「AR or a」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

X is CR^aR^b, NR^c or the like, and A^1 to A^4 are CR^f or N (where R^a, R^b, R^c, R^f, R^1 to R^8 represent H or a substituent).例文帳に追加

ＸはＣＲ^ａＲ^ｂ，ＮＲ^ｃ等，Ａ^１〜Ａ^４はＣＲ^ｆまたはＮ（Ｒ^ａ，Ｒ^ｂ，Ｒ^ｃ，Ｒ^ｆ，Ｒ^１〜Ｒ^８はＨ又は置換基を表わす。） - 特許庁

In the formula, R^1 and R^2 are each hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or the like, and may be linked together to form a ring; Ar^1 is an aryl group or a heteroaryl group, and may form a nitrogen-containing heterocyclic ring together with nitrogen atom bonded thereto; and Ar^2 is an arylene group or a heteroarylene group.例文帳に追加

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。なお、互いに結合して環を形成してもよい。Ａｒ^１はアリール基またはヘテロアリール基を表し、それらに結合している窒素原子と共に含窒素複素環を形成してもよい。Ａｒ^２はアリーレン基またはヘテロアリーレン基を表す。） - 特許庁

In formula (1), Ar represents a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group which may be coupled through a bonding group, Cp represents a coupler residue and n represents an integer of 1, 2, 3 or 4.例文帳に追加

（一般式（１）中、Ａｒは結合基を介して結合しても良い置換または無置換の芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を、Ｃｐはカップラー残基を、ｎは１、２、３、４の整数を示す。） - 特許庁

The aromatic monomer is one or more kinds of aromatic monomers exemplified by formula (1): X^1-Ar-X^1 (wherein, Ar is an arylene group or a divalent heterocyclic group; X^1 is a chlorine, bromine or iodine atom), and the polyarylene contains a repeating unit represented by formula (2): -Ar-.例文帳に追加

芳香族モノマーは、例えば、式（１）Ｘ^１−Ａｒ−Ｘ^１（式中、Ａｒは、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、Ｘ^１は塩素、臭素又は沃素原子を表す。）で示される１種以上の芳香族モノマーであり、ポリアリーレンが、式（２）−Ａｒ−で示される繰り返し単位を含むポリアリーレンである。 - 特許庁

In the above formulas AR is an aromatic group, X is OH, an alkoxy or a halogen; R is an alkyl; Z is OH, an alkoxy or a halogen; n is 0, 1 or 2 integer.例文帳に追加

上式中、Ａｒは芳香族基であり、Ｘはヒドロキシル基、アルコキシ基またはハロゲンであり、Ｒはアルキルであり、Ｚはヒドロキシル基、アルコキシ基またはハロゲンであり、ｎは０、１または２の整数である。 - 特許庁

In the second agitation step, the mixture is further agitated at about room temperature for 60 min or lower at a revolution speed of 1 rpm or higher in a specified atmosphere (N2, Ar or air).例文帳に追加

第２攪拌工程では、室温付近の温度で、６０分以下、１ｒｐｍ以上の回転速度で、所定雰囲気（Ｎ_2 、Ａｒ又は空気）中において混合物をさらに攪拌する。 - 特許庁

The discharge gas is set to have a total pressure of 1.50×10^4 [Pa] or higher and 5.00×10^4 [Pa] or lower, Xe gas as a main component and He gas or Ar gas as an added component are contained and Ne gas is not contained.例文帳に追加

放電ガスには、全圧１．５０×１０^４［Ｐａ］以上５．００×１０^４［Ｐａ］以下に設定されており、主成分としてのＸｅガスと、添加成分としてのＨｅガスまたはＡｒガスとを含み、且つ、Ｎｅガスが含まれていない。 - 特許庁

The moisture permeable material comprises a polyarylene ether polymer having a structural component represented by general formula (1) in a molecular chain, wherein Y denotes a sulfone group or a ketone group; X denotes H or a monovalent cation species; and Ar denotes a divalent aromatic group which may have a substituent.例文帳に追加

分子鎖内に一般式（１）で示される構成成分を有するポリアリーレンエーテル系ポリマーを含有することを特徴とする透湿材料。 - 特許庁

This gas cleaning anion exchangeable filter is constituted by forming a layer comprising an anion exchangeable polymer, wherein a anion exchangeable group is introduced into a polymer having a repeating unit represented by -X-Ar-Y- (wherein, X and Y are each independently oxygen or sulfur; and Ar is a phenylene group or the like), on a base material filter.例文帳に追加

−Ｘ−Ａｒ−Ｙ−（Ｘ及びＹはそれぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子であり、Ａｒはフェニレン基等を示す。）で表される繰り返し単位を有する重合体に、アニオン交換基が導入されてなるアニオン交換ポリマーからなる層が、基材フィルタ上に形成されてなる気体清浄用アニオン交換性フィルタ。 - 特許庁

In the formula, R^a represents a direct bond or an arbitrary linking group; Ar represents an optionally substituted divalent aromatic group; and R^b represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a monovalent organic group.例文帳に追加

Ｒ^aは直接結合又は任意の連結基を表わし、Ａｒは置換されていても良い２価の芳香族基を表わし、Ｒ^bは水素原子、フッ素原子又は一価の有機基を表わす。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (i) a compound having a structure of formula (1) (where Ar is an aromatic ring; A is -NR3R4, -SR5 or -OR6; and R is H or a monovalent nonmetallic atomic group), (ii) a titanocene compound and (iii) a polymerizable compound.例文帳に追加

（ｉ）一般式（１）で表される構造を有する化合物、（ii）チタノセン化合物、並びに（iii）重合性化合物を含有することを特徴とする。 - 特許庁

The compounds of formula (III) : RNH_2 {wherein, R is -(CH_2)_nAr group [wherein, (n) is 3, 4 or 5; Ar is a heterocyclic group capable of having one or more substituents]} or their acid adducts.例文帳に追加

次式(III) ＲＮＨ_2 (III) （ここで、Ｒは−（ＣＨ_2 ）_n Ａｒ基（ここで、ｎは３、４又は５の数を表わし、Ａｒは１個以上の置換基を有し得る複素環式基を表わす。）を表わす。）の化合物又はそれらの酸との付加塩。 - 特許庁

A specific location Q or a specific area Ar where the operating condition of a vehicle 50 becomes a specific operating condition is previously set among respective locations or respective areas on a track 51 on which the vehicle 50 travels.例文帳に追加

車両５０が走行する走行路５１上の各地点または各領域の中から、車両５０の稼働条件が特定の稼働条件となる特定地点Ｑまたは特定領域Ａrが予め設定される。 - 特許庁

Wherein Ar represents phenyl, naphthyl, thienyl, indanyl or the like, which may be substituted by 1-3 halogen atoms, a 1-4C alkyl, a 1-4C haloalkyl, a 1-4C alkoxy, a 1-4C haloalkoxy or phenoxy.例文帳に追加

（式中、Ａｒは１〜３個のハロゲン原子、Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ１〜４ハロアルキル基、Ｃ１〜４アルコキシ基、Ｃ１〜４ハロアルコキシ基もしくはフェノキシ基で置換されてもよいフェニル基、ナフチル基、チエニル基、インダニル基等を表す。） - 特許庁

This porous sheet-formed material is characterized by containing the polyarylene ether-based polymer containing a constituting component expressed by general formula (1) [wherein, Y is sulfone or ketone; X is H or a monovalent cationic species; and Ar is a divalent aromatic group which may contain a substituent] in its molecular chain.例文帳に追加

分子鎖内に一般式（１）で示される構成成分を有するポリアリーレンエーテル系ポリマーを含有することを特徴とする、多孔性シート状材料。 - 特許庁

This polyarylate amide is characterized by having a spiro structure and/or a cardo structure in the main chain, and having at least one repeating unit represented by the general formula 3 (R is H or a substituent; Ar is a divalent bonding group).例文帳に追加

主鎖中にスピロ構造および／またはカルド構造を有し、一般式３で表わされる繰り返し単位を有するポリアリレートアミドからなる光学フィルム。 - 特許庁

In the formula, R_1 to R_10 each represents a hydrogen atom or a substituent such as an alkyl group and an aryl group; and Ar represents a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group.例文帳に追加

一般式［１］（式中、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、水素原子、アルキル基、アリール基等の置換基を表す。Ａｒは、置換、もしくは未置換の２価の芳香族炭化水素基を表す。） - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor, a photosensitive layer contains compounds represented by Formula (I) and Formula (II), and Ar^3 has an alkyl group having a carbon number of 2 or more and 4 or less as a substituent.例文帳に追加

感光層が式（Ｉ）及び式（II）で表される化合物を含有し、Ａｒ^３が炭素数２以上４以下のアルキル基を置換基として有する電子写真感光体。 - 特許庁

The objective aromatic diamine/aromatic dicarboxylic acid salt is expressed by the following general formula (1) and/or (2) (Z groups are each independently O or S; and Ar is a group of formulae (3)-(6)) and has a median diameter of 5-100 μm and a whiteness of ≥75.例文帳に追加

下記一般式（１）あるいは／および（２）で表され、メジアン径が5〜100μmであり、かつ白色度≧75であることを特徴とする芳香族ジアミン／芳香族ジカルボン酸塩。 - 特許庁

In formula, L is a n-valent organic residue, X is -NH-CO-, -CO-, -NH-SO2- or -O-CO-, Ar is an aromatic group or aromatic heterocyclic group, n is an integer ≥2, and n of-X-NHNH-Ar may be different from one another.例文帳に追加

（Ｉ）Ｌ（−Ｘ−ＮＨＮＨ−Ａｒ）_n ［式中、Ｌは、ｎ価の有機残基であり；Ｘは、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−ＳＯ_2 −または−Ｏ−ＣＯ−であり；Ａｒは、芳香族基または芳香族性複素環基であり；ｎは、２以上の整数であり；そして、ｎ個の−Ｘ−ＮＨＮＨ−Ａｒは、互いに異なっていてもよい］ - 特許庁

A quenched thin belt 14 obtained by a liquid quenching method is heat-treated (hydrogen reduction processing or annealing) in hydrogen gas or Ar gas.例文帳に追加

液体急冷法により急冷されて得られた急冷薄帯１４を水素ガス中又はＡｒガス中で熱処理（水素還元処理又はアニール処理）する。 - 特許庁

In the general formula (1), Ar is an aromatic group, R1 and R2 are hydrocarbon groups, W1 is an oxygen atom or sulfur atom, R3 is a hydrogen, hydrocarbon group or aromatic group, and m and n represent a molar ratio.例文帳に追加

（上記一般式（１）において、Ａｒは芳香族基。Ｒ１、Ｒ２は炭化水素基で、Ｗ１は酸素原子又は硫黄原子。Ｒ３は水素、炭化水素基又は芳香族基。ｍ、ｎはモル比を表す。） - 特許庁

In general formula (2), R^2 is an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group or an alkylsilyl group; Ar is a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring; and n is an integer of 0-9.例文帳に追加

一般式（２）中、Ｒ^２は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルシリル基を表し、Ａｒは、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環を表し、ｎは、０〜９の整数を表す。 - 特許庁

Further, any one of gas selected from a group consisting of Ar gas, N_2 gas and CO gas, a mixed gas including two or more gases selected from the group or the like can be used as the gas for physical etching.例文帳に追加

また、物理エッチング用のガスには、Ａｒガス、Ｎ_２ガス、及びＣＯガスからなる群の中から選択されるいずれか１つのガス又は２以上のガスを含む混合ガスなどを用いることができる。 - 特許庁

A group 18 element such as Ar and an impurity element used as a donor or acceptor are added to the semiconductor layer separated as an element, to form an n-type or p-type gettering site region.例文帳に追加

素子分離された半導体層に、Ａｒなどの第１８族元素と、ドナーまたはアクセプタとなる不純物元素とを添加し、ｎ型またはｐ型のゲッタリングサイト領域を形成する。 - 特許庁

(Ar represents a predetermined condensed polycyclic aromatic group, R represents a predetermined organic group, m1-m6 represent integers of 1 or more, and m7 represents an integer of 0 or more).例文帳に追加

（Ａｒは所定の縮合多環芳香族基を表し、Ｒは所定の有機基を表し、ｍ１〜ｍ６は１以上の整数を表し、ｍ７は０以上の整数を表す。） - 特許庁

Wherein, Ar^1 represents a substituted or un-substituted divalent aromatic group having 5-30 nuclear atoms, R^1 represents a saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon group, (m) represents integer of 2-15, (p) represents integer of 0-6, and (q) represents integer of 0-2.例文帳に追加

（Ａｒ^1は置換又は無置換の核原子数５〜３０の２価の芳香族基、Ｒ^1は飽和又は不飽和の炭素数１〜２０の１価の炭化水素基、ｍは２〜１５、ｐは０〜６、ｑは０〜２。） - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device, first, a second photoresist mask 14 is removed by melting using a solvent, and then the multilayer metal film is ion-milled using a mixed gas of Ar and N_2 or a mixed gas of Ar and O_2 as a mixed gas having a larger selectivity against the multilayer metal film (especially, Au) than against a Ti film 9.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、先ず、第２のフォトレジストマスク１４を溶剤を使用して溶解除去した後、Ｔｉ膜９に対して積層金属膜（主にＡｕ）の選択比の大きな混合ガスとしてＡｒとＮ_２の混合ガス、または、ＡｒとＯ_２の混合ガスのいずれかを使用して積層金属膜をイオンミリングする。 - 特許庁

In general formula (1), Ar is an aryl group or a hetero cyclic group; and X1-X5 are each carbon or nitrogen atom which can form an unsaturated hetero 5-member ring.例文帳に追加

前記一般式（１）中、Ａｒはアリール基又はヘテロ環基を表し、Ｘ^1〜Ｘ^5は、各々独立して、不飽和ヘテロ５員環を形成し得る炭素原子又は窒素原子を表す。 - 特許庁

The WC-Co fine-particulate cemented carbide includes VC and/or Cr_3C_2, and nitrogen and/or Ar in the bonding phase, in cemented carbide containing WC in a hard phase and Co in the bonding phase.例文帳に追加

ＷＣ−Ｃｏ系微粒超硬合金は、硬質相がＷＣ，結合相がＣｏからなる超硬合金において、ＶＣおよび／もしくはＣｒ_３Ｃ_２を含有し、その結合相に窒素および／もしくはアルゴンを含有する。 - 特許庁

An Ar partial pressure in the discharge gas is set at 0.1 to 10%, and moreover a full pressure of the discharge gas is set at 20 kPa or higher and 50 kPa or lower.例文帳に追加

放電ガスにおけるＡｒ分圧を０．１％以上１０％以下になるように設定し、且つ、前記放電ガスの全圧を２０ｋＰａ以上５０ｋＰａ以下に設定する。 - 特許庁

In this case, a space surrounded by the retaining substrates 4, 5 and the frame 6 is filled by an inert gas such as N_2, Ar or the like, or the space is evacuated.例文帳に追加

そして、保持基板４及び５並びに枠６により包囲された空間内は、Ｎ_２又はＡｒ等の不活性ガスで満たされるか、又は真空となっている。 - 特許庁

Ar_2BR^1 (I), Ar_3B^-R^1-X^+ (II) [wherein, Ar is an aryl or heterocyclic ring group, which may be substituted; R^1 is an alkyl or an aralkyl, which may be substituted; and X^+ is a counter cation].例文帳に追加

Ａｒ_2ＢＲ^1…（Ｉ）Ａｒ_3Ｂ^-Ｒ^1・Ｘ^+…（ＩＩ）（式中、Ａｒは、置換していてもよいアリール基または複素環基を表し、Ｒ^1は、置換していてもよいアルキル基またはアラルキル基を表し、Ｘ^+は、カウンターカチオンを表す。） - 特許庁

To provide a method for industrially advantageously producing an aromatic unsaturated compound represented by formula (4) (wherein Ar is an aromatic group which may be substituted or a hetero-aromatic group which may be substituted; Y is an electron-attracting group) in high atom economy by using a compound represented by formula (1) (wherein Ar is the same as described above) as a raw material.例文帳に追加

式（１）（式中、Ａｒは置換されていてもよい芳香族基または置換されていてもよいヘテロ芳香族基を表わす。）で示される化合物を原料として、式（４）（式中、Ａｒは上記と同一の意味を表わし、Ｙは電子吸引性基を表わす。）で示される芳香族不飽和化合物を、よりアトムエコノミーが高く、工業的にもより有利に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

This composition contains a polymer including a recurring unit expressed by formula (1) [wherein, Ar is independently an aryl which may have a substituent or a monovalent heterocyclic ring which may have a substituent; R^1 is independently a substituent; and (m) is independently 0 to 3 integer] and a low molecular phosphor material.例文帳に追加

下記式（１）：〔式中、Ａｒは独立に、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい１価の複素環基を表し、Ｒ^1は独立に、置換基を表し、ｍは独立に０〜３の整数を表す。 - 特許庁

The method for producing the heterocyclic aromatic compound having pentafluorophenyl group comprising a process of condensation of an organometallic compound having pentafluorophenyl group with a compound expressed by Ar-X or X-Ar-X (X is a halogen) is performed by coexistence with Ag_2O in the condensation process.例文帳に追加

ペンタフルオロフェニル基を有する有機金属化合物とＡｒ−ＸまたはＸ−Ａｒ−Ｘ（Ｘはハロゲンである）とを縮合させる工程を包含するペンタフルオロフェニル基を有する複素芳香族化合物を製造する方法において、当該縮合させる工程においてＡｇ_２Ｏを共存させる。 - 特許庁

Thereafter, a high-frequency voltage is applied between a shower head 12 arranged inside the processing chamber 2 and an electrode 5 while a second cleaning gas containing NF_3 and Ar is supplied into the processing chamber 2, F radical and Ar ion are generated, and remaining HfO_2 or the like is removed out of the processing chamber 2.例文帳に追加

その後、処理チャンバ２内にＮＦ_３及びＡｒを含んだ第２のクリーニングガスを供給するとともに処理チャンバ２内に配設されたシャワーヘッド１２と電極５との間に高周波電圧を印加し、Ｆラジカル及びＡｒイオンを発生させて、残りのＨｆＯ_２等を処理チャンバ２内から取り除く。 - 特許庁

The coating layer 16 contains a copolymerized polycarbonate resin, which is composed of a repeating unit represented by general formula (1) and a repeating unit represented by general formula (2) (wherein Ar is a divalent bisphenol compound residue or a divalent polyorganosiloxanephenol modified matter residue), as a main component.例文帳に追加

塗布層１６は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位、及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位からなる共重合ポリカーボネート樹脂を主成分として含有している。 - 特許庁

[Condition]: the coupling reaction is carried out in the co-presence of a catalytic amount of a bivalent nickel compound, a bidentate phosphorous ligand represented by formula (a) (wherein Ar is a phenyl group optionally substituted with one or a plurality of groups) and zinc.例文帳に追加

［条件］触媒量の二価ニッケル化合物、式（ａ）（式中、Ａｒは１又は複数個の基で置換されていてもよいフェニル基を表す。）で示される二座リン配位子及び亜鉛の共存下に実施するカップリング反応。 - 特許庁

A determination circuit 40 determines whether or not the object enters a radio transmission channel between a transmitting antenna At and a receiving antenna Ar, by sensing variations from the stationary mode in the received detection voltage of a receiving system circuit 20.例文帳に追加

判定回路４０は、受信系回路２０における受信検波電圧の定常時からの変化を検知することで、送信アンテナＡｔと受信アンテナＡｒとの間の無線伝送路に物体が入り込んだかどうかの判定を行う。 - 特許庁

Wherein R_1 represents a hydrogen atom or a methyl group, L_1 represents a phenylene group, L_2 represents a single bond or a divalent connection group, and Ar represents a monovalent group derived from a 8 or more C ring-condensed aromatic ring, a hetero-ring having the ring-condensed aromatic ring or two or more-connected benzene ring.例文帳に追加

（式中、Ｒ_１は水素原子、メチル基。Ｌ_１はフェニレン基。Ｌ_２は単結合又は２価の連結基。Ａｒは炭素数８以上の縮環型芳香環、芳香環が縮環したヘテロ環又は二個以上連結したベンゼン環から誘導される１価の基。） - 特許庁

In the formula (2), Ar is a divalent group having at least one aromatic ring or a divalent group having a heteroaromatic ring containing at least one hetero atom; and Y is a halogen atom.例文帳に追加

式（２）中、Ａｒは、少なくとも１つの芳香族環を有する二価基または、少なくとも１つのヘテロ原子を含む複素芳香族環を有する二価基を表し、Ｙは、ハロゲン原子を表す - 特許庁

This method for producing vitamin A comprises using a sulfone derivative represented by the formula (1) [wherein Ar is a (substituted) aryl group; and R1 is H or a protective group for hydroxyl group] as intermediate.例文帳に追加

一般式（１） （式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基、Ｒ^1は水素原子または水酸基の保護基を示す。）で示されるスルホン誘導体およびビタミンＡの製造法。 - 特許庁

This polyamide-imide resin composition includes a polyamide-imide resin and a multifunctional glycidyl compound, where the polyamide-imide is represented by general formula (1) (wherein Ar represents an aromatic ring having optionally a substituent other than a carboxy group; and n denotes an integer of 1 or more).例文帳に追加

本発明のポリアミドイミド樹脂組成物は、ポリアミドイミド樹脂と、多官能グリシジル化合物と、を含有し、ポリアミドイミド樹脂が下記一般式（１）で表される構造を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Alternatively, the formation of an oxide film by a thermal oxidation operation and its annealing operation in a gas, such as N_2, H_2, NH_4, Ar or the like after that are performed, the oxide film is formed by a deposition method, and the oxide film of a prescribed thickness may be conducted.例文帳に追加

熱酸化による薄い酸化膜の形成とその後のＮ_2 、Ｈ_2 、ＮＨ_3 、Ａｒなどのガス中でのアニールとをおこなった後、堆積法にて酸化膜を形成し所定の酸化膜厚としても良い。 - 特許庁