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蒸着重合法の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 51



例文

連続式蒸着重合法例文帳に追加

CONTINUOUS DEPOSITION POLYMERIZATION PROCESS - 特許庁

ここで、蒸着重合被膜は、蒸着重合法により形成される被膜である。例文帳に追加

The vapor deposited and polymerized film 5 is a film formed by a vapor deposition and polymerization method. - 特許庁

真空蒸着重合装置及びこれを用いた有機被膜の形成方例文帳に追加

VACUUM DEPOSITION POLYMERIZATION SYSTEM AND METHOD FOR DEPOSITING ORGANIC FILM USING THE SYSTEM - 特許庁

蒸着重合高分子膜被覆体の表面親水化方例文帳に追加

SURFACE HYDROPHILIZATION METHOD FOR VAPOR PHASE DEPOSITION POLYMERIZATION POLYMER MEMBRANE-COVERED BODY - 特許庁

例文

アセチレン基を含む有機化合物、その蒸着重合法、その蒸着重合薄膜及びその薄膜を使用した電気発光素子例文帳に追加

ACETYLENE GROUP-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, METHOD FOR VACUUM DEPOSITION POLYMERIZATION THEREOF, VACUUM DEPOSITION-POLYMERIZED THIN FILM THEREFROM AND ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING THE THIN FILM - 特許庁


例文

有機高分子薄膜の作製方およびその方に用いる蒸着重合装置例文帳に追加

METHOD FOR ORGANIC POLYMER THIN FILM FORMATION AND APPARATUS FOR DEPOSITION POLYMERIZATION USED FOR THE METHOD - 特許庁

短時間で均質な膜厚の薄膜を蒸着重合法により得ることにある。例文帳に追加

To obtain a thin film of uniform film thickness in a short period of time by a vapor deposition polymerization method. - 特許庁

モノマー蒸発量制御装置及び蒸着重合装置並びにモノマー蒸発量の制御方例文帳に追加

APPARATUS FOR CONTROLLING EVAPORATION QUANTITY OF MONOMER, VAPOR DEPOSITION POLYMERIZER, AND METHOD FOR CONTROLLING EVAPORATION QUANTITY OF MONOMER - 特許庁

脂環式ポリアミンと脂環式ポリイソシアナートを蒸着重合法により重合してなるポリ尿素によって形成された被膜。例文帳に追加

A coating film is formed with polyurea obtained by polymerizing alicyclic polyamine and alicyclic polyisocyanate by a vapor deposition polymerization process. - 特許庁

例文

被成膜処理物に蒸着重合法により成膜する蒸着重合高分子膜被覆体の表面を短時間で親水化することができる親水化方を提供すること。例文帳に追加

To provide a hydrophilization method of hydrophilizing a surface of a vapor phase deposition polymerization polymer membrane-covered body film-formed on an object to be film-formed by a vapor phase deposition polymerization method in a short time. - 特許庁

例文

1つ以上のアセチレン基を含む芳香族化合物、又は多環式脂肪族化合物を真空条件下で蒸着と同時に、あるいは蒸着後に熱処理又は紫外線照射により重合させて有機薄膜を製造する蒸着重合法、その方に従って製造された蒸着重合薄膜及びその薄膜を1層以上に使用した電気発光素子に関する。例文帳に追加

The 1st objective method for vacuum deposition polymerization comprises producing organic thin film by polymerization of an aromatic compound or polycyclic aliphatic compound having at least one acetylene group under a vacuum by heat treatment or ultraviolet irradiation either simultaneously with a vapor deposition or following the vapor deposition, to provide the thin film produced by the above method, and to provide electroluminescent elements each with at least one layer of the above thin film. - 特許庁

蒸着重合高分子膜被覆体の表面親水化方であって、被処理蒸着重合高分子膜被覆体をオゾン雰囲気に曝し、その後、30〜70%湿度雰囲気に放置することを特徴とする。例文帳に追加

In the surface hydrophilization method for the vapor phase deposition polymerization polymer membrane-covered body, the vapor phase deposition polymerization polymer membrane-covered body to be treated is exposed to an ozone atmosphere and thereafter it is left to stand at a humidity atmosphere of 30-70%. - 特許庁

透明被膜層12は蒸着重合法や物理的蒸着といった真空薄膜形成方で容易に成膜でき、ルアーの大量生産にも適するので、製造の低コスト化が図れる。例文帳に追加

Since the transparent coated layer 12 can readily be formed into a film by a vacuum thin film-forming method such as a deposition polymerization method or a physical deposition method and is suitable for mass production of the lure, cost reduction of the lure production can be performed. - 特許庁

蒸着重合法によるポリイミド被膜で表面被覆された希土類系磁石粉末の製造方例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING RARE EARTH BASED MAGNET POWDER HAVING SURFACE COATED WITH POLYIMIDE FILM BY VAPOR DEPOSITION POLYMERIZATION METHOD - 特許庁

蒸着重合法により導電性ワイヤの表面全体にポリイミド膜を付着させるようにした。例文帳に追加

In the bonding wire in the electronic equipment, a polyimide film is stuck on the whole front surface of a conductive wire by a vapor deposition polymerization method. - 特許庁

弾性樹脂表面にポリパラキシリレン皮膜を気相蒸着重合法により形成したことを特徴とする筆記具。例文帳に追加

This writing utensil is characterized in that a polyparaxylylene film is formed on the surface of the elastic resin by a gas phase vapor deposition/polymerization process. - 特許庁

作業性、操作性等に優れ、短時間に大量に生産し得る連続式蒸着重合法の提供。例文帳に追加

To provide a continuous deposition polymerization process which is excellent in workability and operability and capable of being produced in a large amount in a short time. - 特許庁

プラズマ重合されたサイクロ核酸(PPCHex)と、アミン機能性グループを有するプラズマ重合されたエチレンダイアミン(PPEDA)を誘導結合型プラズマ化学気相蒸着を用いて蒸着するタンパク質チップ基板の製造方を構成する。例文帳に追加

In this manufacturing method of a protein chip substrate, plasma polymerized cyclohexane (PPCHex) and plasma polymerized ethylenediamine (PPEDA) having an amine functional group are deposited by using an inductively coupled plasma chemical vapor-phase deposition method. - 特許庁

低温の熱、あるいは紫外線により容易に重合反応を起こすアセチレン基を含む有機化合物;上記の化合物を使用して、ラジカル及び副産物を生成することなく、均一な厚さの有機薄膜を得ることができる蒸着重合法;上記の方により製造された、熱安定性が増加した蒸着重合薄膜;及び上記の薄膜を使用した電気発光素子を提供すること。例文帳に追加

To provide an acetylene group-containing organic compound easily polymerizable by low-temperature heat or ultraviolet irradiation, to provide a method for vacuum deposition polymerization of the organic compound enabling organic thin film of uniform thickness to be obtained without producing any radial and byproduct, to provide such thin film increased in thermal stability through the above method, and to provide electroluminescent elements using the above thin films. - 特許庁

蒸着により重合膜を成膜する際に、原料を加熱して供給する際の上記不都合が生じない重合膜の成膜方および成膜装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a film-forming method and a film-forming device of a polymerizing film by which a trouble does not occur at the time of heating and supplying raw materials when the film formation of the polymerizing film is carried out by evaporative deposition. - 特許庁

本発明の目的は、従来2種以上のモノマーがかかわっていた蒸着重合について、オリゴマーを用いる蒸着重合を考慮することにより、組成の変動がなく、物性を高め、圧電性能に優れた、高感度の、有機圧電素子を製造管理がし易く製造品質が安定に、高収率、安価、容易に、製造できる超音波探触子の製造方を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an ultrasonic probe in which an organic piezoelectric element having no variation in composition, increasing physical properties, excellent in piezoelectric performance, and being highly sensitive can be easily manufactured and managed, manufacturing quality is stabilized, high yield, cheap price and easy manufacturing can be achieved by considering vapor deposition polymerization using an oligomer, regarding vapor deposition polymerization conventionally related to more than two kinds of monomers. - 特許庁

カラーフィルター4は、たとえば蒸着重合法などのドライ成膜により、顔料を層内マイクロ凸レンズ134上に成膜して形成することができる。例文帳に追加

The color filter 4 can be formed by film formation of pigment on the immersed micro- convex lens 134 by a dry film formation method such as vapor deposition. - 特許庁

本発明は電気化学重合によって蒸着されたポリマー層によって薄膜トランジスターのオフセット、及びLDD領域を簡単に形成できる薄膜トランジスターの製造方を提供する。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a thin-film transistor, by which the offset of the thin-film transistor and an LDD region can be simply formed by a polymer layer evaporated by an electrochemical polymerization method. - 特許庁

被成膜処理物に蒸着重合法により成膜するポリ尿素膜の表面を短時間で親水化することができる親水化方を提供すること。例文帳に追加

To provide a surface hydrophilization method capable of rapidly subjecting the surface of a polyurea membrane deposited by a vapor deposition polymerization method on an object to be deposited to hydrophilization. - 特許庁

被成膜処理物に蒸着重合法により成膜するポリ尿素膜の表面親水化方であって、原料ポリマーから生成されるオリゴマーを50〜150℃の温度下で固相重合させながら、オゾン雰囲気に曝すことによりポリ尿素膜を成膜することを特徴とする。例文帳に追加

The surface hydrophilization method for the polyurea membrane deposited by the vapor deposition polymerization method on the object to be deposited comprises depositing the polyurea membrane by exposing an oligomer formed from a raw material polymer to an ozone atmosphere while causing the solid phase polymerization thereof at 50 to 150°C. - 特許庁

生体材料に用いられる金属基材の防食方において、前記金属基材に蒸着重合によりポリイミド被膜を形成することを特徴とする。例文帳に追加

A corrosion protection method for a metal substrate used in the biomaterial is provided, wherein a polyimide coating film is deposited on the metal substrate by vapor deposition polymerization. - 特許庁

セラミックスなどの多孔質部材の表面に蒸着重合法により合成樹脂被膜を形成後、オゾン処理することにより前記多孔質部材に抗菌性を付与することを特徴とする。例文帳に追加

The antibacterial properties are imparted to the porous member by an ozone treatment after forming a synthetic resin coating film by a vapor deposition polymerization on the surface of the porous member such as ceramics. - 特許庁

蒸着重合において、ポリイミド被膜の密着力が低くなることを防止しつつ成膜速度を大きくすることができる成膜基材の製造方を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a base material for film formation, which can increase a deposition rate while preventing lowering of adhesion of a polyimide coating film in vapor-deposition polymerization. - 特許庁

圧力室13を形成する基板に対して、良好な密着性と優れた付き廻り性とを有する蒸着重合法によって、有機高分子の絶縁膜16を成膜した。例文帳に追加

An organic polymer insulation film 16 with good adhesion strength and excellent bonding quality is formed on a substrate which composes a pressure chamber 13 by vapor deposition polymerization. - 特許庁

ポリパラキシリレンなどの蒸着重合膜の成膜においてバリなど膜に浮きが出たりしない封止構造を有する電子デバイスの製造方及び成膜用シャドウマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method and a deposition shadow mask for an electronic device having an encapsulation structure which is free of burrs or like other scums appearing on a film in the deposition of vapor deposition polymerization film of polyparaxylylene, etc. - 特許庁

支持体表面に、該支持体と結合しうる部位を有する重合開始剤を浸漬又は蒸着を用いて接触させた後、前記支持体上に接触した該重合開始剤の自己組織化により、前記支持体上に該支持体と結合した重合開始剤の自己組織化膜によるナノドメイン構造を形成する重合開始剤表面固定化材料の作製方、該重合開始剤表面固定化材料の作製方により得られた重合開始剤表面固定化材料のナノドメイン構造上に、グラフトポリマーを生成させる工程を有するグラフトポリマーパターンの作製方例文帳に追加

The method for producing the grafted polymer pattern comprises a step of producing the grafted polymer on the nanodomain structure of the material for fixing the polymerization initiator on the surface provided by the method for producing the material for fixing the polymerization initiator on the surface. - 特許庁

本発明の治具10の製造方は、基材11と、基材11上に二酸化ケイ素膜12を介して設けられた高分子膜13とを備え、基材11の一方の面11aに、物理蒸着により二酸化ケイ素膜12を形成する工程Aと、二酸化ケイ素膜12上に、蒸着重合法により高分子膜13を形成する工程Bとを有することを特徴とする。例文帳に追加

The present method for manufacturing the tool 10, equipped with a base material 11 and a polymer membrane 13 provided on the base material 11 through a silicon dioxide membrane 12, comprises a step A of forming the silicon dioxide membrane 12 on one side 11a of the base material 11 by a physical vapor deposition method; and a step B of forming the polymer membrane 13 on the silicon dioxide membrane 12 by a vapor deposition polymerization method. - 特許庁

熱可塑性樹脂フィルム、金属蒸着フィルム、無機化合物蒸着フィルム、金属箔等のバリア性基材上に、イソシアナート基を有する複合体により変性されたポリオレフィン樹脂あるいはオレフィン系共重合体樹脂からなる接着性樹脂を押出ラミネートにより積層させた構成を少なくとも含むことを特徴とする積層体である。例文帳に追加

The laminate at least comprises a construction made by an extrusion-lamination process comprising laminating an adhesive resin consisting of a polyolefin resin or an olefinic copolymer resin modified with a composite having an isocyanate group on a barrier base material such as a thermoplastic film, a metal vapor deposition film, an inorganic compound vapor deposition film, or a metal foil. - 特許庁

基材フィルムの一方の面に、物理気相成長による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、また、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分とし、これと、少なくとも、架橋剤を含む樹脂組成物によるコ−ティング硬化膜を設けたことを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。例文帳に追加

A vapor deposited thin film 3 of an inorganic oxide is formed on one of the faces of a base material film 2 by a physical gas-phase growth process, and also a coating-cured film 4 consisting of a resin composition containing a vehicle composed mainly of an ethylene-vinyl alcohol copolymer and at least a crosslinking agent, is formed on the vapor deposited thin film 3 of the inorganic oxide. - 特許庁

電極基材が露出している高さ5〜50μmの凸部によって形成される導電パターンと、導電パターン以外の電極基材の表面に設けられた5〜50μmの蒸着重合樹脂若しくは蒸着樹脂による絶縁薄膜とから成ることを特徴とする電解加工用電極工具及びその製造方例文帳に追加

This electrochemical machining electrode tool includes: a conductive pattern formed by a projecting part 5 to 50 μm high, in which the electrode tool base material is exposed; and an insulating thin film formed of deposited polymer resin or deposited resin 5 to 50 μm provided on the surface of the electrode tool base material outside of the conductive pattern. - 特許庁

可視光領域での光吸収が少なくて、透明性の高い皮膜であって、且つ耐熱性及び基材との密着性に優れるポリイミド樹脂皮膜を、蒸着重合法によって基材上に均一な膜厚で形成することができる方を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming the film layer of a polyimide resin that has low light absorption in the visible light region with increased transparency, high heat resistance and high adhesion to the substrate in a uniform membrane thickness on the substrate by the vacuum evaporation polymerization. - 特許庁

保護膜で保護された金属装飾膜を樹脂製基材に積層する方であって、前記樹脂製基材上に、蒸着重合法による高分子膜と、金属装飾膜とを積層した後、有機溶剤を用いて保護膜を積層することを特徴とする。例文帳に追加

The method of laminating the decorative metallic film protected by the protective film on the resin substrate includes the steps of: laminating a polymer film formed by vapor deposition polymerization and the decorative metallic film on the resin substrate; and subsequently laminating the protective film by using the organic solvent. - 特許庁

絶縁膜のエッチング処理後に金属膜を蒸着する半導体製造方において、絶縁膜のエッチングにより生成された重合膜を簡単なプロセスで除去し金属膜のコンタクト抵抗の低減を図った半導体製造方を提供する。例文帳に追加

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device, where the contact resistance of a metal film is reduced by removing a polymerized film produced by etching an insulating film with a simple process, in a method of manufacturing a semiconductor device in which the metal film is vapor- deposited, after the insulating film is etched. - 特許庁

液滴を吐出するためのノズルを形成する前の第1のプレート34表面に、スパッタでSiO_2膜48Aを形成し、このSiO_2膜48Aの上にフッ素系撥水膜48Bを蒸着で形成した後、加熱により重合処理して撥水層48を形成する。例文帳に追加

An SiO_2 film 48A is formed by a sputtering process on the surface of a first plate 34 before forming a nozzle for discharging a liquid droplet, then a fluorine-based water repellent film 48B is formed on the SiO_2 film 48A by a vapor deposition method and polymerized by heat to form the water repellent layer 48. - 特許庁

水溶性高分子樹脂により形成されたバルーン型上に蒸着重合、またはコーティグすることにより、高強度樹脂薄膜を形成した後、前記バルーン型を除去することを特徴とするバルーンカテーテル用バルーンの製造方例文帳に追加

This manufacturing method of the balloon for the balloon catheter is characterized by removing a balloon mold after forming a highly strong resin thin film on the balloon mold formed of a water soluble polymer resin by performing deposition polymerization or coating. - 特許庁

注射針1は、管状の基体部12からなる注射針において、前記基体部12の外周に蒸着重合法により形成された、ポリ尿素、ポリイミド及びポリウレタンから選ばれた少なくとも1種の有機性高分子膜14が形成されている。例文帳に追加

In the syringe needle 1 having a tubular base 12, a kind of an organic polymer membrane 14 made of at least one of polyurea, polyimide and polyurethane produced by an evaporation polymerization method is formed around the outer circumference of the tubular base 12. - 特許庁

簡易な工程で安定した物性を有する層間絶縁膜用の低比誘電率高分子複合膜を形成するための半導体製造装置および半導体素子内の低比誘電率ポリイミド膜を蒸着重合により容易に形成する方の開発。例文帳に追加

To provide with a simple process a semiconductor manufacturing apparatus for forming a low specific dielectric const. polymer composite film for an layer insulation film, having stable physical properties, and a method of easily forming the low specific dielectric const. polyimide film in a semiconductor element through evaporation-polymerization. - 特許庁

このコーテイング層8は重合度5000以上のポリモノクロロパラキシリレン樹脂を使用し、化学蒸着(CVD)により厚さ約5μmに形成して耐湿性やガスバリア性を付与させた絶縁性被膜付き温度センサを提供する。例文帳に追加

Polymonochloroparaxylene resin having a degree of polymerization of 5000 or more is used to form the coating layer 8 approximately 5 μ of thickness with chemical vapor deposition (CVD), and thus the temperature sensor with insulation coating having moisture resistance and a gas barrier performance is provided. - 特許庁

導電性薄板又は箔の一方の面上に蒸着重合法により有機高分子膜を絶縁基体(1)として形成し、前記導電性薄板又は箔を加工して前記絶縁基体上に所定の回路パタ−ン(3)を形成したプリント基板。例文帳に追加

An organic high-molecular film is formed as an insulating base (1) on one of the surfaces of a conductive sheet or a foil by a vapor deposition polymerization method, and a prescribed circuit pattern (3) is formed on the insulating base (1) by subjecting the conductive sheet or the foil to processing to form the printed board. - 特許庁

エチレン−ポリプロピレンランダム共重合体からなるプラスチック成形品の内面または外面の何れかの面もしくは両面にプラズマ化学蒸着(CVD)にてセラミック薄膜層を形成したことを特徴とするポリプロピレン成形体およびそれを用いた真空採血管である。例文帳に追加

There are provide a polypropylene molding prepared by forming a ceramic thin film layer, by a plasma chemical vapor deposition(CVD) process, on either the inner or outer surface or on both the surfaces of a plastic molded article comprising an ethylene-polypropylene random copolymer, and a vacuum blood-gathering tube prepared therefrom. - 特許庁

振動板上で金属粉末に振動を加えながら、その表面にオリゴマーを蒸着重合して金属粉末表面にオリゴマーを被覆した粉末群を得、これを混練してペースト状にする導電性ペーストの製造方例文帳に追加

In the method of manufacturing the conductive paste, the powder group in which the surface of the metal powder is coated with the oligomer is obtained by depositing and polymerizing the oligomer on the surface of the metal powder while applying vibration to the metal powder on a vibration board, and the powder group is kneaded to make it into the paste-form. - 特許庁

また、本発明の薄膜コンデンサの製造方は、外部電極付き有機高分子基板上に外部電極とコンタクトが取れるように内部電極を蒸着、スパッタにより形成し、誘電体膜を少なくとも一種類以上のモノマ−を蒸発させ、重合させることによりコンデンサ素を製造する。例文帳に追加

In this method for manufacturing the capacitor, the capacitor is manufactured by forming the internal electrodes on the organic high polymer substrate which is provided with external electrode by vapor deposition or sputtering so that the internal electrodes come into contact with the external electrodes, and the dielectric film is formed by evaporating and polymerizing at least one or more kinds of monomers. - 特許庁

天然ゴムを主成分とするゴム成分を含有するゴム組成物の加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するコーティング工程を含むことを特徴とする防振ゴムの製造方であって、好ましくはコーティング工程が、気相蒸着重合法により加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するものであることを特徴とする防振ゴムの製造方例文帳に追加

The method for manufacturing vibration-proof rubber comprises a coating step of forming a para-xylylene resin layer on the surface of the vulcanized rubber of a rubber composition comprising a rubber component based on natural rubber, preferably, depositing the para-xylylene resin layer on the surface of the vulcanized rubber by using a vapor deposition polymerization method. - 特許庁

水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機EL素子用プラスチック基板の製造方であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機/有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着、或いはプラズマ重合を用いて形成することである。例文帳に追加

With the manufacturing method of an electronic device or a plastic board for an organic EL element with a vapor barrier layer and a gas barrier layer, the vapor barrier layer and the gas barrier layer are made of inorganic/organic laminated films consisting of at least a pair of an inorganic layer and an organic layer, and that, the organic layer is formed by a thermochemical deposition method or a plasma polymerization method. - 特許庁

例文

レジストパターンをマスクとする絶縁膜のエッチングの際に基板表面への重合膜の堆積を抑制し、その後のリフトオフ工程におけるサイドのマスク形成を不要としながら金属蒸着膜と基板表面との間の良好なアロイ反応を得ることができる半導体装置の製造方を提供すること。例文帳に追加

To provide a producing method for semiconductor device, with which the deposition of polymerized films on the surface of a wafer is suppressed in the case of etching an insulating film with a resist pattern as a mask and satisfactory alloy reaction can be provided between a metal depositing film and the surface of the wafer while unnecessitating the mask formation of a side in a following lift-off process. - 特許庁

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