「高温熱処理」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature with a high void defect annihilation power and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit. - 特許庁

このような装置によれば、装置全体にダメージを与えることなく２５００℃程度までは熱処理室を加熱することができるとともに、このような超高温度の状態を、長時間にわたって保持することができる。例文帳に追加

By such a device, it is possible to heat the heat treatment chamber up to approximately 2,500°C without damaging the device as a whole, and a state of ultra-high temperature like this can be retained over a long time. - 特許庁

規則化のために成膜後に600℃以上の高温に熱処理したり、高い保磁力を低温で実現するために第３元素を添加したりすることなく、成膜直後に規則化されたL1_0構造のFePt相を得る。例文帳に追加

To obtain an PePt phase of L1_0 structure regularized immediately after the film is formed without high temperature treatment at a temperature of 600°C or higher after the film is formed and without adding a third element to obtain large coercive force at a low temperature. - 特許庁

素子形成後の高温の熱処理による特性劣化を抑制することができ、多用途のメモリデバイスとして適用可能な記憶素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a memory element that prevents degradation in characteristics due to high temperature annealing after formation of element, and can be applied as a multi-use memory device. - 特許庁

不飽和カルボン酸化合物を１８０〜２００℃の高温での熱処理による架橋を行わずに、透明性に優れ、且つ高湿度下でのガスバリア性に優れたガスバリア性膜を安定して得る方法を開発することを目的とする。例文帳に追加

To develop a method for stably producing a gas barrier film excellent in transparency and gas barrier property under high humidity environment, without carrying out cross-linking by a high temperature heat treatment of an unsaturated carboxylic acid compound at 180-200°C. - 特許庁

煤塵を多く含む熱処理炉の排ガスであっても閉塞等の不具合を生じることなく熱源として利用することができ、かつ効率よく熱交換可能な高温排ガスを熱源とした改質装置を提供する。例文帳に追加

To provide a reformer capable of utilizing even exhaust gas of a heat treatment furnace containing much soot and dust as a heat source without causing a failure such as clogging, and using hot exhaust gas capable of efficient heat exchange as a heat source. - 特許庁

規則合金を用いた反強磁性層を有する交換結合膜の形成において、形成後に高温長時間の熱処理をすることなく有効な交換結合磁界を発生させる。例文帳に追加

To produce an effective exchange combined magnetic field without any high-temperature and long-time heat treatment after the formation of the exchange combined film having an antiferromagnetic layer using regular alloy. - 特許庁

第１の筐体１１の内部に、熱処理炉Ｘから排出される高温の排気ガスを透過させて、当該排気ガス中の昇華物を捕集するフィルタ層２ａを設けた。例文帳に追加

A filter layer 2a is provided inside a first casing 11 for passing high temperature exhaust gas discharged from a heat treatment furnace X and collecting the sublimed matter in the exhaust gas. - 特許庁

水素ガスまたはアルゴンなどの不活性ガス中、あるいはその混合ガス中で行われるボイド性欠陥の低減のための高温熱処理において、ウェーハ表面に面荒れが発生し易い問題、特にウェーハの外周部に顕著に発生する面荒れを低減できる半導体ウェーハの熱処理方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of a heat treatment capable of reducing the face roughness on a wafer surface, notably generated especially in the periphery of the wafer in the high temperature anealing for reduction of void defect performed in hydrogen gas, an inert gas such as argon, or alternatively thereof mixing gas. - 特許庁

本発明は、アクリル繊維束の連続熱処理方法に関するもので、繊維束内部の処理斑や高温処理による繊維束を形成する単糸へのダメージにつながりにくいため、炭素繊維の品質低下を招くことがない、品質の高い耐炎化繊維を効率よく生産することのできるアクリル繊維束の連続熱処理方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for continuously heat treating an acrylic fiber bundle by which a high quality flame-proof fiber can be efficiently produced without reducing the quality of carbon fiber, as the method is hardly associated with uneven treatment spots in the fiber bundle and the damage of monofilaments forming the fiber bundle which is caused by high temperature treatment. - 特許庁

セラミックス被覆鋼の製造方法は、窒化チタンアルミニウム又は窒化クロムの薄膜を鋼基材上に成膜する成膜工程１１と、成膜された鋼基材を少なくとも７６０℃を超える高温、より好ましくは７６０℃〜１０６０℃で加熱処理する加熱処理工程と、を有することを特徴とする。例文帳に追加

The method for producing a ceramics coating steel comprises: a film deposition stage 11 where a thin film of titanium aluminum nitride or chromium nitride is deposited on a steel base material; and a heating treatment stage where the film-deposited steel base material is subjected to heating treatment at a high temperature at least exceeding 760°C, more preferably, at 760 to 1,060°C. - 特許庁

高温ガス炉用の燃料コンパクト１０をプレス成型した後、この燃料コンパクト１０の表面にインクジェット式印刷によってマーキング表示１４を施し、このマーキング表示１４を熱処理トレイ１６上で熱処理してインクを乾燥し、その後この燃料コンパクト１０を焼成してインクの成分を黒鉛化する。例文帳に追加

The fuel compact 10 for the high-temperature gas-cooled reactor is press-molded, then the marking display 14 is applied to the surface of the fuel compact 10 by ink jet type printing, the marking display 14 is heat-treated on a heat treating tray 16 to dry ink, then the fuel compact 10 is calcined to graphitize the ink component. - 特許庁

燃料改質装置１１は、バイオマス燃料を高温高圧化された水蒸気によって蒸煮処理する水熱処理装置１３と、水熱処理装置１３で発生する燃料と水蒸気との混合物の開放減圧処理を行い、その後、バイオマス燃料を乾燥させる減圧乾燥装置１５と、を備えている。例文帳に追加

This fuel reforming apparatus 11 is equipped with a hydrothermal treatment apparatus 13 in which a biomass fuel is steam-treated by high-temperature and high-pressure steam, and a vacuum drying apparatus 15 in which a mixture of the fuel and steam generated in the hydrothermal treatment apparatus 13 is subjected to open vacuum treatment before drying the biomass fuel. - 特許庁

胴部が円筒状に薄肉化された缶の製造方法で、真空吸引力によりコンベア上に缶体を保持した状態で搬送しながら熱処理するような工程を備えた缶の製造方法について、充分な真空吸引力により缶体をコンベア上に確実に保持した状態で高温の熱処理を施しても、円筒状に薄肉化された缶体の胴部の変形を抑えることができるようにする。例文帳に追加

To suppress the deformation of a can body which is cylindrically thinned in thickness even if applied with high-temperature heat treatment in a state that the can body is held on a conveyor by a vacuum suction force, in a method for production of a can which is cylindrically thinned in thickness at its trunk. - 特許庁

熱可塑性合成重合体からなる未延伸繊維に、不活性な無機微粉末を塗布した後、高温下で熱延伸及び／又は熱処理し、次いで延伸熱処理繊維に無機微粉末を膨潤させる作用を有する界面活性剤水溶液を付与してから流体を吹付け、繊維に付着している無機微粉末を除去する。例文帳に追加

The method for producing the thermoplastic synthetic fiber comprises applying inert inorganic fine powder to undrawn fiber composed of a thermoplastic synthetic polymer, thermally drawing and/or heat-treating the fine powder-coated fiber, applying an aqueous solution of surfactant having action for swelling the inorganic fine powder to the drawn and heat-treated fiber, blowing fluid thereto and removing the inorganic fine powder attached to the fiber. - 特許庁

ｐ型不純物をドープしたＩＩＩ族窒化物半導体を実質的に水素を含まない雰囲気中で熱処理するｐ型ＩＩＩ族窒化物半導体の製造方法では、熱処理に７００℃〜９００℃の高温を必要とするため、結晶表面にダメージを与え、結晶の最表面のモルフォロジーの劣化を引き起こす。例文帳に追加

To solve the problems that the surface of a crystal is damaged, and the morphology of the outermost surface of the crystal is deteriorated since a high temperature of 700 to 900°C is required for heat treatment in the manufacturing method of a p-type group III nitride semiconductor that heat-treats the group III nitride semiconductor where p-type impurities are doped in atmosphere without hydrogen substantially. - 特許庁

主に直径が３００ｍｍ以上のＣＺシリコン単結晶ウェーハに高温熱処理を行なってもスリップ転位の発生を抑制し、表面近傍のGrown-in欠陥を十分に消滅させることのできる熱処理方法を提供し、及びウェーハ表層部にＤＺ層を有し、かつバルク中に高いゲッタリング効果が得られる高密度の酸素析出物を有するアニールウェーハを提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment method, which can prevent occurrence of slip dislocation and sufficiently eliminate grown-in defects in the vicinity of the surface even when a CZ silicon monocrystal wafer having a diameter of 300 mm or larger is mainly subjected to a high heat treatment, and an annealed wafer having a DZ layer in the wafer surface layer and containing high-density oxygen precipitates capable of achieving a high gettering effect in a bulk. - 特許庁

続いて、バリア膜１３、未反応の金属膜１２の金属元素を除去後、第１の熱処理より高温の第２の熱処理を行って、上記ｐ^＋型半導体領域１０ｂに、上記ｎ^＋型半導体領域９ｂの表面に形成されたＭＳｉ相の金属シリサイド層よりも薄いＭＳｉ相の金属シリサイド層を形成する。例文帳に追加

After that, the barrier film 13 and unreacted metal elements of the metal film 12 are removed and then a second heat treatment of higher temperature than the first heat treatment is carried out to form a metal silicide layer of an MSi phase thinner than the metal silicide layer of the MSi phase, formed on the surface of the n^+ type semiconductor region 9b, in the p^+ type semiconductor region 10b. - 特許庁

第１段階の低温熱処理で析出物の核となる前駆体を生成させ、第二段階の高温熱処理で前駆体を析出物に成長させるので析出が微細に且つ迅速に進み、Ｃａの含有量が０．０６質量％以下と低いにも係わらず、高強度の基板が得られ、活物質塗布時の変形が防止できる。例文帳に追加

Since a precursor which becomes a nuclear of a deposit is formed in the first step low temperature heat treatment and the precursor is made grown in the deposit in the second strep high temperature heat treatment, deposition is advanced finely and quickly in spite of low Ca content of 0.06 mass% or lower, the grid having the highest strength is obtained and deformation during active material coating can be prevented. - 特許庁

高結晶化度の多層カーボンナノチューブを得るべく、気相成長法で得た多層カーボンナノチューブに、その生成温度を超える高温加熱処理を施す従来の多層カーボンナノチューブの製造方法の課題を解消する。例文帳に追加

To solve problems of a conventional method for manufacturing multilayer carbon nanotubes in which multilayer carbon nanotubes obtained by a vapor phase growth method are subjected to a high temperature heating process over the generation temperature of carbon nanotubes, so as to obtain multilayer carbon nanotubes in a high crystallization degree. - 特許庁

したがって、従来のようなイオン注入技術やＩＭＰＡＴＴダイオードのコンタクト層を利用することなく、高温(６００℃)な熱処理(アニール)が不必要なプロセスで、ガンダイオードＧＤとショットキーダイオードＳＤとを同一基板上に集積できる。例文帳に追加

Consequently, the Gunn diode GD and the Schottky diode SD can be integrated on the same substrate by a process requiring no heat treatment (annealing) of high temperature (600°C) without utilizing a conventional ion implantation technology or the contact layer of IMPATT diode. - 特許庁

シリコンウェーハの熱処理方法では、縦型拡散炉を使用し、その石英製炉心管内のウェーハ保持用ボート上にシリコンウェーハを積載し、このウェーハに対して水素とアルゴンとの混合雰囲気中で高温アニールを実施する。例文帳に追加

With a vertical diffusion furnace used, a silicon wafer SW is loaded on a wafer holding boat 1 in its quartz, and a high-temperature annealing is performed with the wafer SW in a mixed atmosphere of hydrogen and argon. - 特許庁

可塑剤、紫外線吸収剤等のブリードアウト性添加剤の含有量を下げず、また高温加熱処理を行わなくても、可塑剤、紫外線吸収剤等の析出（ブリードアウト）を防止することができるセルロースエステルフィルムを提供することを目的とする。例文帳に追加

To prevent the precipitation (bleeding-out) of a plasticizer, an ultraviolet absorber or the like without lowering the content of a bleeding-out additive such as the plasticizer, the ultraviolet absorber or the like and performing high temp. heat treatment. - 特許庁

また、半導体基板１１の界面のシリコンのダングリングボンドが熱に対して強いシアノイオンで終端化されているので、このシアノイオンで終端化した後、特に高温の加熱処理が必要なカバー膜を形成することができる。例文帳に追加

In addition, since the dangling bonds of silicon in the interfaces of the substrate 11 are terminated by the heat-resistive cyano-ions, a cover film requiring heat treatment at a special high temperature can be formed after the dangling bonds are terminated by the cyano-ions. - 特許庁

コークスベッド式ガス化高温溶融一体化プロセスから排出される未燃炭素の少ない集じん灰を対象として加熱処理する場合に適用し、集じん灰中に含まれる有機ハロゲン化合物等の有機物を効率的に分解させる方法及び装置の提供。例文帳に追加

To provide a method and a device for efficiently decomposing organic materials such as organic halogen compounds contained in collected ash, while are applied for heat treating collected ash discharged from a coke bed type gasification high temperature melding integrated process and small in unburnt carbon. - 特許庁

本発明はノズルからガスを流出し，そのガス圧で材料を非接触で空間に保持し，かつ流出するガスを加熱し，その温度を制御することにより，浮遊のためのガス圧で材料の高温・加熱処理を同時に行うことを可能とした。例文帳に追加

A material is held in a space, in noncontact state, by the pressure of gas fed from a nozzle and then heat heated simultaneously at high temperature by the gas pressure for floating by heating the flowing gas while controlling the temperature thereof. - 特許庁

天然大理石様結晶化ガラスは、軟化点よりも高温の熱処理により主結晶としてβ−ウォラストナイトの針状結晶を析出し、自由表面に、α−ウォラストナイト、シクロ−ウォラストナイトのうち１種以上を含む針状結晶１０ｃが析出する。例文帳に追加

This natural marble-like crystallized glass comprises a β-wollastonite acicular crystal as the principal crystal deposited by a heat treatment at higher temperature than the softening point, and an acicular crystal 10c containing one or more of α-wollastonite and cyclo-wollastonite deposited on the free surface. - 特許庁

短い時間で高温まで昇温させる加熱処理を行う場合であっても、被加熱体の温度を、リアルタイムで十分に高い精度で推定することができる、低コストな温度推定方法および装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a temperature estimating method and a temperature estimating device at low cost capable of estimating temperature of a heated object with a sufficiently high degree of accuracy in real time even when heating treatment that rises temperature to high temperature in a short time. - 特許庁

可食材料を高温で加熱処理することにより生成するアクリルアミドの量を積極的に抑制する方法とその用途を確立し、より安全な飲食物、化粧品、医薬品、又はそれらの中間製品などの組成物を提供することを課題とする。例文帳に追加

To establish a method of positively reducing the amount of acrylamide formed by heating an edible material at a high temperature and the use of the acrylamide to thereby provide foods, drinks, cosmetics, drugs and intermediates thereof having improved safety. - 特許庁

加工熱処理によってかかる合金から物品を製造する際には、融液の凝固時に微細炭窒化チタン−ジルコニウム析出物の分散体が生成し、以後の高温処理段階時にも存続してオーステナイト結晶粒の成長を防止する。例文帳に追加

In the production of an article from such an alloy by thermomechanical processing, a dispersion of the fine titanium-zirconium carbonitride precipitates forms during solidification of the melt, and remains present during subsequent high temperature processing steps to prohibit austenitic crystal grains growth. - 特許庁

ドーパントの拡散を防止又は軽減するために炭素がそのまま残るように、炭素含有領域から炭素の外方拡散を軽減するためにフロントエンド熱処理動作、例えば、酸化及び／又はアニールプロセスが高温で、短い期間行なわれる。例文帳に追加

A front-end heat treatment operation for reducing outward diffusion of carbon from a carbon-containing region, for example, oxidation and/or annealing process is performed at a high temperature in a short period so that carbon is remained as it is for preventing or reducing dopant diffusion. - 特許庁

大きなＱ・ｆ_0値を有し、かつ高温で長時間熱処理してＢ位の規則化を達成することを必要とせずに、大きな品質係数値が得られ、また大きな誘電率と、安定した共振周波数の温度係数とを有するマイクロ波用誘電体組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a dielectric composition for microwave having a large Qf_0, giving a large value of quality coefficient without attaining level B regulation by a longtime heat treatment at a high temperature, and having a large permittivity and a stable temperature coefficient of resonance frequency. - 特許庁

また、ゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１０ｎ、１０ｐを分離する以前の工程では、７００℃以上の高温の熱処理を行わないようにすることで、ゲート電極形成前の工程における不純物の相互拡散を防止する。例文帳に追加

In a process before isolation of the gate electrodes 10n, 10p by patterning gate electrode material, thermal treatment of high temperature of at least 700°C is made not to perform, so that the interdiffusion of dopant in a process before gate electrode formation is prevented. - 特許庁

高い熱伝導性と電気絶縁性とを兼ね備え、マトリックス中への分散性が高く、マトリックスとの接着性が高く、かつマトリックスとの無用な反応が抑制された、高温熱処理を必要とせずに、安価に製造可能な炭素繊維を提供する。例文帳に追加

To provide carbon fibers which have both high heat conductivity and high electric insulation, have high dispersibility in a matrix, have high adhesiveness to the matrix, control a useless reaction with the matrix, and can be produced at a low cost without needing a high thermal treatment. - 特許庁

加熱処理による汚染土壌浄化プロセスで発生する排ガス中に高温にて、アルカリ土類金属または鉄の酸化物、水酸化物または炭酸塩を吹き込み、排ガス中のヒ酸またはその化合物をアルカリ土類金属または鉄のヒ酸塩に変換し、この塩を捕集する。例文帳に追加

The oxide, hydroxide or carbonate of alkaline earth metal or iron is blown into the waste gas generated in a contaminated soil cleaning process by heat treatment at high temp. to convert the arsenic acid or its compound to the arsenate of the alkaline earth metal or the iron, then the salt is captured. - 特許庁

圧電性セラミックスを高温熱処理して成膜すると、膜内部の引張応力のために中電界領域における電界対変位特性曲線Ａの傾き（圧電定数ｄ_31）が大きくなり、圧電特性に優れた圧電体薄膜素子を提供することができる。例文帳に追加

When a film is formed by heat treating piezoelectric ceramic at high temperature, inclination (piezoelectric constant d31) of the field vs displacement characteristic curve A increase in the intermediate field region due to tensile stress in the film and a piezoelectric thin film element excellent in piezoelectric characteristics can be obtained. - 特許庁

電子線照射や高温アニールまたは酸素雰囲気下での合金化熱処理等を必要とせず、かつ良好な透光性と低接触抵抗を有する電流拡散性に優れた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子用正極を提供すること。例文帳に追加

To provide a translucent positive electrode for a compound semiconductor light-emitting device that does not need alloying heat treatment under electron radiation, high temperature annealing or oxygen atmosphere, and has proper translucency and low contact resistance, being superior in diffusion of electric current. - 特許庁

この構成により、大口径半導体基板での高温かつ長時間の熱処理でより顕著となる、半導体基板の反りやスリップを生じさせることなく、相補型の高耐圧ＭＩＳＦＥＴを有する半導体集積回路装置を提供することが可能となる。例文帳に追加

Because of this configuration, a semiconductor integrated circuit apparatus having the complementary high breakdown voltage MISFET can be provided without causing warpages and slips of the semiconductor substrate which become more remarkable by the high-temperature and long-time heat treatment in the large diameter semiconductor substrate. - 特許庁

鉛過剰添加の低温焼成圧電磁器組成物において、分極工程の実施前に熱処理を実施することにより、絶縁抵抗の向上や高温、高湿での放置により絶縁抵抗が低下することのない高い安定性を有する圧電磁器組成物を得ることができる。例文帳に追加

This piezoelectric porcelain composition of high stability with enhanced insulation resistance and no lowering of insulation resistance when left at high temperature and high humidity can be obtained by carrying out heat treatment before the polarization process in manufacturing the low temperature-sintered piezoelectric porcelain composition added with excessive lead. - 特許庁

熱処理による合金化を行わずに形成することが可能でありかつ製造工程や組み立て工程時における各種高温条件下においても極めて安定な特性を保持することが可能なオーミック電極を備えた半導体素子を提供することである。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which is equipped with an ohmic electrode capable of being formed without necessity of alloying by heat treatment and capable of preserving extremely stable properties even under each kind of high-temperature conditions in a manufacturing process or an assembly process. - 特許庁

不揮発メモリセルの集積化を実現するために、タングステンＷを用いてゲート電極を形成し、前記ゲート電極の使用中に発生する高温の熱処理問題を克服するための不揮発性メモリセルの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a nonvolatile memory cell capable of forming a gate electrode with a tungsten W to realize integration of a nonvolatile memory cell, and overcoming the heat treatment problem of high temperature generated during the use of the gate electrode. - 特許庁

電子線照射や高温アニールまたは酸素雰囲気下での合金化熱処理等を必要とせず、かつ良好な透光性と低接触抵抗を有する電流拡散性に優れた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子用の透光性正極を提供すること。例文帳に追加

To provide a translucent positive electrode for a gallium nitride-based compound semiconductor light-emitting device having high translucence, low contact resistance and excellent current diffusivity without requiring electron beam irradiation, high-temperature annealing, heat treatment for annealing in an oxygen atmosphere, or the like. - 特許庁

基板５上に走査型プローブ顕微鏡のカンチレバー２を用いて無機材料を含む溶液６によるパターン描画を行った直後に、同一装置１内においてレーザを用いた局所高温アニールにより描画パターン８を加熱処理する。例文帳に追加

A drawing pattern 8 is heat-treated by local high temperature annealing using laser in the same device 1 immediately after carrying out pattern drawing by a solution 6 containing the inorganic material by using a cantilever 2 of a scanning type probe microscope on a substrate 5. - 特許庁

液晶ディスプレイの製造工程において使用される工程紙に用いられるポリエステルフィルムであって、高温で熱処理されてもオリゴマーに起因する白粉の析出の少ない、あるいは実質的に白粉の析出しない工程紙用ポリエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a polyester film for process paper which is the polyester film used in a manufacturing process for a liquid crystal display as process paper and which deposits little or substantially no white powder caused by oligomers when heat treated at high temperature. - 特許庁

燃料改質剤は、電気石を酸性溶液中に浸漬する不純物除去工程と、上記電気石を高温で加熱する熱処理工程と、上記電気石を所定温度に維持しつつ使用燃料中に浸漬する燃料浸透工程とにより処理されるものである。例文帳に追加

The fuel reforming agent is treated in an impurities-elimination step of immersing tourmaline in an acidic solution, in a heat-treatment step of heating the tourmaline at high temperature, and in a fuel-infiltration step of immersing the tourmaline in an in-use fuel while maintaining the tourmaline at a predetermined temperature. - 特許庁