「光学スリット」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、照明領域を設定する光学手段（５）とは別に、その光学手段（５）によって設定された照明領域内における走査方向と直交する非走査方向の照度分布を可変とする照度分布制御手段（４）を設ける。例文帳に追加

In a projecting light exposure apparatus of a slit scanning light exposure type, there is provided, other than optical means (5) for setting an illumination area illumination distribution control means (4), luminance distribution control means (4) for making variable luminance distribution in a nonscanning direction extending perpendicularly to a scanning direction in an illumination area set by the optical means (5). - 特許庁

分光装置１０は、回折格子１３と反射光学系１５とを備えており、入射スリット１１からの被測定光を回折格子１３に入射させて得られた光を反射光学系１５で反射させ、この反射光を再度回折格子１３に入射させて被測定光を分光する。例文帳に追加

In the spectroscopic device 10 with a diffraction grating 13 and a reflection optical system 15, light acquired by allowing light to be measured from an incident slit 11 to enter the diffraction grating 13 is reflected by the reflection optical system 15, and the reflected light is allowed to enter the diffraction grating 13 again, and the light to be measured is spectrally diffracted. - 特許庁

原稿台ガラス61上に載置された原稿の画像を光学系63による露光／走査によって読み取る静止原稿読取り方式と、スリット露光用ガラス62上を搬送される原稿の画像を光学系63を静止させて読み取る原稿流し撮り方式とを備えている。例文帳に追加

This image reader is provided with a static original reading system for reading the image of an original placed on an original stand glass 61 by exposure/scanning by an optical system 63 and an original following photographic system for reading the image of the original to be conveyed on a glass 62 for slit exposure by making the optical system 63 static. - 特許庁

このため、例えばステージＲＳＴの移動面に傾斜やうねりが存在しても、これに影響されることなく、位置検出系を用いてスリット板の光軸方向の位置を制御しつつ、空間像計測により、投影光学系の光軸方向の光学特性を精度良く計測することが可能となる。例文帳に追加

Thus, the optical characteristics in the optical axial direction of the projection optical system is measured precisely by space image measurement while controlling the position of the slit plate in the optical axial direction using a position detecting system even if there exists, for example, inclination or wave on a movement plane of the stage RST. - 特許庁

入射スリットから入射した光を入射光学系の反射ミラーで平行光にして回折格子に入射させ、回折格子からの回折光を出射光学系の反射ミラーで集光して光り検出器４５の受光面に入射させる。例文帳に追加

Light coming from an entrance slit is converted into a parallel light with a reflective miller of an incoming optical system and is made to come into a diffraction grating, diffracted light from the diffraction grating is collected by a reflective miller of an outgoing optical system and is made to come into a light receiving surface of a photodetector 45. - 特許庁

連続搬送される原稿の表および裏の画像をスリット露光方式によって読取る画像読取装置において、表と裏の画像に対して異なる光学フィルタを用いたり、一方の画像だけに光学フィルタを用いることができるようにする。例文帳に追加

To provide an image reader that adopts a slit exposure system to read an image of a front side and a rear side of originals consecutively carried and employs different optical filters to the images on the front side and the rear side or uses an optical filter only for one image. - 特許庁

光学的に透明な基台１上にスパッタ成膜装置等により光学的に不透明なＳｉ膜２を成膜した後、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、所定の幅で光の通路となる部分のＳｉ膜２の一部を取り除き、スリット３を作製する。例文帳に追加

An optically opaque silicon film 2 is deposited on an optically transparent base substrate 1 using a sputter deposition apparatus or the like, and then a portion of the silicon film 2 serving as a passage of light is removed with the specified slit width using a photolithography technique and an etching technique so as to produce the slit 3. - 特許庁

これにより、初期位置を中心としてスリット板を上方及び下方に往復駆動する従来の空間像計測方法を用いる場合に比べて、投影光学系の光学特性の計測に要する時間を短縮することが可能となる。例文帳に追加

This shortens the time required for the measurement of optical characteristics of projection optical system, compared to the conventional measurement method of aerial image where a slit board is driven back and forth in upward and downward directions from an initial position as a center. - 特許庁

本発明のスリットランプ１は、被検眼Ｅに対して前後・左右に可動される架台６と、被検眼Ｅを変倍光学系部１２を介して拡大しつつ観察する接眼鏡部２４と、変倍光学系部１２を介して被検眼Ｅを撮像する撮像部２５とを備えている。例文帳に追加

The slit lamp 1 is provided with: a rack 6 moved to the front and back and right and left to the eye E to be examined; an eyepiece part 24 for observing the eye E to be examined while enlarging it through the variable power optical system part 12; and an imaging part 25 for imaging the eye E to be examined through the variable power optical system part 12. - 特許庁

基準分解能を有するスケールスリット対応の光学式エンコーダ用受光素子を２個隣接して配置したものを１セットとし、これを複数セット配置する。例文帳に追加

Two adjacently disposed optical encoder photo detectors adaptable to a scale slit having a reference resolution are paired as one set. - 特許庁

基板を加工することができない程度に弱いレーザー光であり、かつ、基板上の薄層を浅く加工することができる程度に強いレーザー光を用いてスリットを形成することができる光学素子の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an optical element by which a slit can be formed by using laser light as weak as not to process a substrate but as strong as to shallowly process a thin layer on the substrate. - 特許庁

光学クサビは、レーザビームの焦点の位置をスリットセンサ上に維持しかつ反射光によりレーザ源が損傷を受けることを防止する形状を有している。例文帳に追加

An optical wedge is shaped so as to maintain the position of the focal point of a laser beam on the slit sensor and to prevent reflected light from damaging a laser source. - 特許庁

第１レーザー発振器１から比較的高い繰り返し周波数でパルス状に照射された第１レーザービームは、第１中間光学系２によって基板６上に収束されて、スリット状の第１ビームスポットを形成する。例文帳に追加

A 1st laser beam, emitted in pulses at a relatively high repetition frequency by a 1st laser oscillator 1, is converged on a substrate 6 by a 1st intermediate optical system 2, to form a 1st beam spot in a slit shape. - 特許庁

電気光学装置の素子基板上に、スリット７ｂを備えた透光性の画素電極７ａを形成するにあたって、透光性導電膜７の上にレジストマスク９６を形成した後、ウエットエッチングを行なう。例文帳に追加

In forming a translucent pixel electrode 7a having a slit 7b on the element substrate of an electro-optic device, wet etching is performed after a resist mask 96 is formed on a translucent conductive film 7. - 特許庁

薄く、透明性に優れ、かつ、フィルムスリット工程や表面形状付与工程等においてフィルム割れの発生が抑制された光学用アクリルフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide an acrylic film for optics which is thin and is excellent in transparency, and which suppresses film crack generation in a process of film slit or a process for providing surface shape. - 特許庁

レーザをシートビーム状に形成するスリットもしくはシリンドリカルレンズと対物レンズ等の集光レンズを組み合わせ、マスク表面に対して斜め上方から表面上に焦点を結ぶよう光学系を構成する。例文帳に追加

An optical system is constituted to focus on the mask surface from above at an angle by combining a slit or a cylindrical lens forming a sheet laser beam and a condenser lens such as an objective lens. - 特許庁

ダブプリズム１１を走査光学系６と対物レンズ７との間に入れると、光束が９０°回転し、スリット２の像と走査方向が９０°回転する。例文帳に追加

When a Dove prism 11 is inserted between a scanning optical system 6 and an objective lens 7, a luminous flux rotates by 90° and the image of the slit 2 and a scanning direction rotate by 90°. - 特許庁

また、シリコン基板は、球レンズに対して半導体発光素子と反対側にスリットを備え、球レンズから出射されるコリメート光を遮断したり反射させることなく、光学結合可能とする。例文帳に追加

Furthermore, the silicon substrate is provided with a slit on the side opposite to a semiconductor light emitting element with respect to the spherical lens so that optical coupling can be attained without interrupting or reflecting a collimate light coming from the spherical lens. - 特許庁

ＢＤスリットとＢＤセンサーを一体のユニットで構成して、光学箱に前記ＢＤ検出ユニットが走査レンズの光軸中心に対して回転調整可能なように構成する。例文帳に追加

A BD slit and a BD sensor are constituted as a single unit, and in the optical box, a BD detection unit is constituted rotatably and adjustably on the optical axis of a scanning lens. - 特許庁

変倍光学系部の倍率の切り換えを行って高倍で観察した後、元の倍率に戻して撮影を行う場合であっても、被検眼に対する合焦ズレを回避することのできるスリットランプを提供する。例文帳に追加

To provide a slit lamp capable of evading focus deviation to an eye to be examined even in the case of switching the magnification of a variable power optical system part, performing observation by high magnification and returning it to original magnification to perform photographing. - 特許庁

回転ディスクと受光素子もしくは、固定スリットのラフな位置合わせでも波形に歪みを生じにくくすることによって、逓倍後の分割精度を向上させる光学式エンコーダを提供する。例文帳に追加

To make a strain in a waveform hardly generated even in rough alignment between a rotary disc and a photoreceiving element or a fixed slit to enhance division precision after multiplied. - 特許庁

本発明のレーザー光を用いた半導体膜の熱処理方法は、光学系にて形成された第１の長さの線状レーザー光をスリット８００で第２の長さの線状レーザー光に変換して基板８０１に照射する。例文帳に追加

A linear laser beam, with a first length formed in an optical system, is converted into a linear laser beam with a second length through a slit 800 and is emitted to a substrate 801. - 特許庁

光学式エンコーダの高精度化を実現できるとともに、エンコーダ付モータの出力軸に過大な力が加わった場合でも、回転ディスクが固定スリットに接触することがないエンコーダ付モータを提供する。例文帳に追加

To provide a motor with an encoder which achieves high precision of an optical encoder and prevents a rotating disk from contacting with a fixed slit even when an excessive force is added to an output shaft of the motor with the encoder. - 特許庁

光学式エンコーダの回転板１はその周方向に沿ってスリット１１が形成されており、回転に伴なって発光素子３からの光を断続して透過する。例文帳に追加

A rotor plate 1 of this optical encoder has slits 11 formed thereon along the circumferential direction, and transmits intermittently light from a light emitting element 3 following rotation. - 特許庁

受光光学系４３０は、光を受光して受光信号を出力する光センサ４４０と、光センサ４４０の前段に配設されたスリットプレート４５０と、を備える。例文帳に追加

The light receiving optics system 430 comprises: an optical sensor 440 which receives light and outputs a light reception signal; and a slit plate 450 which is disposed ahead of the optical sensor 440. - 特許庁

落射光学系１２を走査させ、ピンホールスリット上に結像される像を観察し、被検出部２ｃと対物レンズとの距離が適当であるか否かを判断する。例文帳に追加

A downward irradiating optical system 12 is operated to perform scanning to observe an image formed in a pinhole slit and to determine the distance between the part to be detected 2c and an object lens is appropriate or not. - 特許庁

この光学系においては、楕円鏡３と楕円鏡４が、いわゆる「軸外し」となっており、楕円鏡３と楕円鏡４で反射された光は、光源１で遮られることなく入側スリット５上に集光される。例文帳に追加

In this optical system the ellipse mirror 3 and the ellipse mirror 4 are so called off-axis, and the light reflected by the ellipse mirror 3 and the ellipse mirror 4 is condensed on the entrance side slit 5 without being blocked by the light source 1. - 特許庁

スリット基板の薄膜の比較的大きな撓みや歪の影響を補償して、空間像計測法により被検光学系の波面収差を高精度に評価することのできる収差評価方法。例文帳に追加

To provide an aberration evaluating method for compensating influence of comparatively large warpage and distortion of a thin film in a slit substrate and highly precisely evaluating wavefront aberration of an optical system to be inspected by a space image measuring method. - 特許庁

光学センサ１６６は、スケール１６３に設けられたスリット１６３ａを読み取ることで、搬送される画像形成ヘッド１６１の位置を示すスケール信号を出力する。例文帳に追加

An optical sensor 166 outputs a scale signal showing a position of a carried image forming head 161, by reading a slit 163a arranged on a scale 163. - 特許庁

その後、このスリット光を分光光学素子１３によって平面に展開して分光した後、この平面に展開して分光された光を２次元センサ素子１０にて電気信号に変換して出力する。例文帳に追加

Then, this slit light is developed on a plane by a spectral optical element 13 to disperse it and then the dispersed light is converted into an electric signal by a two dimensional sensor element 10 to output it. - 特許庁

スリット１１は光学式タッチパネルにおける発光素子１３及び受光素子１４の前方にそれぞれ配置されるものであり、光が通過する貫通孔１２を有する。例文帳に追加

The slit 11 to be disposed in front of each of a light emitting element 13 and a photodetector 14 in an optical touch panel includes a through-hole 12 for passing light therethrough. - 特許庁

この光学式エンコーダによれば、コードホイール２のスリット３と遮光部２Ａとインデックスパターン部１３とは一列に配列されていて、移動方向の寸法は略同一である。例文帳に追加

In the optical encoder, slits 3, light shielding parts 2A, and an index pattern part 13 of a code wheel are aligned in line and dimensions in their migrating directions are approximately same. - 特許庁

光学的検査装置は、スリット状の照明光を発生する複数の光源と、前記の複数の光源から発生された光の物体からの反射光を撮像する撮像装置とからなる。例文帳に追加

This optical inspection device comprises a plurality of light sources which emit slit-like illuminating light, and an image pickup device for picking up the image of the reflected light, reflected from the object, of the light emitted from the plurality of light sources. - 特許庁

少なくとも１つの凹面反射鏡（ＣＭ）と複数のレンズ成分（Ｌｉ）とを備え、第１面（Ｍ）上において所定方向に沿って延びたスリット状のパターンの像を第２面（Ｐ）に投影する反射屈折型の投影光学系。例文帳に追加

This cata-dioptric type projection optical system is equipped with at least one concave reflection mirror (CM) and plural lens components (Li), and projects the image of a slit-shaped pattern extended in a specified direction on a first surface (M) to a second surface (P). - 特許庁

光学走査装置１０は、基板１１上に設けられ光ビームＬを発するＬＤ１２と、光ビームＬの光路上に順次配置されたコリメータレンズ１３、及び、スリット板１４が設けられている。例文帳に追加

The optical scanning device 10 is provided with a laser diode LD12 which is furnished on a substrate 11 and emits an optical beam L, a collimator lens 13 and a slit plate 14 which are successively arranged on the optical path of the optical beam L. - 特許庁

この発明の光学式エンコーダによれば、受光部１０２Ａが、対向するスリット１０５の個数３と移動情報信号の個数４との公倍数の個数１２だけフォトダイオード１０８を有した。例文帳に追加

In this optical encoder of the present invention, the photoreception part 102A has photodiodes 108 of 12 which is a common multiple of 3 of the number of opposed slits 105 and 4 of the number of the moving information signals. - 特許庁

光学式エンコーダでの回転角測定用の回転板３は、所定パターンのスリットが形成された複数のトラックが反射面６２ａから光センサ５への光路上に位置するように設置される。例文帳に追加

A rotary disk 3 for measuring the rotation angle in the optical encoder is installed to position a plurality of tracks formed with a prescribed pattern of slit on an optical path from the reflecting face 61a to the optical sensor 5. - 特許庁

光出射部１２０には、スケール１１０の移動方向に沿って光学的特性が周期的に変化しているスケールスリット１２４が設けられている。例文帳に追加

The light emitting part 120 is provided with a scale slit 124 in which optical property cyclically changes along a moving direction of the scale 110. - 特許庁

光学プローブの開口形状を、長方形状、長円形状などのスリット状にし、かつ、開口に入射する光電界の振動方向が開口の長軸と平行になるように入射光を導く。例文帳に追加

An opening shape of the optical probe is formed into a slitlike shape such as a rectangular shape or an ellipse shape, and incident light is guided to make the vibrational direction of a photoelectric field incident onto the opening parallel to a major axis of the opening. - 特許庁

フェルール型光部品において、レンズ機能、光学素子等付加する為、先球加工、中間スリット加工、素子固定等、別途精密加工プロセスが必要で、製造プロセスが複雑、困難である。例文帳に追加

To solve the following problem: separate precision working processes such as hemispherical-end processing, middle slit processing, element fixing, and the like to provide a ferrule type optical component with a lens function, optical elements, and the like, and the manufacturing processes are complex and difficult. - 特許庁

Δｚｄの公差を緩和して、製造容易な公差を実現し、安価で量産可能な３重スリット方式の光学式エンコーダを提供すること。例文帳に追加

To provide an inexpensive and mass-producible triple slit type optical encoder capable of moderating a tolerance of a ▵zd to provide a tolerance allowing easy manufacturing. - 特許庁

そして、多点ＡＦ系を用いてパターン板９０の光軸方向位置及び傾斜をサーボ制御しつつパターン板９０を用いてスリットスキャン方式の空間像計測を繰り返して投影光学系の像面を検出する。例文帳に追加

Then the image plane of the projecting optical system is detected by repeating slit scanning type spatial image measurement by using the pattern plate 90 while servo-controlling the optical axis direction and inclination of the pattern plate 90 by using the multi-point AF system. - 特許庁

光近接効果（ＯＰＣ）スリットを用いたレーザマスクリペア装置で、加工光学系の解像度以上の分解能を有する修正加工を実現する。例文帳に追加

To provide a laser mask repair device which uses an optical proximity correction (OPC) slit and performs a correction working having a resolving power of the resolution of a working optical system or more. - 特許庁

この光学式エンコーダが備える受光装置５では、複数の受光部５_１〜５_４は、それぞれ、受光領域の移動方向Ｘの寸法が移動体１のスリット３の移動方向Ｘの寸法よりも長い。例文帳に追加

In a light reception device 5 provided for the optical encoder, the size of each light reception region of a plurality of the light reception parts 5_1-5_4 in the direction X of movement is smaller than the size of a slit 3 of the mobile body 1 in the direction X of movement. - 特許庁

光学式圧力計１０は、ダイヤフラム１１と、隔壁１４と、スリット１５と、発光素子１６と、検出用受光素子１７と、を備えたことを特徴とする。例文帳に追加

An optical pressure gauge 10 includes the diaphragm 11, a partition 14, a slit 15, a light emitting element 16, and a light receiving element 17 for detection. - 特許庁