「レーザパルス照射」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

最後に、主レーザパルスＬＰ２の照射により溶融池Ｍが十分な深さを持つまでに深さ方向に成長した時点で、主レーザパルスＬＰ２に連続する形で、予備レーザパルスＬＰ１と同程度又はそれよりも低いピーク出力及びエネルギー密度を持つ徐冷レーザパルスＬＰ３を照射する。例文帳に追加

Lastly, a slow cooling laser pulse LP3 having peak output and energy density equal to or lower than the auxiliary laser pulse LP1 is irradiated following the main laser pulse LP2, when the molten pool M grows in the direction of depth to have a sufficient depth owing to the irradiation of the main laser pulse LP2. - 特許庁

加工対象物上の１つの被照射点から次の被照射点に、加工用レーザパルスの入射位置を移動させる移動期間に、加工用レーザパルスのパルス幅よりも短いパルス幅をもつ非加工用レーザパルスを、移動期間の長さに応じたパルス幅と繰り返し周波数で、レーザ発振器から出射させるとともに、非加工用レーザパルスは加工対象物に入射させない。例文帳に追加

During a moving period of the incident position of the machining laser pulse from one irradiation point to the next on the workpiece, a non-machining laser pulse having a shorter pulse width than that of the machining laser pulse is emitted from the laser oscillator with a pulse width and a repeating frequency corresponding to the length of the moving period and, simultaneously, no non-machining laser pulse is made incident on the workpiece. - 特許庁

次に、予備レーザパルスＬＰ１の照射により溶融池Ｍがレーザ光Ｌの集光スポット径Ｄと同程度の径を持つまでに径方向に成長した時点で、予備レーザパルスＬＰ１に連続する形で、予備レーザパルスＬＰ１よりも十分に高いピーク出力及びエネルギー密度を持つ主レーザパルスＬＰ２を照射する。例文帳に追加

Then, a main laser pulse LP2 having sufficiently higher peak output and energy density than the auxiliary laser pulse LP1 is irradiated following the auxiliary laser pulse LP1, when the molten pool M grows in the direction of diameter to have a diameter equal to the diameter D of the condensing spot of a laser beam L owing to the irradiation of the auxiliary laser pulse LP1. - 特許庁

照射レーザパルス出力の標準偏差を低下させ、基板上の各パルスウィンドウに対する一様なパルス照射を可能にする。例文帳に追加

To lower a standard deviation of a pulsed output of an irradiation laser and enable provision of uniform pulsed irradiation onto each pulse window on a substrate. - 特許庁

レーザユニット１６３は、レーザ照射観察ユニット１６２およびガスウインドウ１６１を介して、レーザパルスを加工部分に照射する。例文帳に追加

A laser unit 163 irradiates a pulsed laser toward the portion to be processed through a laser irradiation observation unit 162 and the gas window 161. - 特許庁

レーザパルスを出射するレーザ出射装置と、レーザ出射装置を出射したレーザパルスの時間波形に関するデータを取得する検出装置と、検出装置によって取得されたレーザパルスの時間波形に関するデータに基づいて、レーザ出射装置を出射するレーザパルスのパルス幅を制御する制御装置とを有するレーザ照射装置を提供する。例文帳に追加

The laser irradiation device includes: a laser emission device which emits laser pulses; a detection device which obtains data associated with a time waveform of the laser pulses emitted by the laser emission device; and a control device which controls a pulse width of the laser pulses emitted by the laser emission device based on the data associated with the time waveform of the laser pulses obtained by the detection device. - 特許庁

また、レーザパルス光エネルギーは、二つのレーザパルス光Ｌ１，Ｌ２が単位面積（１ｃｍ^2）に照射したエネルギーの合計が１００〜３００Ｊであることが望ましい。例文帳に追加

Also, for laser pulse light energy, it is desirable that the total of the energy with which a unit area (1 cm^2) is irradiated by the two laser pulse lights L1 and L2 is 100 to 300J. - 特許庁

石炭サイロ１に貯蔵された石炭２の表面にレーザパルス光を照射しながらカメラ１１で画像データを入手する。例文帳に追加

A laser pulse beam is applied to the surface of coal 2 being stored in a coal silo 1 and at the same time, image data are obtained by a camera. - 特許庁

レーザパルスの照射によるレーザテクスチャ加工において、多様な状態の加工突起を複数の加工領域に連続して形成する。例文帳に追加

To continuously form various state worked protrusions to plural working regions in laser beam texturing with laser beam pulse irradiation. - 特許庁

測定対象物にレーザパルス光を照射し、反射してくるパルス光を受光してその受光信号を入力信号Ｓ１０５とする。例文帳に追加

After laser pulse light is radiated to a measurement object, reflected pulse light is received and its light receipt signal is used as an input signal S105. - 特許庁

パルスレーザ５により異なる色素を励起し、異なる波長レーザパルスを発生させ、それぞれの波長レーザパルスに所定の遅延を与え、この遅延を与えたそれぞれの波長レーザを対象物４に照射し、この照射したそれぞれの波長レーザの反射光を受光し、このそれぞれの反射光から画像計測する。例文帳に追加

This delay-imparted laser with each wavelength is emitted to an object 4, with the reflected light of each laser received to measure a picture from it. - 特許庁

さらに、マトリックスレーザパルス光照射部１１から、マトリックス励起用レーザパルス光を照射することで、励起状態のマトリックス化合物と励起状態の可溶化剤とが共存された状態を実現でき、効率的に分析物をイオン化することができる。例文帳に追加

Furthermore, by irradiating a matrix excitation laser pulse beam from the matrix laser pulse beam irradiation part 11, a state can be realized in which a matrix compound at excitation state and a solubilizer of excitation state are made to co-exist, and the subject matter to be analyzed can be ionized efficiently. - 特許庁

（ｉ）波長λのレーザパルス１２をレンズで集光してガラス（ガラス板１２）に照射することによって、ガラスのうちレーザパルス１２が照射された部分に変質部１３を形成する工程と、（ii）ガラスに対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて変質部１３をエッチングする工程とを含む。例文帳に追加

The processing method comprises the step (i) of irradiating glass (a glass sheet 12) with a pulsed laser 12 at a wavelength λ after condensation with a lens to form a degenerated part 13 on that part of the glass which is irradiated with the pulsed laser 12 and the step (ii) of etching the regenerated part 13 with an etchant having a larger etching rate to the regenerated part 13 than to the glass. - 特許庁

パルス波形を最適化したレーザパルスを半導体基板表面に照射することにより、結晶欠陥のなく電気的に活性な層である低抵抗の極浅接合を得る。例文帳に追加

To provide ultra shallow junction having a low resistance, which is an electrically active layer, without crystal defects by having a semiconductor substrate surface irradiated with a laser pulse obtained by optimizing the pulse waveform. - 特許庁

レーザ発振器をパルス発振させながら、加工対象物上の複数の被照射点に加工用レーザパルスを順番に入射させてレーザ加工を行う。例文帳に追加

With pulsating oscillation by a laser oscillator, a machining laser pulse is successively made incident on a plurality of irradiation points on a workpiece to perform laser beam machining. - 特許庁

照射されたレーザパルスは、セルフチャネリング効果により形成される一過性の光導波路に沿ってサファイア内を光軸方向に伝播し、サファイア内にアスペクト比の高い応力ひずみ領域を形成する。例文帳に追加

The irradiating laser pulses travel in the sapphire in an optical-axis direction along a transient optical waveguide formed by self-channeling effect to form a stress-strain region of high aspect ratio in the sapphire. - 特許庁

照射されたレーザパルスは、セルフチャネリング効果により形成される一過性の光導波路に沿って加工対象物内を光軸方向に伝播し、加工対象物内にアスペクト比の高い応力ひずみ領域を形成する。例文帳に追加

The emitted laser pulse propagates inside the workpiece to an optical axis direction along a transient optical waveguide formed by a self-channeling effect, so as to form a stress strain region having a high aspect ratio inside the workpiece. - 特許庁

レーザパルス光の照射により時間計測を開始し、受信タイミング信号１０６により時間計測をストップし、得られた光走行時間により測定対象物までの距離を求める。例文帳に追加

Time measurement is started by irradiation with the laser pulse light, the time measurement is stopped by the receipt timing signal 106, and from the obtained light travel time, a distance to the measurement object is found. - 特許庁

表層部に不純物が添加された半導体層を含む基板に、複数のレーザパルスをそれぞれ適切な条件で照射して、活性化深さを深めることができる不純物活性化方法を提供する。例文帳に追加

To provide an impurity activating method which increases the activation depth of a plurality of laser pulses each irradiated in suitable conditions onto a substrate including a semiconductor layer with an impurity added to its surface layer. - 特許庁

集光位置におけるレーザ強度が０.５〜５００ＰＷ／ｃｍ^２の範囲内となるように、レーザパルスをサファイアの表面近傍に集光照射する。例文帳に追加

The sapphire is irradiated with laser pulses converged on the vicinity of its surface so that laser intensity at a light convergence position is 0.5 to 500 PW/cm^2. - 特許庁

情報記録再生装置は、記録データに基づいて光源を駆動することにより、記録媒体上にレーザパルスを照射して記録マークを形成する。例文帳に追加

The information recording and reproducing device irradiates a laser pulse on the recording medium by driving a light source based on recording data to form the recorded mark. - 特許庁

摺動材Ｍの摺動面には予めＤＬＣ膜が形成されており、レーザパルスの照射によりＤＬＣ膜よりも硬度の低い改質層が形成される。例文帳に追加

The DLC film is previously formed on the sliding surface of the sliding material M and the modified layer having the hardness lower than the hardness of the DLC film is formed by irradiation with the laser pulse. - 特許庁

改質層の硬度及び層厚は、照射するレーザパルスのフルーエンスにより調整することができ、被摺動面の硬度や表面状態に合わせて摩耗量が少なくなるように改質層を形成することが可能となる。例文帳に追加

The hardness and layer thickness of the modified layer can be adjusted by fluence of the radiated laser pulse and the modified layer can be formed so that the wear amount is reduced according to the hardness and the surface state of the surface to be slid. - 特許庁

情報記録装置において、記録信号に応じたパルス信号で光源を駆動することにより、記録信号に応じたレーザパルスが記録媒体上に照射される。例文帳に追加

In the information recording device, a light source is driven by a pulse signal corresponding to a recording signal to irradiate a recording medium by laser pulses corresponding to the recording signal. - 特許庁

ジャイアントパルスのパルス幅を一定に制御できるようにした、レーザトリミング装置用レーザ照射装置およびレーザパルス幅制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam radiation device for a laser beam trimming device and a method of controlling a laser pulse width, by which device and method the pulse width of a giant pulse is controlled to be kept constant. - 特許庁

まず、溶接対象となる２つの部材１，２の接合部分に、比較的低いピーク出力及びエネルギー密度を持つ予備レーザパルスＬＰ１を照射して溶融池Ｍを形成する。例文帳に追加

First, a molten pool M is formed by irradiating an auxiliary laser pulse LP1 having relatively low peak output and energy density to an interface between two members 1 and 2 to be welded. - 特許庁

この方法は、表面と複数のエリアとを有するアモルファスシリコンの膜を形成することと、第１のレーザパルスシーケンスでシリコン膜の各隣接エリアを照射することと、第１のレーザパルスシーケンスに応答して、結晶粒が横方向に成長する際にシリコン膜の隣接エリア間にあるシリコン膜表面の平坦化を制御することとを含む。例文帳に追加

The method comprises formation a film of amorphous silicon having a surface and a plurality of regions, irradiating each adjacent region of the silicon film with a first sequence of laser pulses, and in response to the first sequence of laser pulses, controlling the planarization of the silicon film surface between adjacent regions of the silicon film as the crystal grains are laterally grown. - 特許庁

消耗テープ５９は、ポリマー２３及び分散された金属成分２５を含む消耗媒体６１を含み、基板表面に貼られ、高出力レーザパルスの照射により、消耗媒体が気化する際に発生する衝撃性により衝撃ピーニングが施される。例文帳に追加

The consumable tape 59 includes the consumable medium including a polymer 23 and dispersed metallic component 25, is applied onto the surface of a substrate, and the shock peening is performed by a shock generated by the vaporization of the consumable medium at the irradiation of a high output laser beam pulse. - 特許庁

抵抗体のレーザトリミング方法において、レーザパルス照射部に生じるマイクロクラックの有無を判断することでレーザトリミングの精度を高めることが可能なレーザトリミング方法とレーザトリミング装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To improve precision in laser trimming, by determining the presence or the absence of microcracks generated in a laser pulse application section, in a laser trimming method of resistors. - 特許庁

スパークプラグ１００の製造方法は、電極チップ１３３を電極母材１３１に配置し、これにパルス状のレーザ光ＬＳを照射することにより、各レーザパルスＮ１〜Ｎ１０に対応した単位溶接部１３５ｎ１〜１３５ｎ１０を順次形成するレーザ溶接工程を備える。例文帳に追加

The method of manufacturing the spark plug 100 includes a laser welding process in which an electrode chip 133 is arranged at an electrode base material 131 and by irradiating a pulsed laser beam LS on it, unit welding parts 135n1 to 135n10 are formed in the order corresponding to respective laser pulses N1 to N10. - 特許庁

磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面の裏面３４Ｂに、ＹＡＧパルスレーザ発振より射出され、この裏面３４Ｂより小さい断面積に整形されたレーザパルスを所定の間隔で互いに離して複数回照射する。例文帳に追加

The backside 34B of an air bearing of a slider of the magnetic head is irradiated with a laser pulse emitted by a YAG pulse laser and shaped to be a cross-sectional area smaller than the backside 34B a plurality of times, successive pulses being separated from each other at a predetermined interval. - 特許庁

本発明のレーザ加工装置は、レーザパルスをサファイアの表面近傍に集光照射して、サファイアの表面を起点として内部に向かう、光軸方向に伸張した形状の応力ひずみ領域を、セルフチャネリング効果により形成する。例文帳に追加

The laser machining apparatus condenses the laser pulse and irradiates the vicinity of the surface of the sapphire with the laser pulse to form a stress strain region starting at the surface of the sapphire and directed to the inside and having a shape extending in the optical axis direction by utilizing self-channeling effects. - 特許庁

パルス幅１００〜１０００フェムト秒のレーザパルスを、開口数が０.４〜０.９５の集光レンズを用いてレーザ強度が０.５〜５００ＰＷ／ｃｍ^２の範囲内となるように加工対象物の表面近傍に照射する。例文帳に追加

A laser pulse with a pulse width of 100 to 1,000 femtosecond is emitted to the vicinity of the surface of a workpiece using a focusing lens having a numerical aperture of 0.4 to 0.95 in such a manner that laser intensity lies within the range of 0.5 to 500 PW/cm^2. - 特許庁

スパークプラグ１００の製造方法は、電極チップ１３３を電極母材１３１に配置し、これにパルス状のレーザ光ＬＳを照射することにより、各レーザパルスＮ１〜Ｎ１０に対応した単位溶接部１３５ｎ１〜１３５ｎ１０を順次形成するレーザ溶接工程を備える。例文帳に追加

A method for manufacturing a spark plug 100 includes a laser welding step for forming unit welding parts 135n1 to 135n10 corresponding to respective laser pulses N1 to N10 by arranging an electrode chip 133 on an electrode base material 131 and irradiating it with a pulsed laser beam LS. - 特許庁

材料表面に直線偏光の加工閾値近傍の第一のレーザを照射すると共に当該照射部をオーバラップさせながら同レーザパルスを所定方向にスキャン照射して前記材料表面に偏光方向に依存した方向に延在する表面畝状微細周期構造を形成する（第一工程）。例文帳に追加

A linearly polarized first laser beam with approximately a treatment threshold value is irradiated to the surface of a material, and, while overlapping the irradiation part, the same laser pulse is applied while scanning in a predetermined direction to form a surface ridge-shaped fine periodic structure extended in a direction depending upon the polarization direction on the surface of the material (first step). - 特許庁

二重積分器ユニット３０９が測定されたパルス照射量を表す照射量信号を少なくとも二回積分することにより積分器出力信号３１３を生成して、積分器出力信号３１３により照射レーザパルス源に対する駆動入力３１５を調整制御する負フィードバック制御ループを実装する。例文帳に追加

A negative-feedback control loop is implemented in such a configuration that a double integrator unit 309 at least twice integrates an irradiation dose signal representative of a measured pulsed-irradiation dose to generate an integrator output signal 313, which adjusts a driving input 315 to a source of irradiation laser pulses. - 特許庁

金属材料表面（７）に赤外レーザビーム（４）を照射して、該表面を熱加工するに当り、ＫｒＦエキシマレーザパルスビーム（１０）を上記赤外レーザビーム（４）に重畳させて金属材料表面（７）に照射し、該表面近傍に高密度プラズマを発生させると共に、そのプラズマに上記赤外レーザビーム（４）を吸収させる。例文帳に追加

At the time of thermal processing of a surface of a metallic material 7 by emitting infrared laser beam 4 on the surface, a high density plasma is made to generate in the vicinity of the surface as well as is made to absorb the infrared laser beam 4 by emitting KrF excimer laser pulse beam 10 on the surface of the metallic material 7 superposed with the infrared laser beam 4. - 特許庁

３以上のレーザビーム３２Ａ〜３２Ｃを光記録媒体に照射して記録及び／又は再生を行う光記録再生方法において、レーザビームのうち、光記録媒体における記録及び／又は再生に影響する物理的条件が異なるレーザビーム相互のレーザパルス駆動方法を異ならせて光記録及び／又は再生を行う。例文帳に追加

In the optical recording and reproducing method wherein recording and/or reproduction is performed by irradiating the optical recording medium with the three or more laser beams 32A to 32C, laser pulse driving methods of mutual laser beams whose physical conditions having influence on recording and/or reproduction of the optical recording medium are different from each other are made different to perform optical recording and/or reproduction. - 特許庁

この透明ガラス板１とフェムト秒レーザパルス２の焦点とを相対移動させることにより、高屈折率の光伝搬層５が透明ガラス板１中に連続的に形成されるので、透明ガラス板１中にレーザ照射による熱的歪みが残っていたとしても導波路が略対称構造を有しているため、偏波依存性が生じにくい。例文帳に追加

Since the light propagating parts 5 of the high refraction factor are continuously formed inside the transparent glass pane 1 by relatively moving this transparent glass pane 1 and the focal point of the femto-see laser pulse 2, even when thermal distortion caused by laser radiation is remained in the transparent glass pane 1, since the waveguide has an almost symmetric structure, polarization dependency hardly occurs. - 特許庁