洗浄装置例文帳に追加

SPINNER CLEANING DEVICE - 特許庁

スピンナー塗布装置例文帳に追加

SPINNER COATING DEVICE - 特許庁

例文

模型飛行機のスピンナ例文帳に追加

SPINNER FOR MODEL AIRPLANE - 特許庁


例文

スピンナ用モータ構造例文帳に追加

STRUCTURE OF MOTOR FOR SPINNER - 特許庁

スピンナ洗浄装置例文帳に追加

SPINNER CLEANING DEVICE - 特許庁

スピンナ式洗浄方法およびスピンナ式洗浄装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR SPINNER TYPE WASHING - 特許庁

スピンナ洗浄装置及びスピンナ洗浄方法例文帳に追加

SPINNER CLEANING DEVICE AND SPINNER CLEANING METHOD - 特許庁

例文

タイヤ成形用スピンナー装置例文帳に追加

SPINNER DEVICE FOR FORMING TIRE - 特許庁

例文

大口径スピンナー付き流体車例文帳に追加

FLUID VEHICLE WITH LARGE-DIAMETER SPINNER - 特許庁

プロペラ用スピンナの取付け構造例文帳に追加

MOUNTING STRUCTURE OF PROPELLER SPINNER - 特許庁

回転中の事故を防ぐスピンナ洗浄装置及びスピンナ洗浄方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a spinner cleaning device and a spinner cleaning method in which troubles are prevented during rotation. - 特許庁

スピンナー洗浄装置及びダイシング装置例文帳に追加

SPINNER CLEANING DEVICE AND DICING DEVICE - 特許庁

スピンナ洗浄装置および加工装置例文帳に追加

SPINNER CLEANING DEVICE AND WORKING DEVICE - 特許庁

スピンナーホィール及びロックウールの製造方法例文帳に追加

SPINNER WHEEL AND METHOD FOR PRODUCING ROCK WOOL - 特許庁

電動ラジコン模型飛行機用スピンナーユニット例文帳に追加

SPINNER UNIT FOR ELECTRIC RADIO CONTROL MODEL PLANE - 特許庁

スピンコート装置におけるスピンナーヘッド例文帳に追加

SPINNER HEAD IN SPIN COAT APPARATUS - 特許庁

スピンナー4は、その前面に渦巻翼6を有する。例文帳に追加

The spinner 4 has a spiral vane 6 on its front face. - 特許庁

スピンナー洗浄装置及びダイシング装置例文帳に追加

SPINNER CLEANER AND DICING DEVICE - 特許庁

塗布装置1は、スピンナー4とインナーカップ3とを備える。例文帳に追加

The coating device 1 is equipped with a spinner 4 and an inner cup 3. - 特許庁

モータハンググライダーのような小型エンジンを用いたプロペラ機におけるスピンナの取付け構造において、スピンナの取付けネジの緩み防止を達成するようにしたプロペラ用スピンナの取付け構造を提供する。例文帳に追加

To attain the prevention of loosening of a spinner mounting screw in a mounting structure of propeller spinner for a conventional A/C using a small engine as motor hang glider. - 特許庁

このスピンナーチャック12は昇降自在とされたスピンナー軸13の上端部に基板Wを吸引するチャック14が取り付けられ、スピンナー軸13が最下位まで下がった状態でチャック14上面と凹部11の底面とが面一になるように設定されている。例文帳に追加

In this spinner chuck 12, a chuck 14 for sucking the substrate W is arranged at an upper end part of a spinner shaft 13 which can freely rise and fall, wherein the upper side of the chuck 14 and the bottom side of the recessed part 11 are adjusted to form a single face in the state after the spinner shaft 13 falls to the lowest level. - 特許庁

ワーク載置面であるスピンナーテーブル41のスピンナー吸着盤42の上面よりも、フレームFの載置面であるスピンナーフレーム受44のフレーム受面44Aを低い位置に形成し、フレームFを下方に押し付けながらダイシングシートSのたるみをなくしてワークを吸着する。例文帳に追加

A frame receiving surface 44A of a spinner frame holder 44 for mounting a frame F is formed, at a lower position than the upside of a spinner vacuum board 42 of a spinner table 41 for mounting a work, so as to vacuum chuck the work with the frame F sufficiently depressed to take in the slack of a dicing sheet S. - 特許庁

各ローラ22,25,28及びスピンナ24は両装置群20で互いに独立して回転されている。例文帳に追加

The respective rollers 22, 25 and 28 and spinner 24 are mutually independently rotated in both the apparatus groups 20. - 特許庁

本発明は基板に塗布膜を高精度に均一に形成するスピンナー塗布装置を提供する。例文帳に追加

To provide a spinner device capable of evenly forming a coating film on a substrate at high accuracy. - 特許庁

被加工物搬送装置,スピンナー洗浄装置,研削装置,被加工物搬送方法例文帳に追加

WORKPIECE-CONVEYING EQUIPMENT, SPINNER-CLEANING EQUIPMENT, GRINDER, WORKPIECE-CONVEYING METHOD - 特許庁

そのロータ13にて調量された薬剤は散布するスピンナーで散布される。例文帳に追加

The medicine of which amount is adjusted by the rotor 13 is sprayed by a spinner for spraying. - 特許庁

このゾル液をSiウェハにスピンナー法(500rpm/5秒→2000rpm/30秒)により均一に塗布してゲル膜を得る。例文帳に追加

Then a gel film is obtained, by uniformly applying the hafnia sol solution to the surface of an Si wafer by the spinner method (500 rpm/5 seconds to 2,000 rpm/30 seconds). - 特許庁

スピンナー洗浄後の半導体チップに静電気不良(静電気痕)が生じないようなスピンナー洗浄部を備えたダイシング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a dicing apparatus equipped with a spinner cleaning section for preventing occurrence of incomplete static electricity (electrostatic flaw) in a semiconductor chip after cleaning a spinner. - 特許庁

その凹部に半導体基板(ウェハ)31を設置し、スピンナー用治具をスピンナーの回転板21に真空排気管25を介して真空吸引させる。例文帳に追加

A semiconductor substrate (wafer) 31 is placed in its recess and the jig for spinner is vacuum-sucked to the rotating plate 21 of a spinner through a vacuum exhaust tube 25. - 特許庁

本発明の現像装置が備えるスピンナチャック部101は、スピンナチャック部101外周に沿い、半導体基板裏面2bと当接する細長い4つの貫通孔102が設けられている。例文帳に追加

In a spinner chuck section 101 provided in a development apparatus, four slender through holes 102 that are brought into contact with a semiconductor substrate back 2b are provided along the outer periphery of the spinner chuck section 101. - 特許庁

この後、回収アーム80を旋回させて、ウエーハ1を搬送先であるスピンナ式洗浄装置に搬送し、スピンナ式洗浄装置内でウエーハ1の表面に形成された保護膜8を洗浄除去する。例文帳に追加

After that, a recovering arm 80 turns around to carry the wafer 1 to a spinner type cleaning apparatus as a carrying destination, and the protective film 8 formed on the surface of the wafer 1 is removed by cleaning in the spinner type cleaning apparatus. - 特許庁

高粘度の液状樹脂を用いて比較的低回転速度でスピン塗布した場合でも、均一な膜厚の液状樹脂の塗布面が得られるスピンナー及びスピン塗布方法を及びこれに必要なスピンナー用治具を提供する。例文帳に追加

To provide a spinner, a spin coating method and a jig for spinner in which a liquid resin coating plane of uniform film thickness can be obtained even when spin coating is performed at a relatively low rotational speed using a high viscosity liquid resin. - 特許庁

洗浄装置は、ウエーハの洗浄及びスピン乾燥後にスピンナテーブルへの搬入時と同一位置にスピンナテーブルを停止させた後、搬出手段でウエーハを次工程へ搬出する。例文帳に追加

The cleaning device stops the spinner table at the same position as a position for conveyance to the spinner table after cleaning and spin-drying the wafer, and then carries the wafer out to the next process by a carrying-out means. - 特許庁

その状態で、スピンナー1を低速回転して接着剤を複合基板の周辺部近傍にまで行き渡らせる。例文帳に追加

The adhesive is extended to the vicinity to the peripheral part of the composite substrate by rotating the spinner 1 at a low speed. - 特許庁

スピンナー洗浄部20は、ターンテーブル22、ターンテーブルを回転させる回転軸24及び洗浄液ノズル管を備える。例文帳に追加

A spinner cleaning section 20 comprises a turntable 22, a rotary shaft 24 for turning the turntable, and a cleaning liquid nozzle tube. - 特許庁

基板に対してレジストが塗布されると、スピンナにおいてレジスト膜の膜厚が測定される(ステップS104)。例文帳に追加

When the resist is applied to the substrate, the spinner measures the thickness of the formed resist film (step S104). - 特許庁

その後、スピンナー1を高速回転して遠心力により第1と第2の基板の間から余分な接着剤を除去する。例文帳に追加

The surplus adhesive is then removed from the gap between the primary and secondary substrates by rotating the spinner 1 at a high speed to generate centrifugal force. - 特許庁

スピンナテーブル30における搬送機構10の吸着パッド13に対応する複数箇所に振り子体50を配設する。例文帳に追加

A pendulum body 50 is provided, arranged at a plurality of places corresponding to a suction pad 13 of a transfer mechanism 10 in a spinner table 30. - 特許庁

スピンナ方式の小型・簡易化を実現し、処理効率を向上させ、被処理基板から周囲への液滴の飛散を抑制すること。例文帳に追加

To enhance treatment efficiency while controlling the scattering of liquid drops from a substrate being treated to the surroundings by downsizing and simplifying a spinner system. - 特許庁

スピンナーの締め付けの程度を目視で把握しやすくすることで、より確実な羽根の取り付け・固定ができる換気扇を得ること。例文帳に追加

To provide a ventilation fan capable of more reliably mounting and fixing a blade, by making it easy to visually recognize how much a spinner is clamped. - 特許庁

2枚の板材を貼り合わせる接着剤の液体が上面に回り込まないように工夫したスピンナーを提供する。例文帳に追加

To provide a spinner devised so that an adhesive liquid for sticking two sheet of plate materials together may not be moved round to the upper face. - 特許庁

該操作棒は、前記スピンナーローター側に設けられた被嵌合部と嵌合可能な嵌合部を備えている。例文帳に追加

The operating rod is equipped with an interfitting part capable of interfitting with a part to be interfitted formed on the spinner rotor side. - 特許庁

スピンナーローターを着脱自在に保持できる操作棒を用いて前記NMR試料管の出し入れを行なうようにした。例文帳に追加

The NMR sample tube is put in and out by using an operating rod capable of holding detachably a spinner rotor. - 特許庁

次に、溝を形成したウエハ1の素子面に、スピンナーを用いて、第1樹脂層2になる液状樹脂を塗布し、前記溝を埋める。例文帳に追加

Next, a liquid-like resin of a first resin layer 2 is applied to fill the trenches by using a spinner on the element face of the wafer 1 forming the trenches. - 特許庁

配向能を有するガラス基板11上に、コレステリック液晶溶液をスピンナー等を用いて塗布し、塗布膜13を形成する。例文帳に追加

A coated film 13 is formed by applying a cholesteric liquid crystal solution on a glass substrate 11 having an aligning property by using a spinner or the like. - 特許庁

スピンナー機構は前記マスクを真空吸着する機構を有し、前記ディスク体およびマスクがスピンナー機構に設置されている状態において前記マスクを真空吸着する機構のマスクを吸着する空間は前記マスクの貫通穴を通じて外部の大気に連通している。例文帳に追加

The spinner structure has a structure for evacuating and attracting the mask and a space, where the mask is attracted by the structure for evacuating and attracting the mask in a state that the disk body and the mask are mounted in the spinner structure, is communicated to the atmosphere of outside through the through holes of the mask. - 特許庁

4つの貫通孔102はスピンナチャック部101の中心からそれぞれ異なる距離に設けられており、かつ、隣合う貫通孔102同士が互いにオーバーラップするように配置されスピンナチャック部101の全外周に亘って設けられている。例文帳に追加

The four through holes 102 are provided at a different distance from the center of the spinner chuck section 101, and at the same time the adjacent through holes 102 are arranged so that they overlap each other and are provided in the entire outer periphery of the spinner chuck section 101. - 特許庁

例文

第1コントローラ120が、半導体ウェーハがスピンナ110内にローディングされれば、入力される半導体ウェーハ情報に従って最適な工程パラメータを設定して、工程パラメータに従ってスピンナ110を制御する。例文帳に追加

When a semiconductor wafer is loaded in a spinner 110, a first controller 120 sets an optimum process parameter according to the inputted information on the semiconductor wafer, and controls the spinner 110 according to the set process parameter. - 特許庁

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