「高温熱処理」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

高温熱処理用石英ウェーハボート例文帳に追加

HIGH-TEMPERATURE HEAT TREATMENT QUARTZ WAFER BOAT - 特許庁

高温ガス炉の燃料コンパクト製造用熱処理炉例文帳に追加

HEAT TREATING FURNACE FOR MANUFACTURING FUEL COMPACT OF HIGH-TEMPERATURE GAS FURNACE - 特許庁

物質の高温加熱処理方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR HEAT TREATING MATTER AT HIGH TEMPERATURE - 特許庁

高温湿熱処理方法及びその装置例文帳に追加

HIGH TEMPERATURE AND HUMIDITY HEAT TREATMENT METHOD AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

高温、高真空下で熱処理する装置例文帳に追加

APPARATUS FOR THERMALLY TREATING AT HIGH TEMPERATURE AND UNDER HIGH VACUUM - 特許庁

高温での熱処理時においてもガス漏れの無い熱処理炉を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment furnace which is free of gas leakage even in heat treatment at a high temperature. - 特許庁

高温での熱処理ができる半導体ウエハの熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide the heat treatment apparatus of a semiconductor wafer with which heat treatment can be carried out at high temperature. - 特許庁

次に、基板２０を熱処理装置６００において温度が４００℃〜６００℃の高温雰囲気中での熱処理を行う（熱処理工程）。例文帳に追加

The method further comprises the step of then heat treating a substrate 20 in a high temperature atmosphere at 400 to 600°C in a heat treating unit 600 (heat treating step). - 特許庁

このとき、第１熱処理の熱処理条件を、第２熱処理よりも高温かつ短時間とする。例文帳に追加

In the processing, the thermal processing condition of the first thermal processing is made to be at higher temperature and in a shorter time compared with the second thermal processing. - 特許庁

また、製茶方法としては、回転釜加熱処理装置にて、蒸熱処理後の茶葉を揉まずに高温高速で加熱処理することである。例文帳に追加

The tea processing method comprises heat-treatment of heated tea leaves, with a rotary pot heat-treating apparatus at a high temperature and a high speed, without rolling the tea leaves. - 特許庁

高温で熱処理が可能な熱処理炉を提供すべく、熱処理炉内の圧力変化があっても所定の熱処理雰囲気を維持可能となるエンドキャップ、及びそれを用いた熱処理炉を提供する。例文帳に追加

To provide an end cap and a heat treatment furnace using the same capable of keeping a prescribed heat treatment atmosphere even if pressure in the heat treatment furnace is changed, and to provide the heat treatment furnace capable of performing heat treatment at a high temperature. - 特許庁

加熱処理温度が個々に異なる粉体や粒体等を加熱処理する場合において、適正な温度管理により粒体等被加熱処理物の高温加熱処理を迅速・確実に行える高温加熱混合装置を提供する。例文帳に追加

To provide a high temperature heating mixing device capable of quickly and surely performing high-temperature heat treatment of a heat-treated object such as particles by properly controlling a temperature in a case of performing the heat treatment on powder, particles or the like of various heat treatment temperatures. - 特許庁

このとき、熱処理を低温熱処理と高温熱処理の二段階に分け、高温熱処理に先だって被焼成体を形成することが好ましい。例文帳に追加

At this time, the heat-treatment is divided into two stages of the low temperature heat-treatment and the high temperature heat-treatment, and to form a baked body prior to the high temperature heat-treatment is preferable. - 特許庁

本発明は、短時間でかつ均一に高温湿熱処理を行う高温湿熱処理方法及びその装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a high temperature and humidity heat treatment method uniformly performing high temperature and humidity heat treatment in a short time, and an apparatus therefor. - 特許庁

反応室に配置されるウェーハ基板のような被加熱処理物を高温にて加熱処理するための高温加熱装置に関する。例文帳に追加

To provide a high temperature heating device capable of carrying out heat treatment in a high temperature of an heat treatment target object such as a wafer substrate placed in a reaction chamber. - 特許庁

その後は、その乾燥温度より高温での加熱処理を行わない。例文帳に追加

Thereafter, heat treatment is not applied at higher temperature than the drying temperature. - 特許庁

高温加熱処理室におけるロボットハンドの冷却装置例文帳に追加

COOLING DEVICE OF ROBOT HAND IN HIGH TEMPERATURE HEAT TREATMENT CHAMBER - 特許庁

ダイオキシン含有焼却灰高温熱処理リサイクル焼成体例文帳に追加

RECYCLABLE SINTERED COMPACT OBTAINED BY HEAT-TREATING DIOXIN-CONTAINING INCINERATION ASH AT HIGH TEMPERATURE - 特許庁

そして、生成した薄膜を高温加熱処理する（選択図（ｂ）〜（ｄ））。例文帳に追加

The resultant thin film is heat-treated at a high temperature (selection figures (b)-(d)). - 特許庁

複数枚のウェーハを同時に高温で加熱処理可能な高温ＣＶＤ装置に関する。例文帳に追加

To obtain a high temperature CVD system in which a plurality of sheets of wafer can be heat treated simultaneously under a high temperature. - 特許庁

被処理物１０を脱水、熱処理及び粉砕して再生粒子を製造するにあたり、熱処理を、第１の熱処理工程（４２）と、これよりも高温の第２の熱処理工程（１４）と、さらに高温の第３の熱処理工程（３２）とに分けて行う。例文帳に追加

The regenerated particle is produced by dehydrating, heat-treating and crushing a treating object 10, wherein the heat-treatment is carried out in divided steps including a first heat-treatment step (42), a second heat-treatment step (14) at a temperature higher than the first step, and a third heat-treatment step (32) at a further high temperature. - 特許庁

縦型熱処理炉内で半導体シリコン基板を高温で熱処理する熱処理方法に関し、熱処理の処理効率をより向上させることができるようにする。例文帳に追加

To improve processing efficiency of heat processing more with respect to a heat processing method of heat-processing a semiconductor silicon substrate at high temperature in a vertical heat processing furnace. - 特許庁

半導体シリコンウェーハの熱処理、特に高温熱処理時やシリコンからなる熱処理用治具を用いた場合に発生していたスリップを低減でき、安価に提供できるシリコンウエーハの熱処理用治具。例文帳に追加

To provide an inexpensive jig for heat treating a silicon wafer, capable of reducing slips generated at the time of heating a semiconductor silicon wafer, especially at a high temperature, and in the case of using the jig composed of silicon for heating. - 特許庁

本発明において、前記加熱処理が、前記単結晶を前記軸方向部分的に低温状態とする低温加熱処理と、前記軸方向部分的に前記低温状態よりも高温の部分高温加熱処理とを有する。例文帳に追加

The heat-treatment comprises a low-temperature heat-treatment through which the single crystal is axially partly brought to a low-temperature state and a partial high-temperature heat-treatment through which the single crystal is axially partly heated to a temperature higher than the low-temperature state. - 特許庁

更に、高温短時間熱処理を行う毎に、個々に電気炉による低温熱処理を行い、高温の熱処理に起因して発生する結晶欠陥を回復させる。例文帳に追加

Furthermore, a low temperature thermal treatment is carried out in an electric oven each time a high-temperature short-time thermal treatment is performed, so that which crystal defects caused by a high- temperature heat treatment are repaired. - 特許庁

この様な熱処理では、高温または長時間の熱処理を行わなくても酸化誘起積層欠陥の発生を完全に防止することができる。例文帳に追加

In such heat treatment, occurrence of stacking faults induced by oxidation is completely prevented without performing heat treatment at high temperature or for a long period. - 特許庁

加熱処理部１１では所定の方向に搬送される生卵を高温水蒸気の凝縮潜熱によって加熱処理して加熱済み卵とする。例文帳に追加

The raw eggs transported in the fixed direction are heat-treated by condensation latent heat of high-temperature water vapor in a heat treatment part 11 to give heated eggs. - 特許庁

これ以降、半導体基板１の温度が第２の熱処理の熱処理温度よりも高温となるような処理は行わない。例文帳に追加

Hereafter, a treatment setting the temperature of the semiconductor substrate 1 higher than the heat treatment temperature of the second heat treatment is not executed. - 特許庁

高温での熱処理、具体的には４００〜４５０℃での熱処理を行っても特性の劣化が抑制された磁気抵抗効果素子を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetoresistive effect element whose characteristic deterioration is suppressed even at the time of carrying out a heat treatment at a high temperature, concretely at 400 to 450°C. - 特許庁

第１の熱処理より高温の第２の熱処理を行い、導電体微粒子を部分的に溶融させ、貫通電極と接合する。例文帳に追加

A second heat treating with higher temperature than that of the first heat treating is conducted so that the conductor particles are partially melted to be joined with the through electrode. - 特許庁

基板表面をより高温かつ均一に昇温してシート抵抗値を低下させることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment method and a heat treatment apparatus, wherein a substrate surface is uniformly heated to higher temperature to decrease a sheet resistance value. - 特許庁

この熱処理を行うことで、半導体ウエハの再生処理に１１００℃以上の高温の熱処理を毎回行う必要がなくなる。例文帳に追加

By performing this heat treatment, heat treatment at a high temperature of 1,100°C or higher is not necessarily performed every time reprocessing treatment is performed. - 特許庁

低酸素シリコンウェーハを５５０〜８００℃で低温熱処理し、ウェーハ中に酸素析出核を生成後１０００〜１２００℃で高温熱処理する。例文帳に追加

The low-oxygen silicon wafer is low-temperature heat-treated at 550-800°C and high-temperature heat-treated at 1,000-1,200°C after a oxygen- precipitation core is produced in the wafer. - 特許庁

シリコンウェーハの製造方法及び熱処理装置において、高温熱処理による表面荒れを抑制すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a silicon wafer and a heat treatment apparatus by which roughness of the surface by the high temperature heat treatment can be suppressed. - 特許庁

支持部材の熱変形によるスリップの発生がなく高温の熱処理が可能な半導体ウェーハ熱処理用支持部材を提供する。例文帳に追加

To provide a support for heat treatment of a semiconductor wafer ensuring high temperature heat treatment while eliminating slip due to thermal deformation of the support. - 特許庁

基板表面をより高温に昇温してシート抵抗値を低下させることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment method and apparatus, which decreases a sheet resistance by raising a substrate surface at a higher temperature. - 特許庁

また、短時間高温熱処理によって、熱処理による素子特性への悪影響が比較的少ない半導体装置が得られる。例文帳に追加

The short-duration high-temperature treatment provides a semiconductor device with its characteristics but relatively lowly affected by the heat treatment. - 特許庁

基板の割れを抑制しつつ基板表面をより高温に昇温することができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment method and a heat treatment apparatus capable of further increasing the surface temperature of a semiconductor substrate, while suppressing cracks of the substrate. - 特許庁

縦型熱処理炉を用いてシリコンウエーハを非酸化性ガス雰囲気中で高温熱処理する際のウエーハの不純物汚染を防止する。例文帳に追加

To prevent the impurity contamination of a wafer when a silicon wafer is heated at a high temperature in a non-oxidizing atmosphere by using a vertical heating furnace. - 特許庁

支持基体上に有機感光層を形成する際、熱処理時の雰囲気の熱処理最高温度Ｔ１を上記結着樹脂のガラス転移点に対して±３０℃の範囲内とし、上記熱処理最高温度Ｔ１での熱処理時間を１５分以内とする。例文帳に追加

When forming an organic photosensitive layer on a support substrate, the heat treatment maximum temperature T1 of an atmosphere during heat treatment is in a range of ±30 °C to the glass transition point of the binding resin, and heat treatment time at the heat treatment maximum temperature T1 is set to be within 15 minutes. - 特許庁

高温水素熱処理された高い異方性をもつ希土類磁石粉末を提供する。例文帳に追加

To provide a highly anisotropic rare earth magnet powder which is subjected to hot hydrogen treatment. - 特許庁

高温での熱処理の後にも高い活性を保持できるＤＮＡリガーゼを提供する。例文帳に追加

To provide a DNA ligase keeping high activity even after the heat-treatment at a high temperature. - 特許庁

Ｓｉ基板が、高温の水素還元雰囲気中で熱処理され、表面が清浄にされる。例文帳に追加

The Si substrate is subjected to heat treatment in hydrogen reduction atmosphere of a high temperature and its surface is cleaned. - 特許庁

両シリコン表面２７、２８を高温熱処理することによってゲート酸化膜２９を形成する。例文帳に追加

Both silicon surfaces 27 and 28 are thermally processed at a high temperature to form a gate oxide film 29. - 特許庁

耐熱鋼、耐熱鋼の熱処理方法および高温用蒸気タービンロータ例文帳に追加

HEAT-RESISTING STEEL, HEAT TREATMENT METHOD FOR HEAT-RESISTING STEEL, AND HIGH-TEMPERATURE STEAM TURBINE ROTOR - 特許庁