「高温熱処理」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明に係る添加材では、炭素網層が同心状をなすチューブ状の気相成長炭素繊維であって、高温で熱処理されてなることを特徴とする。例文帳に追加

This additive is made of a vapor phase epitaxy carbon fiber of tube shape in which the carbon net layer is formed in concentric form and treated at high temperature. - 特許庁

チップはシャンクに結合部材を使用せずに組立てられるので、銀半田加熱のための高温熱処理工程であるブレージング工程を省略することができる。例文帳に追加

Since the tip can be assembled to the shank without using a connecting member, a brazing process which is a high temperature heat treatment process for heating silver solder can be omitted. - 特許庁

強誘電体キャパシタ１０をＣｒ−Ｔａ膜２を設けて構成することで、誘電体膜材料として、高温の熱処理が必要なＰＺＴを用いることが可能となる。例文帳に追加

By composing the ferroelectric capacitor 10 by providing the Cr-Ta film 2, as a dielectric film material, the use of PZT requiring high temperature heat treatment is made possible. - 特許庁

また、鋭角部を有するカーボンナノチューブを、相転移温度より低温側及び高温側で静置して熱処理する工程を有する製造方法を用いる点にある。例文帳に追加

A manufacturing method having a process to heat-treat the carbon nanotube having the acute angle portion by leaving it so as to stand still on the temperature side lower and higher than a phase transition temperature is used. - 特許庁

詳細には、本発明の方法は、高温及び高圧、代表的には２１００から２５００℃の間の温度及び６〜８ＧＰａの圧力で、成長したダイヤモンドを熱処理するステップを含む。例文帳に追加

In detail, the method includes a step of heat-treating the diamond grown at a high temperature and high pressure, representatively at a temperature of 2,100-2,500°C and pressure of 6-8 GPa. - 特許庁

タンタル酸リチウム基板とサファイア基板とを高温熱処理を施すことなく接合させて接合強度が高くかつ反りの少ない接合基板を実現すること、および温度安定性に優れたＳＡＷ素子を提供すること。例文帳に追加

To realize a junction board having high junction strength and warpage is small by joining a tantalic acid lithium substrate and a sapphire substrate, without performing high-temperature heat treatment, and to provide an SAW element of which temperature stability is superior. - 特許庁

炭化ケイ素単結晶ウェハを高温で加熱処理した後にウェハ裏面の表面粗さが悪化することを効果的に抑制することができるウェハ保持方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for holding a wafer, which effectively controls worsening of surface roughness on the backside after a silicon carbide single crystal wafer is heated at a high temperature. - 特許庁

気孔を有する高温熱処理型鉛筆芯において、該気孔に粒径のｄ５０値が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の超微粒マイクロカプセルを配置してなる鉛筆芯。例文帳に追加

In the high-temperature heat treatment type pencil lead having pores, the pores hold the microcapsules of ultra fine particles whose d50 value of the particle size is ≥20 nm and ≤100 nm. - 特許庁

優れた電気伝導性を示すと共に、大気中で繰り返し高温加熱処理が施された場合であっても、優れた耐凝集性を示すフラットパネルディスプレイ用Ａｇ基合金配線電極膜を提供する。例文帳に追加

To provide an Ag-based alloy wiring electrode film for a flat panel display which has excellent electrical conductivity and has sufficient cohesion resistance even when it is repeatedly subjected to high temperature heating treatment in the air. - 特許庁

高温での加熱処理を施さなくても優れた光触媒活性を有する光触媒粉体を容易に製造する方法及び非耐熱性基材の表面であっても光触媒膜を作製できる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for easily manufacturing photocatalyst powder having photocatalyst activity even if the photocatalyst powder is not subjected to a heat treatment at a high temperature and to provide a method capable of manufacturing a photocatalyst film even on the surface of a non-heat resistant base material. - 特許庁

高温の浸炭炉の熱効率を向上させるとともに，その廃熱を利用することにより設備全体を省エネルギーなものとすることのできる熱処理炉を提供すること。例文帳に追加

To provide a heat-treatment furnace with which the thermal-efficiency of a carburizing furnace at high temperature is improved and the whole equipment can be made to be saving-energy by utilizing the waste heat. - 特許庁

前記結晶質半導体膜に選択的に不純物元素を選択的に導入した後、高温で第１の加熱処理を行ない、前記不純物領域に前記金属元素をゲッタリングする。例文帳に追加

After an impurity element is introduced selectively into the crystalline semiconductor film, first heat treatment is conducted under a high temperature and the metallic element is gettered into the impurity region. - 特許庁

本発明は、高温状況下でも塩素系ガスを発生することのない光ファイバを得るための光ファイバの熱処理方法及びこの方法により得た光ファイバを用いる光ファイバジャイロを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a heat treatment method of an optical fiber for obtaining the optical fiber producing no chlorine-based gas even in the high temperature state, and an optical fiber gyro using the optical fiber obtained by this method. - 特許庁

金属シリサイド層形成後、高温の熱処理を施しても異常酸化の発生を抑制することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor element which suppresses an occurrence of abnormal oxidation even heat treating at high temperatures after forming a metal silicide layer. - 特許庁

この光吸収層と基板との間に、半導体層や絶縁層を介在させておくと、光吸収層と重畳する部位が選択的に高温に加熱されて熱処理を行うことができる。例文帳に追加

When the semiconductor layer and the insulating layer are interposed between the light absorption layer and the substrate, the part overlapping the light absorption layer is heated selectively to a high temperature and thereby the heat treatment can be carried out. - 特許庁

このように形成された光波長変換素子を低温アニールすることで高温熱処理時に生じた屈折率上昇を低下させた安定プロトン交換層８ａを形成することで、安定な光波長変換素子が得られる。例文帳に追加

An optical wavelength conversion element which is thus formed is annealed at low temperature to form a stable proton exchange layer 8a whose refractive index increase caused in a high-temperature heat treatment is lowered, thereby obtaining the stable optical wavelength conversion element. - 特許庁

高温での加熱処理後に高い引張り強さを備え、且つ、薄い非水電解液二次電池の集電体としての使用に好適な複合箔を提供する。例文帳に追加

To provide a complex foil equipped with a high tensile force after heating treatment at high temperature, and suitable for use as a collector of a thin nonaqueous electrolyte secondary battery. - 特許庁

高温長時間の熱処理を必要とせず、また、高品質な半導体膜を形成せずとも再結合損失を抑制することができる光電変換素子を提供する。例文帳に追加

To provide a photoelectric conversion element which does not require high temperature long time heat treatment, and can suppress recombination loss without forming a high quality semiconductor film. - 特許庁

その後、ＴＦＴ基板１１０と対向基板１２０とを重ね合わせ、加圧しながら高温で熱処理して、スペーサ１２５の頂部の配向膜１２６とＴＦＴ基板１１０側の配向膜１１８とを接合する。例文帳に追加

Thereafter, the orientation film 126 at the top of the spacer 125 and the orientation film 118 on the side of the TFT substrate 110 are joined by superimposing the TFT substrate 110 and the facing substrate 120 and heat-treating them at a high temperature with pressurization. - 特許庁

気相成長法で得た多層のカーボンナノチューブに、その生成温度を超える高温加熱処理を施す従来のカーボンナノチューブの製造方法の課題を解消する。例文帳に追加

To solve the problem in the conventional method for manufacturing carbon nanotubes, in which multi-walled carbon nanotubes obtained by a vapor phase growth method are subjected to a heat treatment at a high temperature higher than the formation temperature of the carbon nanotubes. - 特許庁

高誘電率絶縁膜を用いる半導体装置において、高温熱処理によるゲート絶縁膜の信頼性劣化を防止し、ゲート電極の抵抗を低くする。例文帳に追加

To prevent a gate insulating film's reliability degradation through high-temperature heat treatment and lower a gate electrode's resistance in a semiconductor device using a high dielectric constant insulating film. - 特許庁

高分子重合体の着色範囲が広く、しかも重合後に高温での加熱処理を必要としない簡略な方法で耐光性に優れた着色高分子材料を得る。例文帳に追加

To obtain a colored polymer material having broad coloring range of high polymer, producible by a simple method without using high-temperature treatment after the polymerization and having excellent light resistance. - 特許庁

より高温の加熱処理装置の排熱によって加熱された作動液を内部中空のホットプレート１４内部に流通させてホットプレート上に載置したフラットディスプレイパネル基板を加熱する。例文帳に追加

A working fluid heated by the waste heat of the heat treatment apparatus of a higher temperature is passed through the inside of the internally hollow hot plate 14 to heat a flat panel display substrate placed on the hot plate. - 特許庁

モノシート型熱現像カラー撮影感光材料において、１３０℃以上での高温加熱処理後感材のカーリングが解消され、スキャナー等で読み取るのに支障を来すこと無く高画質で読み取りを可能とする。例文帳に追加

To suppress the curling of a monosheet type heat developable color photographing photosensitive material after heating at a high temperature of ≥130°C and to enable read with high image quality without hindrance to read using a scanner or the like. - 特許庁

金属等の被処理物を高温液体中で部分熱処理するに際し、煩雑な設備を用いなくとも、液位を正確に調整することを可能とする。例文帳に追加

To precisely adjust a liquid level without using a complicated facility, when partially heat treating a material to be treated such as metals, in a high- temperature liquid. - 特許庁

高温熱処理を行うことなく、円筒型の容量蓄積電極１１表面をじゃばら形状とすることができ表面積を拡大して、キャパシタ容量を増大することができる。例文帳に追加

The surface of the cylindrical capacity storage electrode 11 can be formed into bellows without performing high-temperature heat treatment, and the surface area is enlarged to increase the capacity of the capacitor. - 特許庁

耐熱性、透明性に優れ、レトルト処理などの高温熱処理が必要な用途に好適に用いることができる接着剤用ポリエステル樹脂を提供すること。例文帳に追加

To provide a polyester resin for adhesives which excels in heat resistance and transparency and can be suitably used in applications requiring high temperature heat treatment such as retorting treatment. - 特許庁

したがって、ジルコニアとの界面に安定に存在させるために高温の熱処理を行っても、電解質２との間で相互拡散が殆ど生じず、パイロクロアなどの不導体相などが生成されない。例文帳に追加

Therefore, even if a high temperature heat treatment is applied to have it stably exist at an interface with zirconia, interdiffusion with the electrolyte 2 hardly occurs, and a non-conductive phase such as of pyrochroite is not generated. - 特許庁

５００℃程度までの清浄な高温雰囲気ガス中での熱処理を、消費電力を大幅に削減して行うことができるクリーンオーブンを提供する。例文帳に追加

To provide a clean oven, for performing heat treatment in clean high temperature atmospheric gas up to about 500°C, by largely reducing electric power consumption. - 特許庁

これを真空高温環境で加熱処理し、シリコンプレート２３を融解させ、単結晶ＳｉＣ基板１５と多結晶ＳｉＣ基板２０との間にＳｉの極薄溶融層を溶媒として介在させる。例文帳に追加

Thereafter, the silicon plate 23 is melted by heat treating them under high vacuum high temperature environment so as to interpose an extremely thin melt layer of Si as solvent between the single crystal SiC substrate 15 and the polycrystalline SiC substrate 20. - 特許庁

粉粒体を高温高湿気体で加熱処理しても結露させることなく袋詰などすることができる構造の粉粒体処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a powder and grain treating device having a structure capable of bagging powder and grain without condensation even if the powder and grain is heat-treated by high temperature-high humidity gas. - 特許庁

グラファイト化はコイル状炭素繊維を１５００〜３５００℃の温度範囲内で０．０１〜１０００時間高温熱処理して行われ、コイル状炭素繊維の非晶質部分が全てグラファイト化する。例文帳に追加

The graphitization of coil carbon fiber is attained by heating at 1,500-3,500°C for 0.01-1,000 hours whereby the whole of the amorphous parts are graphitized. - 特許庁

酸化カルシウムとリン酸を主成分とする組成物を高温で溶融し、溶融により得られた融液を急冷してガラス化し、このガラスを溶融温度より低い温度で熱処理する。例文帳に追加

This inorganic material of calcium phosphate is obtained by melting a composition containing calcium oxide and phosphoric acid as main components at high temperatures, by quenching the fused composition to vitrify it and heat-treating the glass at the temperature lower than its melting temperature. - 特許庁

本発明の目的は、高温高湿下といった湿熱処理後の耐薬品と密着性、及び耐擦傷性に優れる反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an antireflection film excellent in chemical resistance, adhesiveness and scratch resistance after moisture-heat treatment under conditions of high temperature and high humidity. - 特許庁

ホットウォール３及びＲＦコイル４を同時に移動させることができる熱処理装置を用いて、ＲＦコイル４によりホットウォール３に囲まれた高温領域７を発生させる。例文帳に追加

A high temperature area 7 surrounded by the hot wall 3 is generated by an RF coil 4 in the heat treatment device capable of simultaneously moving the hot wall 3 and the RF coil 4. - 特許庁

この発明は、厚肉材で高温長時間の溶接後熱処理が要求される厳しい使用条件においても、優れた靭性と優れた耐再熱割れ性を有するＣｒ−Ｍｏ鋼を提供する。例文帳に追加

To provide Cr-Mo steel of a thick material having excellent toughness and excellent reheat cracking resistance even in severe using conditions requiring heat tretment after welding at high temperature for a ling time. - 特許庁

この構成は、高温かつ長時間の熱処理を施す必要のないエピタキシャル層を深いウェルとして配置し、相補型の高耐圧ＭＩＳＦＥＴを形成する構成である。例文帳に追加

In this configuration, the epitaxial layer in no need of the high-temperature and long time heat treatment is arranged as a deep well and the complementary high breakdown voltage MISFET is formed. - 特許庁

ＬＥＤの製造工程を想定した高温加熱処理を行っても、変色せずに、高い白色度を維持し、可視光領域での反射率特性に優れたＬＥＤ用リフレクタを与えるポリアミド樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a polyamide resin composition giving an LED reflector, free from discoloration, maintaining high whiteness, excellent in reflecting property in visible light region after carrying out a heating process at a high temperature imaging a producing process for LED. - 特許庁

高温での熱処理条件下においても高い温度均一性および熱効率を保つことができ、破損することなく且つ充分な耐食性を有する基板支持部材を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate support member which can maintain high temperature uniformity and thermal efficiency even under heat treatment conditions at high temperature, are not damaged, and has sufficient corrosion resistance. - 特許庁

高温酸化熱処理で基板裏面に付着した酸化異物を除去し、この付着酸化異物を起因として生じていたデバイス作製時のパターニング不良を低減できる。例文帳に追加

To reduce patterning defects in device fabrication caused by sticking of oxidation foreign matter by removing the oxidation foreign matter sticking on the reverse surface of a substrate through a high-temperature oxidation heat treatment. - 特許庁

不飽和カルボン酸化合物を１８０〜２００℃の高温での熱処理による架橋を行わずに、透明性に優れ、且つ高湿度下でのガスバリア性に優れたガスバリア性膜を安定して得る方法を開発することを目的とする。例文帳に追加

To develop a method for obtaining stably a gas barrier membrane having excellent transparency and gas barrier property under high humidity without conducting cross-linking by heat treatment of an unsaturated carboxylic acid compound at a high temperature of 180-200°C. - 特許庁

金属磁性粒子に高電気絶縁牲を付与し、かつ、高温での熱処理を可能にさせ、高透磁率および高抵抗率を有する磁気部品を比較的簡便な方法で提供する。例文帳に追加

To provide a magnetic component which has high magnetic permeability and high resistivity with a relatively easy method by imparting high electric insulation to metal magnetic particles and making a high-temperature heat treatment possible. - 特許庁

高温下で熱圧着、加熱処理、レトルトを施しても高輝度感を消失しにくい、ラミネートインキ及びラミネート缶用印刷インキ組成物の提供。例文帳に追加

To provide a printing ink composition for a laminate ink and a laminate can that hardly lose the high luminance even by the processes of heat-pressure bonding, heat-treatment and retort treatment. - 特許庁

カーボンナノファイバー４０は、気相成長法によって製造された後、気相成長法における反応温度より高温であって、かつ、１１００℃〜１６００℃で熱処理されている。例文帳に追加

After the carbon nanofiber 40 is manufactured by vapor phase growth method, it is heat-treated at 1,100°C-1,600°C, which is higher than the reaction temperature in the vapor phase growth method. - 特許庁

このように形成された光波長変換素子を低温アニールすることで高温熱処理時に生じた屈折率上昇を低下させた安定プロトン交換層８ａを形成し、これが安定な光波長変換素子となる。例文帳に追加

A light wavelength converting element which is thus formed is annealed at low temperature to form a stable proton exchange layer 8a such that an increase in refractive index which is caused in a high-temperature heat treatment is lowered, thereby obtaining a stable light wavelength converting element. - 特許庁