「光学スリット」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

ヘッド部２２は、光源２６、２７と、光源２６、２７からの光を整形しスケール２１に照射する光ビームを生成する光整形手段としてのスリット２８ａ、２８ｂと、スケール２１の光学マークを経由した光ビームを受光する受光素子２９、３０により構成されている。例文帳に追加

The head section 22 is composed of light sources 26, 27, slits 28a, 28b as light shaping means for shaping rays of light from the light sources 26, 27 and generating light beams for irradiating the scale 21, and photodetectors 29, 30 for receiving the light beams having passed through optical marks of the scale 21. - 特許庁

焦点位置検出受光光学系８は受光した光を分岐し、一方の光束は第１結像レンズ７８によりスポット像を一次元ラインセンサ７９上に結像させ、結像した位置を検出する瞳半分隠しスリット投影方式による焦点検出を行う。例文帳に追加

The received light is branched by the focal position detecting light-receiving optical system 8, a spot image is formed by one of the branched luminous fluxes on a one-dimensional line sensor 79 by a first imaging lens 78, and the position where imaging took place is detected, that is, detection of focus is performed by introducing a pupil half-concealed slit-projection system. - 特許庁

第２の電極が前記穴型パターン部と連続的に設けられたスリットにより複数部分に分割され、穴型パターンの直径方向に対向する対の電極を同電位とする電圧を加えて電位分布を形成することで、楕円形状の屈折率分布に基づいて光学的特性を可変制御できるようにしている。例文帳に追加

The second electrode is divided into a plurality of parts by slits formed continuously to the hole type pattern part and potential distribution is formed by applying voltage for setting a pair of electrodes opposed to each other in the diameter direction of the hole type pattern to the same potential to variably control optical characteristics on the basis of elliptic refractive index distribution. - 特許庁

光源装置１４からの光の光路に配置される、スリット状の光透過部を一定間隔のピッチで形成した格子パターン６０９、この格子パターン６０９より形成される格子パターン像を標本３に対し所定角度傾けて投影する投影光学系６１１を具備したユニット化された格子パターン投影装置６を有する。例文帳に追加

This instrument has a grid pattern projection device 6 formed as a unit and equipped with a grid pattern 609 arranged on the optical path of light from a light source device 14 and having slit-shaped light transmission parts formed at fixed-interval pitches, and with a projection optical system 611 for projecting a grid pattern image formed by the grid pattern 609 to a specimen 3 at a prescribed angle. - 特許庁

分光の対象光が伝搬する分光光路が内部に設定される光学体１０と、対象光を入射する光入射スリット１６と、入射された対象光を分光する回折格子１７と、回折格子１７で分光された対象光を検出するフォトダイオードアレイ１８とによって、分光器１Ａを構成する。例文帳に追加

The spectroscope 1A is composed of: an optical body 10 wherein a spectral light path is established, through which spectral object light is propagated; a light entrance slit 16 the object light enters; a diffraction grating 17 which spectrally processes the entrance object light; and a photodiode array 18 which detects the object light spectrally processed by the diffraction grating 17. - 特許庁

試料をイオン化するイオン源と、該イオン源で生成したイオンを後段側で受け入れる中間室と、該中間室の更に後段側に置かれ、種々のイオン光学系の構成物が配置された測定室とから成る質量分析装置において、前記中間室と前記測定室を仕切る隔壁部分に、種々の口径を備えた可変式スリットを設けた。例文帳に追加

This mass spectrometer is composed of an ion source 1 for ionizing a sample, an intermediate chamber 3 for receiving ions generated in the ion source 1 in a following step, and a measuring chamber 8 located downstream of the chamber 3 and arranged with various kinds of constituents for an ion optical system. - 特許庁

紫外領域において二色性を示す物質を含有する偏光フィルムと、短波長の紫外線をカットする光学フィルターと、紫外線照射装置とを組合せた紫外線偏光光源装置であって、前記偏光フィルムと紫外線照射装置との間に遮光スリットを備えている紫外線偏光光源装置。例文帳に追加

The ultra-violet light polarizing light source device wherein a polarizing film including materials showing dicroism in an ultra violet region, an optical filter for cutting the ultra-violet light of a short wavelength and an ultra-violet light irradiation device are combined together, is provided with a light shielding slit between the polarizing film and the ultra-violet light irradiation device. - 特許庁

ガラス基板１、２を接合して構成され、ガラス基板１の接合面にはフォトファブリケーション技術およびウェットエッチング技術により流路溝６が形成されるとともに、ガラス基板２には液体試料導入および排出のための貫通孔９、１０が形成され、接合面にスパッタ法等により光学的に不透明なＳｉ膜３をスリットとして形成する。例文帳に追加

A measuring cell is constituted by bonding glass substrates 1, 2 and a flow channel groove 6 is formed in the bonding surface of the glass substrate 1 by photofabrication technique and wet etching technique and through- holes 9, 10 for introducing and discharging a liquid sample are formed in the glass substrate 2 and an optically opaque Si film 3 is formed in the bonding surface as a slit by a sputtering method. - 特許庁

２０〜１０００μｍピッチの光学スリットを有する防眩処理膜２０を有する画面側偏光フィルム１６を、前面板２０上に形成することによって、アレイ側基板１１や液晶パネルの画面側基板１２との干渉によるモアレを大幅に低減しながら、量産性の良い、コストの低い防眩処理膜を用いることができる。例文帳に追加

By forming a screen side polarizing film 16 having an antidazzle treatment film 20 with optical slits formed at 20-1000 μm pitch on a front plate 21, an inexpensive antidazzle treatment film high in mass productivity can be used while remarkably reducing moire generated by interferences with an array side substrate 11 and a screen side substrate 12 of a liquid crystal panel. - 特許庁

検出器モジュール８は４個のＰＭＴ４上にライトガイド３を介して３０個のシンチレータ１のシンチレータ群が光学的に結合され、斜めから入射するγ線の突き抜けを最小限にするために、シンチレータ１間にＸ線吸収の大きいスリット状のシールド２を設け、本来の位置に近い場所で吸収されたγ線のみが計測される。例文帳に追加

The detector module 8 has a group of 30 scintillators interlinked optically through a light guide 3 on four PMTs 4 and a slit-like shield 2 with a large X-ray absorption is installed between the scintillators 1 to minimize the penetration of the γ rays being obliquely incident so that the γ rays alone absorbed at a point near the original position is measured. - 特許庁

電気光学装置ににおいて、各画素１１がＹ方向に長辺が延びた長方形の平面形状を有しているので、このような平面形状に対応させて、凹凸形成層５０の下地開口部５５、および光反射層３３の光透過窓３３０については、Ｙ方向にスリット状に延ばして、Ｙ方向に並ぶ全ての画素１１を通るように構成する。例文帳に追加

In the electrooptical device, each pixel 11 has a rectangular plane shape whose long sides are extended in a Y direction and therefore the ground aperture 55 of the ruggedness forming layer 50 and the light transmission window 330 of the light reflection layer 33 are extended in a slit state in the Y direction so as to pass all the pixels 11 lining up in the Y direction. - 特許庁

また、撮像素子２の前方には、スリット光により物体表面に形成される投光パターンの像が撮像素子２の受光面のサイズに合わせて投影されるように屈折と反射との少なくとも一方を利用して当該像のアスペクト比を調節する受光光学系４が配置される。例文帳に追加

A light-receiving optical system 4 for adjusting the aspect ratio of the image through the use of at least either refraction or reflection is arranged in front of the imaging element 2 so that an image of a light-projected pattern formed in the surface of an object by the slit light is projected, according to the size of a light-receiving surface of the imaging element 2. - 特許庁