「高温熱処理」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

高温の熱処理が必要な場合でも、高精度な台座ブロックを作製する。例文帳に追加

To manufacture a precise base block even when a high temperature heat treatment is necessary. - 特許庁

高温の熱処理を行うことなく、発光色の制御が可能な蛍光体を提供する。例文帳に追加

To provide a phosphor capable of controlling the luminous color without performing a high temperature heat treatment. - 特許庁

二次熱処理室２８を通過してきた高温気体は冷却室３２に誘引されて急冷される。例文帳に追加

The hot gas having passed through the secondary heat treatment chamber 28 is drawn in a cooling chamber 32 and rapidly cooled. - 特許庁

その後、絶縁性基板１を高温ステージ２に接触させて熱処理を行う。例文帳に追加

After then, the insulated substrate 1 is taken heat- treatment by contacting with the high temp. stage 2. - 特許庁

素子形成後の高温の熱処理による特性劣化を抑制することができる記憶素子を提供する。例文帳に追加

To provide a memory element that prevents deterioration in characteristics resulting from hot annealing after formation of an element. - 特許庁

混合された混合汚泥を水熱処理装置７により高温高圧の熱水で可溶化する。例文帳に追加

The mixed sludge is solubilized with high-temperature, high-pressure hot water in a hydrothermal treatment device 7. - 特許庁

交換結合膜形成後の高温長時間熱処理なしで、有効な交換結合磁界が得られる。例文帳に追加

An effective exchange combined magnetic field is obtained without any high-temperature and long-time heat treatment after the exchange combined film formation. - 特許庁

高温熱処理行程を有しないバイポーラトランジスタの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a bipolar transistor without a high-temperature heat treatment process. - 特許庁

高温、例えば１３５０°Ｃ以上の温度で熱処理を行う場合においても有効に断熱を行う。例文帳に追加

To effectively insulate heat when thermal treatment is applied at a high temperature of 1,350°C or higher, for example. - 特許庁

高温での熱処理に耐性のない層の形成後に不純物の活性化を行う。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a semiconductor device capable of activating impurities, after a layer that is not immune to heat treatment is formed at a high temperature. - 特許庁

特に高温の熱処理における石英製反応管の熱変形を抑制し、良好な熱処理を実施することができる縦型熱処理装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a vertical heat treatment apparatus that suppresses thermal deformation of a quartz-made reaction tube in a heat treatment of, especially, high temperature, and excellently carries out the heat treatment. - 特許庁

また、該黒鉛を、フリーカーボンの含有量が１質量％以下のタールおよび／またはピッチを４００〜９００℃で熱処理して得たバルクメソフェーズ系熱処理品を高温熱処理して製造する方法。例文帳に追加

As for the manufacturing method of the graphite is that by high temperature heat treating a bulk mesophase that treated matter which is obtained by heat treating tar and/or pitch of which free carbon content is 1 mass % or less at 400-900°C. - 特許庁

基板に高温と低温で熱処理を施す際に、基板の搬送時間を短縮することができ、スループット向上を図ることができる加熱処理装置および加熱処理方法を提供すること。例文帳に追加

To obtain a heat treatment apparatus and a method therefor in which the substrate transfer time can be reduced to improve throughput in treating a substrate in the case of heat treatment a low temperature. - 特許庁

ウエーハを特に１０００℃以上となるような高温で熱処理する場合でも、キズやスリップの発生を効果的に抑制することができる熱処理用治具および熱処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a thermal treatment jig and a thermal treatment method capable of effectively suppressing occurenses of scratches or slips even if thermal treatment is carried out at high tmperatures of not less than 1,000°C. - 特許庁

次に、基板２０を熱処理炉に入れて、半導体膜１００に対して温度が４００℃〜６００℃の高温雰囲気中での熱処理を行い（熱処理工程）、半導体膜１００に残るダングリングボンドを除去する。例文帳に追加

Then, the substrate 50 is loaded into a heat treatment oven, the semiconductor film 100 is subjected to heat treatment in a high-temperature atmosphere of 400°C-600°C (heat treatment process), and dangling bond that remains on the semiconductor film 100 is eliminated. - 特許庁

次いで、第１ゲート絶縁膜１０を、不活性ガス又は真空中で、第１熱処理温度よりも高温で熱処理する第２熱処理工程を行なう。例文帳に追加

Then, the first gate insulating film 10 is subjected to a second thermal treatment process in which it is thermally treated in the inactive gas or under vacuum at a temperature higher than the first thermal treatment temperature. - 特許庁

熱処理炉内のような高温雰囲気中での使用に際しても有効な耐ビルドアップ性に優れた高温材搬送用ローラを提供する。例文帳に追加

To provide a roller effective for conveying a hot material, which is excellent in build-up resistance even when used in an elevated-temperature atmosphere, e.g. in a heat-treatment furnace. - 特許庁

次いで、ウエハＷは、リフトピン５４により上昇されて、高温の加熱プレート５２に近接され、そこで高温での加熱処理が行われる。例文帳に追加

Then, the wafer W is approached to a high-temperature heating plate 52 by being lifted up by the lift pins 54, and subjected to a high- temperature heat treatment there. - 特許庁

熱処理炉内のような高温雰囲気中での使用に際しても有効な耐ビルドアップ性に優れた高温材搬送用ローラを提供する。例文帳に追加

To provide a conveyor roller for high temperature material, which has excellent and effective build-up resistance, even when used in such a high temperature atmosphere as that in a heat treatment furnace. - 特許庁

非水電解液二次電池用電極において、電極を熱処理するときの温度が結着剤の融点よりも高温で、かつ電極の金属集電体が軟化する温度よりも高温で熱処理し、さらにこの熱処理工程を圧延工程よりも前に行うものである。例文帳に追加

For the electrode for secondary battery of nonaqueous electrolyte, the process of manufacturing it is designed in such ways that the temperature of thermal treatment with the electrode should be higher than the melting point of binders and the treatment should be done at higher temperature than softening temperature for the metal collector of electrode, and this thermal treatment should be done before the process of rolling. - 特許庁

合成繊維マルチフィラメントを高温加熱体に間欠的、かつ瞬間的に接触させることにより高温間欠瞬間熱処理し、マルチフィラメントの繊維軸方向および繊維横断面方向に斑に熱処理を付与した後、弛緩熱処理する。例文帳に追加

A synthetic fiber multifilament yarn is intermittently and instantaneously brought into contact with a high-temperature heating unit, thereby intermittently and instantaneously heat-treated at a high temperature to apply heat treatment in an uneven manner in the fiber axial direction and fiber- sectional direction of the multifilament yarn and then heat-treated under relaxed conditions. - 特許庁

ウェーハ製造工程の各高温熱処理時のスリップの伸長だけでなく、デバイス工程における各高温熱処理中のスリップの伸長も抑制可能なシリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a silicon wafer and its manufacturing method wherein not only expansion of slip at the time of each high temperature thermal treatment of a wafer manufacturing process but also expansion of slip in each high temperature thermal treatment in a device process can be restrained. - 特許庁

海藻高温抽出組成物、海藻熱処理組成物及びそれらの製造方法並びに海藻高温抽出組成物又は海藻熱処理組成物を含む調味料、化粧料、食品及び健康食品例文帳に追加

HIGH-TEMPERATURE EXTRACT COMPOSITION OF MARINE ALGA, HEAT-TREATED COMPOSITION OF MARINE ALGA, METHOD FOR PRODUCING THEM AND SEASONING, COSMETIC, FOOD AND HEALTH FOOD CONTAINING HIGH-TEMPERATURE EXTRACT COMPOSITION OF MARINE ALGA OR HEAT-TREATED COMPOSITION OF MARINE ALGA - 特許庁

加熱処理室ＷＣ内で粉粒体ＰＤが高温高湿気体により加熱処理され、これで高温高湿となった粉粒体ＰＤが乾燥処理室ＤＣ内で低湿気体により乾燥される。例文帳に追加

The powder and grain PD is heat-treated by the high temperature-high humidity gas in a heat treatment chamber WC, and thus, the powder and grain PD becoming high temperature-high humidity is dried by low humidity gas in a drying treating chamber DC. - 特許庁

農薬に汚染された汚染物質の加熱処理によって生じる排ガスの処理方法において、１００℃以上の高温の洗浄油と前記加熱処理によって生じる１２０℃以上の高温の排ガスとを気液接触させる高温油洗浄工程を備えたことを特徴とする。例文帳に追加

A method for treating the exhaust gas that is generated by the thermal treatment of the contaminated substance contaminated with the agricultural chemicals comprises a high-temperature oil cleaning process which brings a high-temperature cleaning oil of 100°C or higher into gas-liquid contact with a high-temperature exhaust gas of 120°C or higher. - 特許庁

高温加熱処理室におけるロボットハンドの構成材質の熱変形、熱損傷、劣化を防止し、メンテナンス、交換作業の煩を回避し、ロボットハンドのライフサイクルを飛躍的に向上させ、もって、高温加熱処理作業の効率、生産性を高め得る高温加熱処理室におけるロボットハンドの冷却装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a cooling device of a robot hand in a high temperature heat treatment chamber capable of preventing the thermal deformation, the thermal damage and the deterioration of a component material of the robot hand in the high temperature heat treatment chamber, dispensing with the troublesome replacing work, and remarkably improving the efficiency and the productivity of the high temperature heat treatment work. - 特許庁

しかも、有機物除去器１００内での熱処理時に発生した熱処理ガスは、セメント製造設備１０内の通常運転時に８００℃以上となる高温部に供給するので、熱処理ガス中の有機塩素化合物を熱分解できる。例文帳に追加

The thermal treatment gas produced during the thermal treatment within the organic material remover 100 is supplied to a high-temperature section where the temperature rises to ≥800°C in the ordinary operation within the cement manufacture plant 10, and therefore, the organic chlorinated compound in the thermal treatment gas can be thermally decomposed. - 特許庁

前記高温酸化熱処理を酸素を５％以上含むガス雰囲気中で１２５０℃〜１３８０℃×１〜２０時間で行い、前記酸素析出物形成熱処理を行う。例文帳に追加

The high temperature oxidation thermal treatment is performed in gas atmosphere containing oxygen of 5% or more at 1,250-1,380°C for 1-20 hours to perform the oxygen deposit formation aging treatment. - 特許庁

高温で長時間の活性化熱処理を行うことなく、パターンエッジ部周辺に発生する応力を軽減することにより高濃度不純物領域の活性化熱処理で発生する転位の拡張を抑制する。例文帳に追加

To suppress extension of dislocation generated in activation thermal treatment at a high concentration impurity region by lowering stress generated around pattern edge without performing activation thermal treatment at high temperature for long hours. - 特許庁

また、シリコン単結晶基板に酸素イオンを注入した後、該基板を急速加熱処理し、その後高温熱処理を施すことを主工程とするＳＩＭＯＸ基板の製造方法である。例文帳に追加

In a method for manufacturing the SIMOX substrate, the oxide ion is implanted to the silicon mono-crystal substrate, and the quick heating treatment and high temperature heat treatment of the substrate is carried out in a main process. - 特許庁

また、半導体素子と電極とを接合する際に、接合材料の還元温度を超えない低温で熱処理し、その後、還元よりも高温での熱処理する２段加熱により接合することを特徴とする。例文帳に追加

Further, the semiconductor element and electrodes are bonded together through a two-stage heat treatment wherein a heat treatment is carried out at temperature below the reduction temperature of the bonding material and then at temperature higher than the reduction temperature. - 特許庁

高温で熱処理を行っても、半導体ウェーハにスリップ等の結晶欠陥が発生しない半導体ウェーハ熱処理用治具およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a jig for heat treating semiconductor wafer and a method for manufacturing the same causing no crystal defect such as slip on the semiconductor wafer under high temperature heat treatment. - 特許庁

次に、第２の熱処理として、ポリシリコン層中の各グレイン内への不純物の拡散が生じるような高温短時間の熱処理、スパイクアニール，フラッシュアニール等を行なう。例文帳に追加

In the second heat treatment, a high-temperature short-time heat treatment is performed such as spike annealing or flash annealing, so that the impurity is diffused into each of the crystal grains in the polysilicon layer. - 特許庁

高温または長時間の熱処理を行わなくても酸化誘起積層欠陥の発生を完全に防止することができるシリコン基板の熱処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of heat treatment of a silicon wafer with which occurrence of stacking faults induced by oxidation is completely prevented without performing heat treatment at high temperature or for a long period. - 特許庁

本発明の目的は、火葬に伴う熱処理前においては、通常の色であるが、火葬における高温で熱処理されたとき、金色に輝く色等とすることが可能な故人を偲ぶ品、及び該物品の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide an article for commemorating the deceased and a manufacturing method of the article having an ordinary color before a heat treatment in a cremation but shining gold when heat treated at a high temperature in the cremation. - 特許庁

熱処理温度は最高温度で４００〜５００℃の範囲内とし、タール中油は沸点範囲が１００〜３００℃でその使用倍率を熱処理したコールタールピッチ１に対して容積比で２〜１０倍とする。例文帳に追加

The highest temperature of the heat treatment is set at 400-500°C, and the tar middle oil has a boiling point of 100-300°C and its amount used is 2-10 times by volume the amount of the heat treated coal tar pitch. - 特許庁

比較的高温で熱処理した後であっても、熱処理前の接合強度に対する劣化が比較的小さいメタライズ基板、およびアルミニウムとセラミックとの接合体を提供する。例文帳に追加

To provide a metallized substrate in which, even after heat treatment at a relatively high temperature, deterioration to joining strength before the heat treatment is relatively small, and to provide a joined body between aluminum and ceramic. - 特許庁

高温環境下で使用しても共役長変化が起こりにくいロッドレンズを短時間に熱処理が可能なロッドレンズの熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat processing device for a rod lens, the device subjecting a rod lens to heat process in a short time, wherein the rod lens is less likely to cause a conjugation length change even used in a high temperature environment. - 特許庁

高温下で局所的な荷重が加わっても、長期的な形状安定性を有し、且つ、熱処理炉内外での急熱急冷による熱衝撃に強く、さらに大板化が容易な熱処理用セッターを提供する。例文帳に追加

To provide a setter for heat treatment which has long term shape stability even when a local load is applied under a high temperature, is strong to thermal shock due to rapid heating and cooling in the inside and outside of a heat-treatment furnace and is easily large-sized. - 特許庁

溶融性を有する原材料の濃縮、溶融後に減圧加熱処理を行い、さらに３００℃以上で高温熱処理する有機無機ハイブリッドガラス状物質の製造方法。例文帳に追加

The invention provides a process for producing an organic-inorganic hybrid glassy material, which comprises concentrating and then melting a raw material having a melting property, and subsequently, conducting depressurization while heating, and further conducting a heat treatment at a high temperature of 300°C or higher. - 特許庁

本発明は、結晶性がよく、熱処理工程を減らすことによって高温の熱処理温度による基板の曲がりを防止することができる半導体装置の製造方法及びこれを用いて製造される半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having good crystallinity, capable of preventing a distortion of a substrate caused by a high heat treatment temperature by reducing heat treatment processes, and the semiconductor device manufactured by using this method. - 特許庁

次に、温度空間８の高温域（鉛直方向位置Ｃ）に、ウエハ１０を導入して保持し、基板温度を熱処理温度まで上昇させるとともに、所定時間の熱処理を実行する。例文帳に追加

Then, the wafer 10 is introduced supportively into a high-temperature region (position C in the vertical direction) of the temperature space 8 to increase its substrate temperature to its heat treatment temperature, and as to perform its heat treatment during a predetermined time. - 特許庁

廃棄物等の熱処理装置における熱処理炉等で発生する高温・高圧のガスをガスタービンへ導くガス供給用ダクトの耐久性を向上させる。例文帳に追加

To improve the durability of a gas supplying duct for guiding a gas of high temperature and high pressure generated in a heat-treating furnace and the like in a heat treating device of the waste and the like. - 特許庁

高温熱処理および水蒸気雰囲気中での熱処理を行なうことなく、ＳＴＩ内の絶縁材料の膜密度を容易に制御することができる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device in which the film density of an insulating material in an STI can be controlled easily without heat treating at a high temperature and heat treating in a steam atmosphere, and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁

そしてゲートシリコン膜４及び拡散層６表面のＣｏ_xＳｉ_yを第１の熱処理より高温で第２の熱処理をすることによりＣｏＳｉ_2膜に相転移させる。例文帳に追加

Thereafter, the CoxSiy on the surfaces of the films 4 and 6 is subjected to phase transition to a CoSi2 film through second heat treatment which is performed at a higher temperature that the first heat treatment. - 特許庁