「全絶縁」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

これら３本の導体全ておよびそれを包囲する絶縁部は、絶縁外挿内に密閉されている。例文帳に追加

These three leads and an insulating part surrounding these lead are hermetically sealed within an insulation inserter. - 特許庁

完全絶縁破壊寿命を伸張させることができる絶縁ゲート型半導体素子を提供する。例文帳に追加

To provide an insulating gate semiconductor element capable of extending the lifetime of the hard breakdown. - 特許庁

内部電極を全面に配置し、対向する交互の電極の絶縁を一層おきにガラス等の絶縁物で絶縁したものを用いる。例文帳に追加

The internal electrodes are arranged over the whole surface, and alternate electrodes facing with each other are insulated by an insulating material such as glass at every time layers. - 特許庁

好ましくは、層間絶縁膜の全てが無機絶縁膜で作製され、無機絶縁膜は低温ＣＶＤ法で形成されている。例文帳に追加

Preferably, all the inter-layer insulating films are made of inorganic insulating films and the inorganic insulating films are formed by a low temperature CVD method. - 特許庁

メタ型全芳香族ポリアミド電気絶縁紙例文帳に追加

META-TYPE WHOLLY AROMATIC POLYAMIDE ELECTRIC INSULATING PAPER - 特許庁

絶縁破壊検出装置及びそれを備えた安全装置例文帳に追加

INSULATION BREAKDOWN DETECTOR AND SAFETY DEVICE - 特許庁

ギアポンプ２１は、全体を絶縁性材料で形成した。例文帳に追加

The gear pumps 21 are wholly formed of an insulating material. - 特許庁

次に、層間絶縁膜７を全面に形成する。例文帳に追加

Then, an inter-layer insulating film 7 is formed on the entire surface face. - 特許庁

そして、全面に第２の層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加

Then a second inter-layer insulation film is formed over the whole surface. - 特許庁

次に、絶縁膜２５を全面に形成する。例文帳に追加

Next, an insulating film 25 is formed to the entire surface. - 特許庁

次いで、絶縁樹脂層８を完全に硬化する。例文帳に追加

Then the insulating resin layer 8 is completely cured. - 特許庁

コイルターン間絶縁健全性評価装置及び方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR EVALUATING INTEGRITY OF INSULATION BETWEEN COIL TURNS - 特許庁

したがって、段差部４の箇所は完全に電気的絶縁性を帯び、しかも、半絶縁性基板１の段差部４の下部に絶縁注入部６を形成することとなるため、電気絶縁性を有する段差部４及び絶縁注入部６により素子間を完全に絶縁することができる。例文帳に追加

Thus, since the part of the step part 4 completely carries an electrical insulation property and the insulation injection part 6 is formed at the lower part of the step part 4 of the semi-insulating substrate 1, the elements are completely insulated by the step part 4 provided with the electrical insulating property and the insulation injection part 6. - 特許庁

絶縁膜４４は、周囲を凸部４７によって囲まれて孤立した多数の凹部４６が不規則に配置された第一の絶縁層４５と、絶縁層４５の全体を覆う第二の絶縁層４９とを備えている。例文帳に追加

The insulation film 44 is provided with a first insulation layer 45 comprising many recessing parts 48 with their circumferences surrounded by projecting parts 47, isolated and irregularly arranged and a second insulation layer 49 covering the whole of the insulation layer 45. - 特許庁

本発明に係る半導体装置は、ＳＯＩ基板１０、活性領域３ａ、第一の絶縁膜（完全分離絶縁膜）３ｂ、第二の絶縁膜（部分分離絶縁膜）３ｃ、およびコンタクト部４を備えている。例文帳に追加

The semiconductor device has an SOI substrate 10, an active region 3a, a first insulation film 3b (a completely separating insulation film), a second insulation film 3c (a partially separating insulation film), and a contact portion 4. - 特許庁

材料ガス供給装置１０は、貫通穴６ｂ内の全長に渡って設けられ主絶縁体６の絶縁耐力よりも高い絶縁耐力をもつ材料からなる絶縁管部１２を有する。例文帳に追加

The material gas supply device 10 has an insulating tube 12 that is provided over the entire length in the through hole 6b and is made of a material having higher dielectric strength than that of the main insulator 6. - 特許庁

平角導体の全周にわたって均一な厚さの絶縁被膜を形成でき、作業性・生産性がよい絶縁被膜を提供する絶縁塗料と、この塗料を塗布・焼付された絶縁電線を提供する。例文帳に追加

To provide an insulation coating by which an insulation film of a uniform thickness can be formed over an entire circumference of a flat conductor and an insulation film with good workability and productivity can be provided, and to provide an insulated wire with the coating applied and baked. - 特許庁

巻線の一部分のコイル絶縁層の誘電正接またはコイル絶縁層充電電流を測定し、コイル絶縁層の健全性を評価するコイル絶縁層評価装置及び評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide a coil-insulating layer evaluating device and its evaluating method for evaluating the soundness of coil insulating layers by measuring the dielectric loss tangent of the insulating layers or a coil-insulating layer charging current in part of windings. - 特許庁

絶縁膜４４は、周囲を凸部４７によって囲まれて孤立した多数の凹部４６が不規則に配置された第一の絶縁層４５と、絶縁層４５の全体を覆う第二の絶縁層４９とを備えている。例文帳に追加

The films 44 have first insulating layers 45 arranged irregularly with a multiplicity of recessed parts 46 isolated by enclosing with the projecting parts 47 its circumference and second insulating layers 49 covering the entire part of the layers 45. - 特許庁

そして、内側架橋ポリエチレン絶縁層１２に含まれる架橋成分の外側ポリエチレン絶縁層１３への移行により内側架橋ポリエチレン絶縁層１２と外側ポリエチレン絶縁層１３の全体を架橋ポリエチレン化させて架橋ポリエチレン絶縁層１４を形成する。例文帳に追加

Then, by the movement of cross-linked part contained in the inner polyethylene layer 12 to the outer polyethylene insulated layer 13, the whole inner polyethylene insulated layer 12 and the outer polyethylene insulated layer 13 is turned into cross-linked polyethylene to form a cross-linked polyethylene insulated layer 14. - 特許庁

第１の絶縁膜６の上面を覆いエミッタ電極１１の側面の外周を覆う側壁状の第２の絶縁膜８が形成されており、さらに第２の絶縁膜８の全外周と前記第１の絶縁膜６の側面を覆う第３の絶縁膜１０が形成されている。例文帳に追加

Sidewall-like second insulating films 8, which cover the upper face of the first insulating film 6 and cover the outer periphery of the side of the emitter electrode 11, are formed, and a third insulation film 10 which covers the whole outer periphery of the second insulation films 8 and the side of the first insulating film 6 is formed. - 特許庁

その後、前記第２絶縁スペーサ１４８ａを完全に除去する。例文帳に追加

Subsequently, the second insulation spacers 148a are completely eliminated. - 特許庁

次に、半導体基板１全面に絶縁膜５を形成する。例文帳に追加

An insulation film 5 is formed over the entire surface of a semiconductor substrate 1. - 特許庁

つまり、可動エレメント５Ａ全体を熱絶縁部５１Ａとして形成した。例文帳に追加

That is, the movable element 5A is totally formed as the heat insulating part 51A. - 特許庁

回路基板の表面全域には第1の絶縁層１７Ａが形成される。例文帳に追加

A first insulating layer 17A is formed on the whole surface of the circuit board. - 特許庁

また、基板の全面に絶縁膜で保護層１５９をさらに形成する。例文帳に追加

A protective layer 159 is formed on the entire surface of the substrate by using an insulation film. - 特許庁

完全に一体化された電極貫通主絶縁体を有するレーザチャンバ例文帳に追加

LASER CHAMBER WITH FULLY INTEGRATED ELECTRODE FEEDTHROUGH MAIN INSULATOR - 特許庁

絶縁板３と安全弁装置９の間に支持部材１４を配置する。例文帳に追加

A supporting member 14 is placed between the insulation plate 3 and the safety valve 9. - 特許庁

マグネット１２の１つの面の全面に、絶縁皮膜１４を形成する。例文帳に追加

An insulating coating 14 is formed on the whole one face of the magnet 12. - 特許庁

電源装置におけるトランスレス型安全絶縁のための方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR TRANSFORMERLESS SAFETY INSULATION IN POWER SUPPLY UNIT - 特許庁

その後、全面に層間絶縁膜１２７及びＩＴＯ膜を形成する。例文帳に追加

An interlayer insulating film 127 and an ITO film are formed over a whole face. - 特許庁

電気回路の配線の絶縁の健全性を検証するテスター例文帳に追加

TESTER FOR VERIFYING INTEGRITY OF INSULATION OF ELECTRIC CIRCUIT WIRING - 特許庁

保護材(10)の表面は絶縁材(9)の裏面全体を覆う。例文帳に追加

The surface of a protective material (10) covers the entire undersurface of the insulating material (9). - 特許庁

中間コア片123は、全周面を覆う絶縁被覆層を備える。例文帳に追加

The intermediate core pieces 123 each have an insulating coating layer covering all the peripheral surfaces. - 特許庁

変圧器等のＰＣＢ含有絶縁油の全量無害化処理方法例文帳に追加

METHOD FOR DETOXICATING ALL OF PCB-CONTAINING INSULATING OIL IN TRANSFORMER, ETC. - 特許庁

更に、この構造全体を覆う形態で絶縁層３２が形成されている。例文帳に追加

Further, an insulating layer 32 is formed to cover the whole structure. - 特許庁

電気絶縁線輪、全含浸コイルおよびこれらを用いた回転電機例文帳に追加

ELECTRIC INSULATION COIL, TOTAL IMPREGNATION COIL, AND ROTATING-ELECTRIC MACHINE USING THESE - 特許庁

放電電極２０の全表面を絶縁体２２で被覆する。例文帳に追加

The whole surface of a discharge electrode 20 is coated with an insulator 22. - 特許庁

次いで、全面的に絶縁層３００を形成し、浅溝槽を充たす。例文帳に追加

Next, an insulation layer 300 is formed over its entirety to fill the shallow trench tank. - 特許庁

ゲート絶縁膜７におけるトレンチ６の側面を覆う部分の全域には、ゲート電極８がゲート絶縁膜７に沿って形成されている。例文帳に追加

Over the entire region that covers the side surface of the trench 6 in the gate insulating film 7, a gate electrode 8 is formed along the gate insulating film 7. - 特許庁

その後、未反応のチタン膜１４が除去され、絶縁膜１１の全面に層間絶縁膜１６が堆積される。例文帳に追加

Then, the unreacted titanium film 14 is removed, and an interlayer insulation film 16 is piled up on the entire surface of the insulation film 11. - 特許庁

絶縁膜２及び金属配線３が形成された半導体基板１の主面上の全面に層間絶縁膜４を形成する。例文帳に追加

An interlayer insulation film 4 is formed entirely on the major surface of a semiconductor substrate 1 on which an insulation film 2 and a metal wiring 3 is formed. - 特許庁

この有機物絶縁層３の厚みを大きくすることにより、ゲート絶縁層５全体の厚みを容易に大きくすることができる。例文帳に追加

The organic insulation layer 3 is made large in thickness so as to easily make the gate insulation layer 5 large in entire thickness. - 特許庁

次に、全面にゲート絶縁膜１８が形成され、このゲート絶縁膜１８上にポリシリコン膜１９が形成される。例文帳に追加

The gate insulating film 18 is then formed on the entire surface and a polysilicon film 19 is formed on this gate insulating film 18. - 特許庁

所要形状に成型された基材２０の全面に絶縁性の親水化処理を施して絶縁性の親水化処理２１を形成する。例文帳に追加

An insulating hydrophilic treatment layer 21 is formed, by applying insulating hydrophilic treatment to the entire surface of a base material 20 molded at a required shape. - 特許庁