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厚明の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4323件
本発明は、半導体プロセスに影響することがなく、再生可能なダミーウェーハを用い、簡易に膜厚測定を行うことが可能な膜厚測定方法、気相成長装置および膜厚測定装置を提供する。例文帳に追加
To provide a film thickness measuring method in which film thickness can be easily measured using a reproducible dummy wafer without affecting a semiconductor process, a vapor phase growth method, and a film thickness measuring instrument. - 特許庁
本発明にかかる溶接継手の接合部端縁Cは、板状母材1の厚さよりも板厚が厚くなるように、裏側Bに突出する突起部2が形成される。例文帳に追加
The end edge C in the joined part of the welded joint is formed as projecting part 2 projected at the back side B so that the plate thickness is thicker than the thickness of a platy basis material 1. - 特許庁
副画素領域A1には透明樹脂膜51が形成されており、これにより副画素領域A2の液晶層の厚さが副画素領域A1の厚さよりも厚くなっている。例文帳に追加
A transparent resin film 51 is formed in the sub-pixel region A1 and thereby the thickness of a liquid crystal layer in the sub-pixel region A2 is made larger than the thickness of the liquid crystal layer in the sub-pixel region A1. - 特許庁
常温(25±3℃)で前記2層の透明基板の厚い方の厚みよりも更に厚い厚みの透明基板厚みにおいて、前記対物レンズのレンズチルト時に発生する3次コマ収差量と前記レンズチルト角度と同一角度量だけディスクをチルトさせた時に発生する3次コマ収差量とが等しくなるポイントが存在するようにする。例文帳に追加
In thickness of a transparent substrate having thickness being thicker than thickness of a transparent substrate of two layers at normal temperature (25±3°C), a point, where the third coma aberration quantity caused when lens tilt of the objective lens becomes equal to the third coma aberration quantity caused when the disk is tilted by the same angle quantity as the lens tilt angle, exists. - 特許庁
本発明は、膜厚分布が悪化することを抑制し、均一な膜厚の炭素膜を有するプレス成形用ガラス素材を製造するものであって、かつ比較的厚い膜厚を短時間で成膜することができるプレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置を提供する。例文帳に追加
To provide a method and an apparatus for manufacturing a glass material for press-molding which are for manufacturing a glass material for press-molding having a carbon film of a uniform film thickness by suppressing the deterioration of film thickness distribution, and can form a film having a comparatively thick film thickness in a short time. - 特許庁
カラーフィルタ又はダミー基板の透明導電膜3の膜厚を連続測定して累計膜厚を算出し、累計膜厚が、予め設定された累計膜厚(1)に達した時点で、エッチング液を補充、或いは更新するエッチング液の管理方法。例文帳に追加
In the management method of the etching liquid, film thickness of the transparent conductive film 3 of the color filter or the dummy substrate is continuously measured to calculate accumulated total film thickness; and when the accumulated total film thickness reaches a predetermined accumulated total film thickness (1), the etching liquid is supplemented or exchanged. - 特許庁
本発明の燃料電池は、アノード,カソードの少なくとも一方が固体高分子電解質膜に埋め込まれた構造を有し、電極周辺の電解質厚みが電極間の電極厚みとアノード厚みとカソード厚みの和よりも大きいことを特徴とする。例文帳に追加
The fuel cell is configured such that at least one of an anode and a cathode is embedded in a solid polymer electrolyte membrane, and the thickness of an electrolyte in the periphery of the electrode is larger than the sum of the thickness of the electrode between electrodes, the thickness of the anode and the thickness of the cathode. - 特許庁
ピークバレー法により算出した膜厚値は、対物レンズの開口数に応じた照明光の斜入射の影響を含む膜厚値であるという仮定のもとに、ピークバレー法により算出した膜厚値を補正して真の膜厚値とする。例文帳に追加
A film thickness value calculated by a peak valley method is corrected to bring the true film thickness value in assumption that the film thickness value calculated by the peak valley method is a film thickness value including an influence of diagonal incidence of the illumination light in response to the numerical aperture of the objective lens. - 特許庁
一対の対向部2を有する反射板1と、対向部2に取付けられる略板状の遮光部材3とを備えた照明器具において、遮光部材3の板厚が少なくとも2種類以上の厚みとなるように、板厚の厚い部分7と薄い部分とを設けた。例文帳に追加
A lighting fixture equipped with a reflective plate 1 having a pair of facing sections 2 and an approximately plate-like shielding member 3 attached to the facing sections 2 has a thick section 7 and a thin section of the thickness of a member 3 so that the thickness becomes at least two kinds of thickness. - 特許庁
本発明の要旨は、基板の厚さを70μm〜100μmとし、表電極上層膜の厚さを10μm〜25μmにするとともに表電極下層膜の厚さを7μm以下とし、チップ形抵抗器の総厚を132μm以下としたことを特徴とする基板内蔵用チップ形抵抗器にある。例文帳に追加
In the chip type resistor built in the substrate, the thickness of the substrate is 70-100μm, the thickness of a surface electrode upper layer film is 10-25μm, the thickness of a surface electrode lower layer film is 7μm or less, and the total thickness of the chip type resistor is 132μm or less. - 特許庁
本発明の高周波信号用スイッチは、可動構造体の厚さは支持脚の厚さより厚く、かつ可動構造体の最大の部分と最小の部分の厚さの比が1.4以下であることを特徴とし、可動部分の変形を防止している。例文帳に追加
As for this switch for high frequency signal, the thickness of a movable structure 23 is thicker than that of a support leg 22, and a movable portion is prevented from being deformed since the thickness ratio between the maximum part TE and the minimum part TC of the movable structure is made to be 1.4 or less. - 特許庁
本発明のガラスパイプの製造方法は、内付けCVD法の基板となるガラスパイプGの内側に、まず、肉厚計測器33によりガラスパイプGの肉厚を計測し、肉厚を計測した結果に基づいて、ガラスパイプGの肉厚を長手方向で均一となるように調整する。例文帳に追加
In the method of manufacturing the glass pipe, the thickness of the glass pipe G to serve as a substrate for the inside chemical vapor deposition (CVD) is measured by a thickness measuring instrument 33 and is controlled to be uniformized in the longitudinal direction. - 特許庁
透明導電材料は、基材(A)の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、層厚が光学膜厚で100〜175nmの中間屈折率層(B)、層厚が光学膜厚で10〜60nmの導電層(C)が積層されたものである。例文帳に追加
This transparent conductive material is formed by laminating an intermediate refractive index layer (B) having a layer thickness in optical film thickness of 100-175 nm and a conductive layer (C) having a layer thickness in optical film thickness of 10-60 nm in order from a substrate side directly or through one or more layers on one surface or booth surfaces of a substrate (A). - 特許庁
明治以降も引き続き研究が進み、しかも明治20年ころのものでも和算の影響が濃厚である。例文帳に追加
The study on kiku-jutsu developed well into Meiji period, and the strong influence of wasan was palpable even as late as 1887. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
屋外では浮いた感じになる厚化粧も、屋内の、蝋燭の明かり程度の明るさでは調和する場合が多い。例文帳に追加
While this kind of atsugesho does not look very good outdoors, it often harmonizes with the level of light created by candles indoors. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
五代友厚(ごだいともあつ、天保6年12月26日(旧暦)(1836年2月12日)-明治18年(1885年)9月25日)は、江戸末期の武士・薩摩藩士、明治期の実業家。例文帳に追加
Tomoatsu GODAI (February 12, 1836-September 25, 1885) was a Japanese samurai who served as a feudal retainer of the Satsuma clan at the end of the Edo period, and a businessman in the Meiji period. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
すなわち、請求項に係る発明は、ポリエチレン樹脂層の厚さに関する数値を限定している点を除き、引用発明と同一である。例文帳に追加
Namely, the claimed invention is identical to the cited invention except for numerical limitation about the thickness of the polyethylene resin layer. - 特許庁
日中韓特許庁は、請求項に係る発明と引用発明との相違は「厚さ0.05~0.3mm」という特徴のみであると判断した。例文帳に追加
The three offices hold that the only difference between the claimed invention and the cited invention is the feature of "thickness of 0.05 to 0.3 mm". - 特許庁
金属がコーティングされた透明基板からなりバイオチップであり、透明基板の厚みが1.20mm〜4.00mmの範囲とする。例文帳に追加
The biochip comprises a transparent substrate coated with a metal and the thickness of the transparent substrate is 1.20-4.00 mm. - 特許庁
透明アノード電極14と厚膜透明電極19との間には発光層17が設けられている。例文帳に追加
A light emission layer 17 is provided between a transparent anode electrode 14 and a thick transparent electrode 19. - 特許庁
好ましくは、アノード4を透明電極とし、この透明電極の厚みを20nm以下の金属薄膜層として形成する。例文帳に追加
Preferably, the anode 4 is made a transparent electrode and the transparent electrode is formed as a metal film layer having a thickness of 20 nm or less. - 特許庁
立体的で透明感のある宝石のような質感を備えた透明な厚盛加飾が施された陶磁器およびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a transparently and thickly decorated ceramic having three dimensional and transparent feeling and provided with a texture just like that shown by a jewel and a method of manufacturing the same. - 特許庁
記録材料を保護する透明層の厚みの影響を受けない対物レンズの開口数および透明層の材質を提供する。例文帳に追加
To provide a numerical aperture of an objective lens and a material for a transparent layer unaffected by the thickness of a transparent layer protecting a recording material. - 特許庁
プロジェクタ等の照明系を厚みを増加させないで明るくすることができるレンズアレイ等を提供すること。例文帳に追加
To provide a lens array or the like capable of making an illumination system of a projector or the like bright without increasing thickness thereof. - 特許庁
透明膜で覆われた測定対象物の透明膜の膜厚、表面高さ、および測定対象物の表面高さを精度よく求める。例文帳に追加
To accurately determine thickness and surface height of a transparent film of a measured object covered with the transparent film, and surface height of the measured object. - 特許庁
透明体が幅方向および厚み方向に変位しても、透明体のエッジ位置を正確に検出できるエッジ検出装置を提供する。例文帳に追加
To provide an edge-detecting device, capable of accurately detecting an edge position of a transparent body, even if the transparent body is displaced in the width direction and in the thickness direction. - 特許庁
照明管2の色または厚みを周方向に変化させることにより、照明管2からの透過光の特性を周方向で不均一にする。例文帳に追加
By changing the color or thickness of the illumination tube 2 in circumferential direction, characteristics of the transmitted light from the illumination tube 2 is made uneven in the circumferential direction. - 特許庁
成膜時の膜均一性を保持し、膜厚均一性、透明度、抵抗値などの品質に優れた透明導電膜を作製することを目的とする。例文帳に追加
To deposit a transparent conductive film keeping film uniformity in the film deposition and having excellent quality of film thickness uniformity, transparency and resistance. - 特許庁
また、本発明には、本発明に係る方法で製造したフィンFET、厚ボディ・デバイス、およびチップが含まれる。例文帳に追加
This invention also includes the FinFET, thick-body device, and a chip manufactured by the methods associated with the invention. - 特許庁
製造した透明基板の板厚のむらを容易に確認できるようにする透明基板の検査方法を提供する。例文帳に追加
To provide an inspection method of a transparent substrate, wherein the unevenness of the thickness of a manufactured transparent substrate is easily confirmed. - 特許庁
透明膜の屈折率測定方法およびその装置並びに透明膜の膜厚測定方法およびその装置例文帳に追加
REFRACTIVE INDEX MEASURING METHOD OF TRANSPARENT FILM, DEVICE THEREFOR, FILM THICKNESS MEASURING METHOD OF TRANSPARENT FILM AND DEVICE THEREFOR - 特許庁
この発明は、外観的に金属板の板厚による制約を破るような微細孔を金属板に形成するようにしたエッチング手段によりその板厚より細かな微細孔を形成する方法及び半透明金属厚板を提供する。例文帳に追加
To provide the method for forming pores finer than the sheet thickness by an etching means by which fine pores irrespective of the sheet thickness of a metallic sheet are formed of the metallic sheet, and to provide a translucent metallic thick plate. - 特許庁
透明電極層及び光電変換層が形成された基板面内の任意の位置における透過率と、予め測定された透明電極層ヘイズ率及び第1セル層膜厚とに基づき、第2セル層の膜厚を算出する工程とを含む膜厚計測方法。例文帳に追加
The film thickness measuring method includes a process of calculating the film thickness of the second cell layer on the basis of transmissivity at an optional position within the substrate surface where a transparent electrode layer and a photoelectric conversion layer are formed and a transparent electrode layer haze ratio and a first cell layer film thickness measured beforehand. - 特許庁
層間絶縁膜4のコンタクトホール5周縁部は2層目の透明電極7の厚さに対してさらに1層目の透明電極6の厚さを加えた厚さが確保できるため、コンタクトホール5周縁部におけるクラック発生が防止される。例文帳に追加
The occurrence of a crack at the peripheral part of the contact hole 5 is prevented, since the thickness obtained by adding the thickness of the transparent electrode 6 of the first layer to the thickness of the transparent electrode 7 of the second layer can be secured at the peripheral part of the contact hole 5 in the interlayer insulating film 4. - 特許庁
そのようにすれば、その溝13が形成された透明肉厚部11の表面に配向剤をローラで塗布する際、余剰の配向剤がその溝13を通じて透明肉厚部11の両脇に誘導されるので、液溜りが解消され、配向膜の膜厚ムラが発生するおそれがない。例文帳に追加
Consequently, when the surface of the transparent thick portion 11 where the groove 13 is formed is coated with the aligning agent by a roller, an excessive aligning agent is guided to both sides of the transparent thick portion 11 through the groove 13, so no liquid pool is formed and the alignment film never has uneven film thickness. - 特許庁
かかる第1の光ディスク規格により規定されたディスク厚と当該第1のディスク部の厚みとの差分に応じた厚みを有する透明基板部と、透明基板部を光ディスクにおける第1のディスク部側に固定する固定部とを設けるようにした。例文帳に追加
The adapter apparatus is provided with a transparent substrate part having a thickness corresponding to the difference between the disk thickness regulated by the first optical disk specification and the thickness of the first disk part and a fixing part for fixing the transparent substrate part to the first disk part side of the optical disk. - 特許庁
本発明は、本発明は、モールドの残留厚さをモニタしながらレーザ加工を行うことにより、ICにダメージを与えない最小厚さまでモールドをレーザ加工できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a laser beam machining apparatus capable of performing the laser machining of a mold to the minimum thickness not to damage an IC by performing the laser beam machining while monitoring the remaining thickness of the mold. - 特許庁
そして、レンズ枠21の断面肉厚は、明るさ絞り27の外径寸法を最小な外径寸法に形成したため、この明るさ絞り27近傍において最も厚肉に形成される。例文帳に追加
The sectional thickness of lens frame 21 is formed to be the largest in the vicinity of the brightness diaphragm 27 since the outside diameter size of the brightness diaphragm 27 is formed to be the smallest. - 特許庁
本発明は、本発明は、層厚規制部材により現像ローラの表面に形成されるトナー層に生じる層厚の異常を再び均一化することができる現像装置を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a developing apparatus for re-uniformizing the irregular layer thickness occurring in a toner layer formed on the surface of a development roller by a layer thickness regulating member. - 特許庁
続いて実質的に透明な板状の第2の基材3として同様にコーニング社製無アルカリガラス1737(厚さ0.5mm)を用いその厚さ方向の一方の面に実質的に透明な半導体回路2を形成した。例文帳に追加
Subsequently, as a substantially transparent planar second substrate 3, likewise a non-alkali glass 1737 (thickness 0.5 mm) made by Corning Co., Ltd. is used and a substantially transparent semiconductor circuit 2 is formed on one side surface of the thickness direction. - 特許庁
外周径を必要以上に大きくせずに側面厚を厚くすることができ、しかも照明窓からの照明光を遮ることもなく、変形や折れ曲がりを防止する。例文帳に追加
To increase the thickness of a side face without enlarging the outer diameter more than necessary and prevent deformation and bending without shielding the illumination light from an illumination window. - 特許庁
厚みの異なる部分を有する樹脂製の照明用レンズにおける厚みの大きい部分の表面に凹部が形成されるのを抑制可能な照明用レンズおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a lens for illumination and its manufacturing method wherein a situation is suppressed that a recess part is formed on the surface of a large thickness part in the lens for the illumination made of a resin having a part where thickness is different. - 特許庁
透明薄膜の厚さと表面形状を同時に測定することのできる、白色光干渉計を用いた透明薄膜の厚さ及び形状の測定装置及び方法を提供する。例文帳に追加
To provide an apparatus and method for measuring the thickness and profile of a transparent film using a white-light interferometer, capable of simultaneously measuring the thickness and surface profile of the transparent thin film. - 特許庁
また、透明基板1は、各辺の長さと厚さの関係が、透明基板1の厚さをbとし、各辺の長さを4bで割ると、0.5以上10以下となる。例文帳に追加
If b is defined as being the thickness of the transparent substrate 1 and the length of each side is divided by 4b, the relation between the length of each side and the thickness becomes at least 0.5 and not more than 10. - 特許庁
厚みを低減できる導光板、及び厚みを低減可能であると共に異音が生じずに動きにロスが生じない操作ボタン照明機構、及びこの操作ボタン照明機構を用いたオーディオ装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a light guide plate which can have reduced thickness, an operating button illumination structure which can have reduced thickness and does not generate movement loss without generating abnormal noise, and an audio device which uses the operating button illumination structure. - 特許庁
光学記録媒体の許容傾き角をΘ(°)、透明保護層3の厚さをt(μm)としたとき、Θ≦84.115・λ/{(NA)^3 ・t}を満足するように透明保護層3の厚さtを選ぶ。例文帳に追加
Thickness (t) of the transparent protective layer 3 is so selected as to satisfy Θ≤84.115.λ/{(NA)3.t}, when the permissible inclination angle of the optical recording medium is defined as Θ(°) and the thickness of the transparent protective layer 3 as t (μm). - 特許庁
効率よく透明ガスバリアフィルムの膜厚が測定でき、更に均一な膜厚組成を有する透明バリアフィルムの製造装置および製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a device and a method for manufacturing a transparent barrier film in which the film thickness of the transparent gas barrier film can be efficiently measured, and the film thickness and the composition are uniform. - 特許庁
透明導電膜4aを含むコンタクト部CONの層厚dcが、透明導電膜4bからなる画素電極4の開口部Wの層厚dwよりも大きい。例文帳に追加
The portion dc of the layer of the contact part CON including the transparent conductive film 4a is thicker than the portion dw of the layer of the opening part W of the pixel electrode 4 consisting of a transparent conductive film 4b. - 特許庁
従来の始動(曲線20)に比べて明らかに向上した当初の印刷のインキ厚(曲線21)、ならびに印刷物で満足のいくインキ厚が得られるまでの時間の明らかな減少(曲線22,23)が達成されている。例文帳に追加
The thickness of the ink in initial printing (curve 21) improved evidently in comparison with that by usual startup (curve 20) and evident reduction of time (curves 22 and 23) until a satisfactory thickness of the ink is obtained in a print are attained. - 特許庁
透明基板上に堆積させた透明膜や吸収膜の誘電率テンソルと膜厚を同時に決定できるように改良したラングミュア・ブロジェット膜の膜厚と誘電率分散の同時決定方法を提供する。例文帳に追加
To provide a simultaneous determination method of the film thickness and dielectric constant dispersion of a Langmuir-Blodgett film, improved so as to be able to determine simultaneously dielectric constant tensor and the film thickness of a transparent film or an absorption film deposited on a transparent substrate. - 特許庁
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