「高温熱処理」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

高温加熱処理を行わずして常温で容易に任意の大きさの一体ものの形状物品として得ることができ、形状寸法安定性にも優れ、且つ高い強度と靱性を備えた耐摩耗材を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasion resistant material capable of being obtained as a shaped article of one body having an optional size easily at the normal temperature without performing a high temperature heat treatment, excellent in shape and dimensional stability and also equipped with a high strength and toughness. - 特許庁

製造工程における高温加熱処理が不要であり、燃焼中の発煙が極めて少なく、食材の加熱調理に有効な遠赤外線を効率的に放射する固形燃料を提供する。例文帳に追加

To provide a solid fuel not requiring high-temperature heat treatment in a production process, causing very little amount of smoke under burning, and efficiently radiating far infrared rays effective for the cooking of a food material. - 特許庁

湿熱処理が高温であっても優れた耐湿熱性能を保持することができ、糸質性能が良好で、表面平滑性にも優れ、かつ、操業性よく生産することができるポリエステルフィラメントを提供する。例文帳に追加

To provide a polyester filament capable of holding excellent moist heat resistance even if the moist heat treatment is carried out at high temperature, having good yarn quality and excellent surface smoothness, and being produceable in good operability. - 特許庁

熱可塑性樹脂フイルムを被覆した後、異なる温度で高温熱処理することにより熱可塑性樹脂フイルムの結晶化率を片方は３０％以下に、もう片方は５０％以上に調整する。例文帳に追加

After the thermoplastic resin film is provided for covering, it is heat-treated with different high temperatures and thereby the rate of crystallization of the thermoplastic resin film is controlled to be 30% or less on one side and 50% or more on the other. - 特許庁

高温高圧のアンモニアによって窒化して脆化した炭素鋼からなる部材を、酸素含有ガス中、５５０〜１０００℃の温度で０．５〜７時間熱処理した後、再使用することを特徴とする。例文帳に追加

A member formed of carbon steel nitrided and embrittled by high-temperature and high-pressure ammonium is heat-treated in oxygen-containing gas at a temperature of 550-1,000°C for 0.5-7 hours, and then, reused. - 特許庁

主磁性層２内の結晶粒子４に粒内で組成勾配を持たせることにより、結晶粒の成長を抑制し、高温の熱処理においても軟磁気特性に優れた磁性体薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide the magnetic body thin film which suppresses the growth of crystal particles and has superior soft magnetic characteristics even in a high-temperature heat treatment by giving a composition gradient in crystal particles in a main magnetic layer. - 特許庁

高温の基板加熱と熱処理工程を必要とせず、室温で高密度、高緻密性や高密着性をもつ脆性材料微粒子成膜体が形成できる脆性材料微粒子を提供する。例文帳に追加

To provide a brittle material fine particle, which can form a brittle material fine particle film having high density, high compactness and high adhesiveness at room temperature without needing high-temperature substrate heating and thermal treatment steps. - 特許庁

高温加熱処理とラビング処理を必要としない、垂直配向能に優れたむらの無い均一な配向膜を形成することが可能な配向膜組成物、及びその配向膜組成物用いた液晶表示素子を提供する。例文帳に追加

To provide an oriented membrane composition forming a uniformly aligned membrane without having unevenness, excellent in vertical aligning function and without requiring a high temperature-heating treatment and rubbing treatment, and a liquid crystal-displaying element by using the aligned membrane composition. - 特許庁

このように、シリコン酸化膜６からなるキャップ層を用いれば、高温でも有効にキャップ層としての役割を果たし、不純物の活性化のための熱処理による表面荒れと組成比異常を抑制することができる。例文帳に追加

When the silicon oxide film 6 is employed as a cap layer, it plays the role as a cap layer effectively even under a high temperature and the surface roughening and abnormal composition ratio due to heat treatment for impurity activation can be suppressed. - 特許庁

酸素雰囲気中の高温の熱処理によってプラグが酸化されて、容量下部電極とプラグとのコンタクト抵抗が高くなってしまう事態を防止する。例文帳に追加

To prevent such a situation that a plug is oxidized by thermal treatment at a high temperature in an oxygen atmosphere and the contact resistance of a capacitance lower electrode and the plug becomes high. - 特許庁

高温での熱処理が必要な産業用ポリエステルフィラメントの製造工程において、耐熱性が良好で工程汚れが少なく、かつ、金属の摩耗防止性と高い制電性を付与できる処理剤。例文帳に追加

To provide a treatment agent high in heat resistance, slight in causing process staining, and capable of imparting metal abrasion-proofness and high antistaticity, in the process of producing polyester filaments for industrial use needing heat treatment at high temperatures. - 特許庁

リフロー等のような高温での熱処理前後の共振周波数の変化量を抑え、かつ、ばらつきを減らすことができる積層型圧電部品を得る。例文帳に追加

To obtain a laminated piezoelectric component where a change in a resonance frequency before and after a heat treatment at a high temperature such as reflow can be suppressed and the dispersion of the change can be reduced. - 特許庁

高温でウエハを均一に加熱処理することができ、破損することがないウエハ保持体、及びそのウエハ保持体を搭載した半導体製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wafer holder that can heat-treat a wafer uniformly at high temperature and cannot be damaged, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus mounted with the wafer holding body. - 特許庁

結晶化熱処理も高温焼結も必要とせずに、微細な結晶粒から成り、大きな保磁力を備えたナノコンポジット磁石を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of producing a nanocomposite magnet composed of fine crystal grains that has a high coercive force without requiring crystallization heat treatment or high-temperature sintering. - 特許庁

高温での加熱処理や大掛かりな設備を必要とせずに、プラスチック基板上に電気伝導性に優れた透明導電性膜を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a transparent conductive film excellent in electric conduction property on a plastic substrate without needing the heating treatment at high temperature and a large-scale facility. - 特許庁

相対的に低い温度の熱処理によっても、比抵抗、抵抗温度特性、高温安定性、耐塩水性のいずれにも優れた薄膜抵抗器、およびその製造のための抵抗体材料および製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film resistor excellent in the specific resistance, resistance temperature characteristics, high-temperature stability, and salt water resistance even by thermal processing at relatively low temperature, a resistor material for manufacturing the same, and a manufacturing method. - 特許庁

高温かつ長時間の熱処理を経ても、フィルムの柔軟性および加工性を維持する耐脆化性に優れた、タッチパネル用ポリエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a polyester film for a touch panel excellent in embrittlement resistance and capable of maintaining flexibility and workability of the film even after the film is subjected to a thermal treatment at a high temperature for a long period. - 特許庁

ＬＥＤの製造工程を想定した高温加熱処理を行っても、変色せずに、高い白色度を維持し、可視光領域での反射率特性に優れたＬＥＤ用リフレクタを与えるポリアミド組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a polyamide composition giving an LED reflector, which is free from discoloration, maintains high whiteness, and has excellent reflecting property in the visible light region even it is subjected to a high temperature heating treatment assuming a process for manufacturing an LED. - 特許庁

高温熱処理や酸処理工程を用いないで、安全でかつ簡素なプロセスで高強度な多孔質ガラスを得ることができる相分離ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide a phase-separated glass giving high-strength porous glass by a safe and simple process without using a high-temperature heat treatment or an acid treatment step. - 特許庁

高温での加熱処理や大掛かりな設備を必要とせずに、電気伝導性および基板との密着信頼性に優れた透明導電性膜を有する透明導電性膜積層体を提供する。例文帳に追加

To provide a transparent conductive film laminate including a transparent conductive film with excellent electrical conductivity and adhesion reliability to a substrate without requiring heating treatment at high temperature and an extensive facility. - 特許庁

極めて短時間に高温の流体を冷却又は低温の流体を加熱することができるばかりでなく、被熱処理流体が付着した部位の清掃も簡便且つ確実に行うことができる流下液膜式熱交換装置。例文帳に追加

To provide a falling liquid film type heat exchange device capable of not only cooling high-temperature fluid or heating low-temperature fluid for an extremely short time but also of easily and securely cleaning a portion to which heated fluid is adhered. - 特許庁

このとき、ガス拡散撥水層１０，１２にはシリカ撥水剤３４によって撥水性が与えられることから、高温の熱処理が必要で製造コストも不利な弗素樹脂系撥水剤を用いる必要がない。例文帳に追加

Here, the water repellency is given to the gaseous diffusion water-repellent layers 10 and 12 by the silica water repellent agent 34, so it is unnecessary to use a fluorocarbon resin water repellent agent which requires a high temperature heat treatment and is disadvantageous in manufacturing costs. - 特許庁

特殊な高価な高温用の熱交換器を不要にして、耐熱性の低い汎用の安価な熱交換器を用いることができるようにした熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment device using a general inexpensive heat exchanger low in heat resistance by eliminating the need of a special expensive heat exchanger for high temperature. - 特許庁

高温度での熱処理（溶体化処理−焼入れ処理等）を施すことなく鋳造のままでも高強度を確保することができるアルミニウム合金を提供する。例文帳に追加

To provide an aluminum alloy in which high strength can be secured in a cast article as it is without applying high-temperature heat treatment (solution treatment, quench treatment or the like). - 特許庁

ａ−ＩＧＺＯ薄膜の熱処理による閾値電圧が大きく負の値にシフトしてしまう問題の解決とデバイス作製プロセスの最高温度をプラスチック基板の軟化点よりも低く抑える。例文帳に追加

To solve such a problem that a threshold voltage is greatly shifted to a negative value due to heat treatment of an a-IGZO thin film, and to suppress the maximum temperature in a device production process lower than a softening point of a plastic substrate. - 特許庁

複数の膜を有する電子素子において、膨張又は収縮を起こす膜に対する応力緩和を、半導体等の製造プロセスにおける高温熱処理時の物性変化においても対応可能とすること。例文帳に追加

To obtain an electronic element having a plurality of films, wherein the electronic element can cope with stress relaxation to a film which causes expansion or contraction even a change in material during high-temperature heat treatment in a manufacture process of a semiconductor or the like. - 特許庁

基板表面をより高温に昇温して良好な不純物活性化を行うことができるとともに、チャンバーの内壁面の汚染を抑制することのできる熱処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide heat treatment equipment that not only carries out good impurity activation by allowing a substrate surface to be heated at higher temperature but also suppresses contamination of an inner wall surface of a chamber. - 特許庁

基板に対してフラッシュランプアニールのような高温かつ短時間の熱処理を施す場合に、裏面のキズやクラックを起点とする基板の割れを抑制することが可能な基板の製造方法および基板を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate manufacturing method and a substrate, capable of suppressing a split substrate from the origin of a scratch or a crack on the rear face, when performing high-temperature and short-time heat treatment, such as flash lamp annealing, on the substrate. - 特許庁

基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することのできる熱プラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heat plasma treatment device capable of treating the whole desired treated region of a base material for a short time, when the surface vicinity of the base material is uniformly heat-treated at high-temperature, only for a short time. - 特許庁

高温での加熱処理が不要で、かつ、膜厚の比較的大きい結晶化された金属酸化物の薄膜を、従来に比べて格段に短い時間で形成できる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a thin film of a crystallized metal oxide which does not require heat treatment at a high temp. and has a relatively large film thickness, for a remarkably short time as compared to the conventional method. - 特許庁

そして、それら第一Ａｕ系層１０ａと第二Ａｕ系層１０ｂとを密着させ、１８０℃よりも高温かつ３６０℃以下で熱処理することにより貼り合わせる。例文帳に追加

The first Au based layer 10a and the second Au based layer 10b are stuck tightly each other and then pasted by heat treating at a temperature of 180-360°C. - 特許庁

処理原料の乾燥及び熱分解に当たり、設備全体を比較的小型に形成でき、処理時間も短い高温の過熱蒸気を用いた熱処理設備を提供する。例文帳に追加

To provide a thermal treatment equipment using high-temperature superheated steam to dry and thermally decompose the raw material to be treated, possible to be relatively miniaturized over the whole of the equipment and treatable in a short time. - 特許庁

高温での使用温度域を広げ、金属スケールなどの異物付着によるワークの汚染を防止し、かつワークの浮かし治具等を不要とする両面熱処理用コンベアを提供する。例文帳に追加

To provide a conveyor for double-sided heat treatment that expands a usage temperature region at a high temperature, prevents the contamination of work due to the adhesion of foreign objects and the like on metallic scale, and eliminates the need for the floating tool or the like of the work. - 特許庁

基板を低温に維持したまま、膜の高温アニール等の熱処理をし、または熱ＣＶＤ膜を基板表面に形成することができる安価な膜形成方法および膜形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film forming method and a film forming apparatus which are low cost and can execute heat treatments, such as, high temperature annealing of a film or can form a thermal CVD film on the surface of a substrate, while keeping the substrate at a low temperature. - 特許庁

高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法及びシリコンウェーハを提供する。例文帳に追加

To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit, and to provide a silicon wafer. - 特許庁

最終的に高温で加熱処理すると、極めて機械的強度の高い成型品となる繊維成型品原料を得ることのできる繊維成型品抄造方法および装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for forming a sheet of a fiber formed product by which a raw material for the fiber formed product capable of affording the formed product having an ultrahigh mechanical strength by finally carrying heat treatment at a high temperature can be obtained. - 特許庁

従って、熱処理が施された直後の高温の対象物が常温の搬送用治具と接触して、対象物に熱ショックによる損傷が発生する事態を未然に防止することができる。例文帳に追加

Thus, a situation that the object at a high temperature immediately after the heat treatment is executed is brought into contact with the jig for conveyance at a normal temperature and the object is damaged by a heat shock is prevented. - 特許庁

被加熱物を高温に加熱する場合であっても、その近傍に配設された石英構成部材に影響を与えることなく被加熱物の熱処理を行うことを可能とする誘導加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating device in which heat treatment of a heated material can be carried out without affecting a quartz constituting member arranged in the vicinity even in the case the heated material is heated up to high temperatures. - 特許庁

半導体ウエハと絶縁基板とを結合させ、絶縁基板に半導体薄膜層を形成する半導体集積回路の製造方法において、高温熱処理を必要としない製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method requiring no high-temperature heat treatment, with respect to a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit, which couples a semiconductor wafer and a dielectric substrate and forms a semiconductor thin-film layer on the insulating substrate. - 特許庁

高温の熱処理中に発生するシャドウマスクの塑性変形、熱クリープ現象を緩和させるともに、動作時のシャドウマスクの架張力低下を防止できるカラー受像管を提供する。例文帳に追加

To relax generation of plastic deformation and a heat creep phenomenon of a shadow mask during high-temperature heat treatment, and to prevent a reduction in stretching force of the shadow mask in operation of a color picture tube. - 特許庁

また、上層の配線（５４、５５、５６、６２、６３）間の層間絶縁膜として、上記のような高温の熱処理を施さないＨＳＱ−ＳＯＧ膜５７を使用する。例文帳に追加

Also, an HSQ-SOG film 57 whose high temperature heat treatment is not carried out is used as an inter-film insulating film between wiring (54, 55, 56, 62 and 63) of an upper layer. - 特許庁

高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。例文帳に追加

To decrease the number of processing times at high temperature (600°C or higher) to realize further low temperature processing (600°C or lower), realizing simplified process to improve throughput. - 特許庁

高耐圧強度、高冷却効率、軽量化、大焼成空間を有し、しかも真空炉・減圧炉・加圧炉として使用でき、電気炉・高温ガス炉・ガスバーナー炉などとしても使用できる熱処理炉を実現する。例文帳に追加

To provide a heat treatment furnace which has high pressure resistance, high cooling efficiency, reduced weight, and large baking space and which is usable as a vacuum furnace, a depressurized furnace, or a pressurized furnace and is also usable as an electric furnace, a high-temperature gas-cooled reactor, a gas burner furnace, etc. - 特許庁

欠陥存在領域の直径ｄと、ウェーハの直径の比が０．８以下のウェーハを、高温熱処理することにより、欠陥が消滅する。例文帳に追加

The wafer, in which the ratio of the diameter (d) of a defect existing zone to the diameter of the wafer is 0.8 or less, is heat treated at high temperature, which results in the disappearance of the defects. - 特許庁

充電状態にある電池に高温熱処理を施した後、１．５Ｃ（２／３時間率）以上の高負荷定電流放電処理を少なくとも１回含む充放電処理を行う。例文帳に追加

After a high-temperature heat treatment is given to a battery in a charged state, charging/discharging is given to it including at least one time of a high-load constant-current discharging of not less than 1.5C (2/3 hour rate). - 特許庁